JPH0483591A - 写真処理廃液処理装置 - Google Patents

写真処理廃液処理装置

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Publication number
JPH0483591A
JPH0483591A JP19760890A JP19760890A JPH0483591A JP H0483591 A JPH0483591 A JP H0483591A JP 19760890 A JP19760890 A JP 19760890A JP 19760890 A JP19760890 A JP 19760890A JP H0483591 A JPH0483591 A JP H0483591A
Authority
JP
Japan
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waste liquid
hydrogen peroxide
photographic processing
temperature
tank
Prior art date
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Pending
Application number
JP19760890A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshiya Ohara
佳也 大原
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP19760890A priority Critical patent/JPH0483591A/ja
Publication of JPH0483591A publication Critical patent/JPH0483591A/ja
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  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
  • Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
  • Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は写真処理廃液処理装置に関し、更に詳しくは、
写真処理廃液の化学的酸素要求量(COD)を低減する
ための写真処理廃液処理装置に関する。
〔従来の技術〕
写真の現像処理によってもたらされた廃液は、公害防止
の点からそのまま河川等に廃棄することができないため
、廃液のCOD負荷を低減してから廃棄する必要がある
写真処理廃液は、写真処理工程で排出される現像廃液、
定着廃液、漂白廃液又は漂白定着廃液あるいは他の液浴
からの廃液を含んでおり、有機、無機のCOD寄与成分
、銀、鉄などの重金属化合物、高濃度の塩類、特に臭化
物イオンや沃化物イオンを含んでいる。そして、環境汚
染要因としては、C0DSBOD、重金属、場合により
pH。
フェノール類などがある。したがって、その無害化処理
はそれぞれの要因に対して有効な手段により行われなけ
ればならない。
写真処理廃液を処理する方法としては、例えば特開昭6
2−118346号公報に記載の加熱濃縮法、特開昭6
3−116796号公報に記載の電解酸化法、特公昭5
3−43271号公報に記載のイオン交換法、特開昭5
2−139264号、同53−2944号、特公昭60
−17595号公報に記載の化学酸化法がある。
化学酸化法として、第一鉄塩と過酸化水素によるフェン
トン法が知られており、またその改良法として、銅イオ
ンと鉄イオンを触媒として酸化分解反応を促進させる方
法(例えば特開昭55−35976号、特公昭60−1
7595号)も提案されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、フェントン法及び特開昭55−3597
6号、特公昭60−17595号等に記載の過酸化水素
により写真処理廃液の酸化処理を行った場合、廃液中に
過酸化水素水を滴下して行くうちに、過酸化水素と被酸
化物との反応熱により廃液の温度が上昇するので、廃液
が突沸する危険がある。いわゆるミニラボと呼ばれる小
規模現像所において生じた写真処理廃液は、小規模現像
所において処理されることが好ましいが、処理装置の危
険性は特に問題である。
また、写真処理廃液中には定着液成分や漂白定着液成分
として用いられるチオ硫酸アンモニウムや亜硫酸塩が含
まれており、廃液が高温になると、亜硫酸ガス、硫化水
素、アンモニアガス等の有害ないし極めて悪臭性のガス
が発生し大気汚染の原因となる。
更に、廃液が臭化物イオンあるいは沃化物イオンを含有
している場合、特に臭化物イオン濃度が0.1ミ!Jモ
ル/β以上あるいは沃化物イオン濃度が0.01ミ!7
モル/1以上含む廃液を酸化処理すると、臭化物イオン
あるいは沃化物イオンがヒドロキシラジカルの酸化反応
を阻害し充分な酸化分解が行われない。
本発明の目的は上記問題点を解消することにあり、危険
を防止しながらも効率良く公害負荷を低減することがで
きる写真処理廃液処理装置を提供することにある。
〔課題を解決するための手段及び作用〕本発明に係る上
記目的は、写真処理廃液に鉄粉及び過酸化水素を加えて
被酸化性物質を酸化処理する写真処理廃液処理装置にお
いて、廃液の温度を検出する温度検出手段と、過酸化水
素の単位時間当たりの供給量を調整する可変供給手段と
、検出した廃液温度が高くなるほど過酸化水素の単位時
間当たりの供給量が少なくなるように前記可変供給手段
の作動を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする
写真処理廃液処理装置により達成される。
すなわち、廃液温度が高くなる傾向にあれば過酸化水素
の単位時間当たりの供給量を少なくなるように調整し、
酸化反応の急激な進行を防止することで、廃液の温度が
急激に上昇することはなく、廃液の突沸を防止すること
ができる。そして、廃液の温度に応じて適正な過酸化水
素が供給されるので、危険のない範囲で効率の良い酸化
処理を行うことができる。したがって、小規模現像所に
おいても安全な廃液処理を行うことができる。
また本発明に係る上記目的は、写真処理廃液に鉄粉及び
過酸化水素を加えて被酸化性物質を酸化処理する写真処
理廃液処理装置において、過酸化水素により酸化された
廃液を更に酸化処理する電解装置を設け、該電解装置内
の廃液を冷却する冷却手段を備えたことを特徴とする写
真処理廃液処理装置により達成される。
すなわち、過酸化水素による酸化処理の反応効率を高く
維持しながら廃液の温度上昇を防止し、電解装置により
2次酸化処理を行うことにより、過酸化水素によって酸
化されなかったキレート剤等の被酸化物が電解装置によ
り酸化されるので、安全でしかも効率の良い酸化処理を
行うことができる。更に、電解装置内の廃液を冷却する
ことにより、電解装置内の廃液が危険温度に上昇するこ
とはなく、したがって電解装置から有害ないし極めて悪
臭性のガスの発生を防止することができ、危険を伴わず
に廃液処理を行うことができる。
更に本発明に係る上記目的は、写真処理廃液に鉄粉及び
過酸化水素を加えて被酸化性物質を1次酸化処理した後
、引き続いて前記廃液を電解装置により2次酸化処理す
る写真処理廃液処理装置において、過酸化水素による酸
化中の廃液温度を検出する温度検出手段と、過酸化水素
の単位時間当たりの供給量を調整する可変供給手段と、
検出し。
た廃液温度が高くなるほど過酸化水素の単位時間当たり
の供給量が少なくなるように前記可変供給手段の作動を
制御する制御手段と、前記電解装置内の廃液を冷却する
冷却手段とを備えたことを特徴とする写真処理廃液処理
装置により達成される。
すなわち、過酸化水素による1次酸化中の廃液温度が高
くなる傾向にあれば過酸化水素の単位時間当たりの供給
量を少なくするように調整することにより、廃液の酸化
反応が急激に進行することはなく、廃液の突沸を防止す
ることができる。また、過酸化水素による1次酸化後に
廃液を電解酸化することにより、効率の良い酸化処理を
行うことができる。更に、電解装置内の廃液を冷却する
ことにより、電解装置内の廃液が危険温度に上昇するこ
とはなく、したがって電解装置から有害ないし極めて悪
臭性のガスの発生を防止することができ、危険を伴わず
に廃液処理を行うことができる。
本発明において、過酸化水素による廃液の酸化処理によ
り、廃液中の銀の回収もできる。これは、廃液中にハイ
ポ銀として存在している銀が、鉄との金属置換で銀原子
として析出したり、チオ硫酸イオンの分解によって硫化
銀として析出しているものと思われる。したがって、本
発明において、過酸化水素による酸化処理を、銀の回収
処理と被酸化性物質の酸化処理との2段階に分けて行う
ことが好ましい。ここで、銀回収のために過酸化水素水
により廃液を酸化処理するときには、廃液のpHを5〜
7.5に調整することが好ましく、次いで過酸化水素に
より被酸化性物質を酸化処理するときには、廃液のpH
を2〜5に調整することが好ましい。
本発明における被酸化性物質としては写真処理廃液中に
多量に存在しているものであり、例えば、亜硫酸塩、チ
オ硫酸塩、キレート剤、現像主薬、現像抑制剤などであ
る。
以下に写真処理廃液について説明する。
写真処理廃液は写真処理液成分を主成分としている。ま
た写真処理液には、そのほか写真処理過程で生成した現
像主薬の酸化体、硫酸塩、ノ\ライ゛ドなどの反応生成
物や、感光材料から溶は出した微量のゼラチン、界面活
性剤などの成分が含まれている。
写真処理液はカラー処理、黒白処理液、製版作業に伴う
減力液、現像処理タンク洗浄液等があり、また写真処理
液は現像液、漂白液、定着液、安定化液等からなる。
多(のカラーペーパー用現像液はカラー現像主薬、亜硫
酸塩、ヒドロキシルアミン塩、炭酸塩、硬水軟化剤等と
共にアルキレングリコール類やベンジルアルコール類を
含んでいる。一方、カラーネガ用現像液、カラーポジ用
現像液、一部のカラーペーパー用現像液は、これらのア
ルコールを含んでいない。本発明は、これらアルコール
類を含まないか、あるいは含んでいても1重量%以下の
廃液に対して高い電流効率の維持又は低いCODレベル
までの酸化能を発揮するので、従来の装置に比較して一
段と有利である。
カラー現像液は、通常、芳香族第一級アミンカラー現像
主薬を含有する。それは主にp−フ二二レンジアミン誘
導体であり、代表例はN、 N−ジエチル−p−フェニ
レンジアミン、2−アミノ−5−ジエチルアミノトルエ
ン、2−メチル−4−〔N−エチル−N−(β−ヒドロ
キシエチル)アミノコアニリン、N−エチル−N−(β
−メタンスルホンアミドエチル)−3−メチル−4−ア
ミノアニリンである。また、これらのp−フ二二レンジ
アミン誘導体は硫酸塩、塩酸塩、亜硫酸塩、p−)ルエ
ンスルホン酸塩等の塩である。該芳香族第一級アミン現
像主薬の含有量は現像液11当たり約0.5g〜約10
gの範囲である。
カラー現像液中には、保恒剤として種々のヒドロキシル
アミン類を含んでいる。ヒドロキシルアミン類は置換又
は無置換い、¥れも用いられる。置換体の場合はヒドロ
キシルアミン類の窒素原子が低級アルキル基によって置
換されているもの、特に2個のアルキル基(例えば炭素
数1〜3)によって置換されたヒドロキシルアミン類で
ある。ヒドロキシルアミン類の含有量はカラー現像液1
1当たり0〜5gである。
また黒白現像液中には、1−フェニル−3−ピラゾリド
ン、1−フェニル−4−ヒドロキシメチル−4−メチル
−3−ピラゾリドン、N−メチル−p−アミノフェノー
ル及びその硫酸塩、ヒドロキノン及びそのスルホン酸塩
などが含まれている。
カラー及び黒白現像液には保恒剤として、亜硫酸ナトリ
ウム、亜硫酸カリウム、重亜硫酸ナトリウム、重亜硫酸
カリウム、メタ亜硫酸ナトリウム、メタ亜硫酸カリウム
等の亜硫酸塩や、カルボニル亜硫酸付加物を含有するめ
が普通で、これらの含有量は0〜5g/βである。その
他保恒剤として、カラー及び黒白現像液にはN、 N−
ジアルキル置換ヒドロキシルアミンとトリエタノールア
ミンなどのアルカノールアミンの組合せも用いられる。
カラー及び黒白現像液は、pH9〜12である。
上記pHを保持するためには、各種緩衝剤が用いられる
。緩衝剤としては、炭酸塩、リン酸塩、ホウ酸塩、四ホ
ウ酸塩、ヒドロキシ安息香酸塩、グリシン塩、N、N−
ジメチルグリシン塩、ロイシン塩、ノルロイシン塩、グ
アニン塩、3.4−ジヒドロキシフェニルアラニン塩、
アラニン塩、アミノ酪酸塩、2−アミノ−2−メチル−
1,3−プロパンジオール塩、バリン塩、プロリン塩、
トリスヒドロジアミノメタン塩、リシン塩などを用いる
ことができる。特に炭酸塩、リン酸塩、四ホウ酸塩、ヒ
ドロキシ安息香酸塩は、溶解性やpH9,0以上の高p
H領域での緩衝能に優れ、現像液に添加しても写真性能
面への悪影響(カブリなど)がなく、安価であるといっ
た利点を有し、これらの緩衝剤が多く用いられる。該緩
衝剤の現像液への添加量は通常0.1〜1モル/1であ
る。
その他、現像液中にはカルシウムやマグネシウムの沈澱
防止剤として、あるいは現像液の安定性向上のために添
加される、各種牛レート剤が含まれる。
その代表例はニトリロ三酢酸、ジエチレントリアミン五
酢酸、ニトリロ−N、N、N−)リメチレンホスホン酸
、エチレンジアミン−N、N、N’N′−テトラメチレ
ンホスホン酸、1.3−ジアミノ−2−プロパツール四
酢酸、トランスシクロヘキサンジアミン四酢酸、1,3
−ジアミノプロパン四酢酸、2−ホスホノブタン−1,
2,4−トリカルボン酸、1−ヒドロキシエチリデン−
1゜1−ジホスホン酸などである。これらのキレート剤
は必要に応じて2種以上併用されることもある。
現像液は、各種の現像促進剤を含有する。現像促進剤と
しては、チオエーテル系化合物、p−フェニレンジアミ
ン系化合物、4級アンモニウム塩類、p−アミンフェノ
ール類、アミン系化合物、ポリアルキレンオキサイド、
1−フェニル−3−ビラゾリドン類、ヒドラジン類、メ
ソイオン型化合物、チオン型化合物、イミダゾール類等
である。
また、現像液中には、カブリ防止の目的で、臭素イオン
を含有することが多いが、塩化銀を主体とする感光材料
に対しては臭素イオンを含まない現像液を用いることも
ある。その他、無機カブリ防止剤としてNaCAやK(
1などの塩素イオンを与える化合物を含有してもよい。
また必要に応じて各種有機カブリ防止剤を含有してもよ
い。有機カブリ防止剤としては、例えば、アデニン類、
ベンズイミダゾール類、ベンズトリアゾール類及びテト
ラゾール類を含有していてもよい。これらのカブリ防止
剤の含有量は現像液11当たり0゜010〜2gである
。これらのカブリ防止剤は処理液中に感光材料中から溶
出し、現像液中に蓄積するものも含まれる。
また、必要に応じて、アルキルホスホン酸、アリールホ
スホン酸、脱脂酸カルボン酸、芳香族カルボン酸等の各
種界面活性剤を含有していてもよい。
写真処理において、現像の後に通常漂白処理され、漂白
処理は定着処理と同時に一浴漂白定着(ブリックス)で
行われることもある。このような処理廃液にも本発明方
法を適用できる。漂白液には、酸化剤として鉄(II[
)又はCo (I[I)のEDTA、ジエチレントリア
ミン五酢酸、ニトリロトリ酢酸、1.3−ジアミノ−プ
ロパン四酢酸塩、ホスホノカルボン酸塩そのほか過硫酸
塩、キノン類などが含まれている。そのほか、臭化アル
カリ、臭化アンモニウムなどの再ハロゲン化剤、硼酸塩
類、炭酸塩類、硝酸塩類を適宜含有する場合もある。定
着液や漂白定着液にはチオ硫酸塩(ナトリウム塩、アン
モニウム塩)、酢酸塩、ホウ酸塩、アンモニウム又はカ
リ明ばん亜硫酸塩などを含有していてもよい。
本発明装置により処理を行なうにあたっては、長期的に
安定な作業が行えるように、廃液中に必要に応じて既知
の防ばい剤、防菌剤を使用することができる。
本発明により写真処理廃液を処理する場合、廃液の突沸
及び温度過上昇を防止して効率良く酸化処理を行うこと
ができるので、いわゆるミニラボと呼ばれる小規模の現
像所、オフィスドキュメンテーションの場でのマイクロ
フィルムの処理、印刷、製版所、カラー複写機などのよ
うな小規模の写真処理場において実施するのに適してい
る。
本発明方法は次のような廃液に適用できる。
i)印刷製版工場:黒白・カラー現像液、定着液、漂白
液、エツチング液、減力液など種々の排出液。
これらを−括処理できる。
li)カラー現像所:黒白・カラー現像液、定着液、漂
白液、漂白定着液、画像安定浴、その他の処理浴の排出
液。
とりわけ、いわゆるミニラボとかサテライトラボといわ
れる小規模ラボには好適である。
好ましい実施態様は■上記の各浴からの排出液を集めて
処理し、水洗水はそのまま流す。■向流多段の節水型水
洗や安定化浴に水洗を兼ねさせる方式を採っている場合
は各排出液を全部混合して処理できる。
iii >事務所、店頭:マイクル1200 (商品名
、富士写真フィルム側腹)のようなマイクロフィルム用
プリンタプロセッサやリーダープリンタを使用してドキ
ュメンテーションを行っている事務所、製図等から図面
コピーをプリンタプロセッサで行っている設計事務所、
カラーコピーを作成したり、即席プリントの店頭写真撮
影を行っている店頭のプロセッサ等からの排出液。
〔実施態様〕
以下、添付図面を参照して本発明の一実施態様を説明す
る。ただし本発明は本実施態様のみに限定されない。
第1図は本発明実施態様の写真処理廃液処理装置の概略
構成図である。
写真処理廃液処理装置は過酸化水素により酸化処理が行
われる1次酸化槽2と、電気分解により酸化処理が行わ
れる2次酸化槽4とを備えている。
1次酸化槽2は廃液、過酸化水素水、硫酸、消石灰(懸
濁液)、消泡剤、凝集剤をそれぞれ収容したタンク6.
8.10.12,3..5に接続され、各タンク6、 
8. 10. 12. 3. 5内の液は処理工程に従
ってポンプ14.16,18,20.15.17により
1次酸化槽2内に供給される。また、1次酸化槽2は、
鉄粉、銅被膜鉄粉をそれぞれ収容したホッパー22.2
4と接続され、ホッパー22.24内の鉄粉及び銅被膜
鉄粉は、処理工程に従ってモータ25.27により駆動
される供給手段26.28により1次酸化槽2内に供給
される。
なお、消石灰を収容するタンク12には、図示しないが
攪拌部材が設けられ、消石灰を懸濁状態にして1次酸化
槽2へ供給できるようになっている。
1次酸化槽2内には、廃液の温度を検出するサーミスタ
30及びpHを検出するpHセンサ32が設けられ、サ
ーミスタ30及びpHセンサ32はCPU等の制御装置
34の入力側に接続されている。また、制御装置34の
出力側は、ポンプ16.18.20の駆動手段36,3
8.40に接続されている。そして、制御装置34はサ
ーミスタ30により検出した廃液の温度に基づいて過酸
化水素水の単位時間当たりの供給量を調整するように駆
動手段36を制御し、またpHセンサ32により検出し
た廃液のpHに基づいて硫酸及び消石灰の供給動作を制
御する。
過酸化水素水の供給量を調整するには、例えばポンプ1
6をパルスポンプにより構成し、駆動パルスを制御する
ことによりポンプの吐出量を容易に調整することができ
る。また、タンク8から滴下供給する場合には、弁等の
シャッタ機能を有する手段で流路を適宜開閉することに
より、滴下量を調整することができる。また、過酸化水
素水の供給量を調整するには、公知の流体可変供給手段
を用いることができる。
過酸化水素水は、廃液温度が高くなるほど単位時間当た
りの供給量が少なくなるように、供給量を調整される。
制御装置34は記憶手段及び演算手段を有し、廃液温度
に応じた過酸化水素水の単位時間当たりの供給量は、メ
モリに記憶されていることが好ましい。また、廃液温度
に応じた過酸化水素水の単位時間当たりの供給量を、演
算手段により温度検出ごとに演算してもよい。
過酸化水素水(1−7%)の単位時間当たりの供給量y
と廃液温度Xとの関係は下式(1)〜(4)で表される
範囲で設定することができる。なお、廃液のCOD値を
a (ppm) 、廃液量をV(1)とする。
y>0 20≦X≦80 好ま七くは、下式(5)〜(8)で表される範囲に設定
される。
y>0 20≦X≦80 ここで、m(0,5≦m≦1)は廃液量に対する補正数
である。廃液量が多くなるにつれて廃液の放熱量は低く
なるので、廃液量が倍になったカ゛らといって比例的に
過酸化水素水の供給量を倍にすると突沸の危険がある。
したがって、例えばV=1.5のときはm=1.0 、
V=4のときはm=0.7のように設定する。mの最適
値は予備実験で求めることができる。
また、n (0≦n≦1)はCOD値に対する補正数で
ある。例えばα=30000のときはn=l、Q、α=
10000のときはn=0.4、α=90000のとき
はn=0.6のように設定する。nの最適値は予備実験
で求めることができる。
一例としてCOD値α=30000 p p m c+
)廃液1500−の処理時の、廃液の温度に応じた過酸
化水素水の単位時間当たりの供給量を第2図に示す。
上記廃液の酸化処理における、過酸化水素水の単位時間
当たりの供給量は、第2図において直線a、  Cで囲
まれた範囲で設定され、好ましくは直線す、  cで囲
まれた範囲で設定される。
廃液の温度に応じて過酸化水素水の単位時間当たりの供
給量を調整することにより、過酸化水素水による廃液の
酸化反応速度を調整できるので、廃液の温度が急激に上
昇することはなく、廃液の突沸を防止することができる
なお、図示しないが制御装置34の出力側には他のポン
プ、弁、鉄粉供給手段、攪拌部材、ファン等の稼働部材
の駆動手段が接続され、制御装置34は処理工程に従っ
てすべての稼働部材の作動を制御するようになっている
1次酸化槽2内には、モータ41により駆動されて廃液
を攪拌する攪拌部材42が設けられている。また、1次
酸化槽2には蓋44が設けられており、蓋44には廃液
の酸化処理により発生したガスを1次酸化槽2の外へ排
出するためのファン46が設けろれている。そしてファ
ン46の上流側又は下流側にはガス吸着フィルタ48が
設けられており、廃液から発生する恐れのある亜硫酸ガ
ス、硫化水素、アンモニア等の有害成分を吸着できるよ
うになっている。
また1次酸化槽2には槽内を洗浄するための洗浄水がパ
イプ50により適宜供給されるようにな−っている。パ
イプ50は水道管と直接接続され、弁51を開くことに
より洗浄水を1次酸化槽2内に供給するようになってい
る。
1次酸化槽2は更に、処理後の廃液の上澄液を濾過する
フィルタ52.78、処理後の廃液の沈澱物から主に銀
を濾別するフィルタ56及び残渣を濾別するフィルタ5
4に接続されている。1次酸化槽2と各フィルタ52.
54.56.78との間には弁53,55.57.77
が設けられ、弁53.55.57.77を選択して開く
ことにより、1次酸化槽2内の廃液の排出流路を変更す
るようになっている。
銀濾別フィルタ56及び上澄液濾別フィルタ78は濾液
−時収容タンク58に接続され、濾液−時収容タンク5
8は1次酸化槽2に接続されており、銀濾別後の濾過廃
液はポンプ59により濾液−時収容タンク58から1次
酸化槽2内に回収されるようになっている。また、1次
酸化槽2からオーバーフローした廃液も濾液−時収容タ
ンク58に供給されるようになっている。
上澄液濾過フィルタ52及び残渣濾別フィルタ54は、
2次酸化槽4に供給する廃液を収容するための濾液タン
ク60に接続されている。そして、上澄液濾過フィルタ
52及び残渣濾別フィルタ54により濾過された廃液は
濾液タンク60内に供給される。
濾液タンク60は2次酸化槽4に接続され、ポンプ61
により2次酸化槽4へ供給された廃液は再び濾液タンク
60に回収されて、両者の間を循環するようになってい
る。更に濾液タンク60と2次酸化槽4との間の循環経
路、好ましくは循環経路中の2次酸化槽4の上流には濾
液冷却手段としての放熱フィン62及びファン64が設
けられている。したがって、2次酸化槽4において電解
酸化により廃液の温度が上昇しても、廃液は循環中に放
熱フィン62及びファン64により冷却されるので、2
次酸化槽4内の廃液が高温まで上昇することはない。
2次酸化槽4内には、陽極66及び陰極68が設けられ
ており、これらは直流電源に接続されている。例えば陽
極66は酸化鉛からなり、陰極68はステンレスからな
る。
2次酸化槽4には排出パイプ70が設けられており、排
出パイプ70には濾過フィルタ72、ポンプ74、弁7
6が設けられている。そして、電解酸化後の廃液は弁7
6を開いてポンプ74を作動させることにより、濾過フ
ィルタ72を通って排出されるようになっている。
(以下余白) 〔実施例〕 以下実施例により、本発明を更に詳しく説明する。
実施例1 廃液A 市販の撮影済多層カラーネガフィルム5HG−100,
5HG−200,5HG−400,5HGH−1600
、REALA (以上商品名、富士写真フィルム■製)
 、GOLD−100、GOLD−200、GOLD−
400、GOLD−1600、エフター25、エフター
125、エフター−1000(以上商品名、イーストマ
ンコダック社製、GX−100、GX−200、GX−
400、GX−3200、cxm−ioo、GX−10
0M(以上商品名、コニカ■製)を特に区別することな
く、各種数り混ぜて、順次ミニラボ用の小型カラーネガ
フィルムプロセッサで処理した。
以下に処理工程と処理の時間、温度、補充量を示す。
工程   時間  処理温度 補充量 処理槽容量発色
現像 3分15秒 37.8℃ 16rrf    I
H漂   白   30秒   38.0  ℃   
5mR5I!定  着  1 分   38.0  ℃
  15mf!    10I!水 洗(1)  ’ 
20秒  38.0℃  −51水 洗(2)   2
0秒  38.0℃ 20mf    5f安  定 
 20秒   38.0  ℃  20m1    5
1乾   燥   1 分     55  ℃補充量
は35mm幅1m当たり 水洗は(2)から(1)への向流方式 以下に処理液の組成を示す。
(発色現像液) 母液(g)  補充液(g) ジエチレントリアミン 五酢酸        1.0    1.11−ヒド
ロキシエチリデン− 1,1−ジホスホン酸   3.0    3.2亜硫
酸ナトリウム    4.0    4.9炭酸カリウ
ム      30.6   30.0臭化カリウム 
     1.4 ヨウ化カリウム ヒドロキシルアミン 硫酸塩 4−(N−エチル−N−β− ヒドロキシエチル アミノ)−2−メチル アニリン硫酸塩 水を加えて pH 1、5mg 2.4 4.5 1.0! 10、05 3.6 7.2 1.0f 10、10 (漂白液) 母液軸) 補充液(g) 1.3−ジアミノプロパン 四酢酸第二鉄アンモニ ラム−水塩     144.0 1.3−ジアミノプロパン 四酢酸        2.8 臭化アンモニウム    84.0 アンモニア水(27%)    10.0硝酸アンモニ
ウム    17.5 206、0 4.0 120、0 1.8 17.5 酢酸(98%) 水を加えて pH (定着液) 51.1 1、0 ! 4.3 73.0 1.01 3.4 母液、補充液共通(g) エチレンジアミン四酢酸 二ナトリウム塩 亜硫酸ナトリウム 重亜硫酸ナトリウム チオ硫酸アンモニウム水溶液 (70%重量/容R) 水を加えて pH 1,7 14,0 10,0 320、0 1,01 7,2 (水洗液) 母液、補充液共通 イオン交換水(カルシウム、 3ppm以下)を使用。
pHは6〜8.5 マグネシウム各々 このフィルムプロセッサの現像タンクと定着タンクと水
洗タンクとからのオーバーフロー液を混合し写真処理廃
液Aとする。
廃液B また、市販のカラーペーパー(フジカラーペーパー5U
PERFA、富士写真フィルム■製)にカラーネガから
のプリント焼付けを行ってミニラボ用のペーパープロセ
ッサで処理した。
以下に処理工程と処理の時間、温度、補充量を示す。
工程  時間  温度  処理槽容量 補充量本発色現
像 45秒  35℃   31  200d/m’漂
白定着 45秒 30〜36℃  3β   215 
mf / rn’水 洗(1)  30秒 30〜37
℃  2β水 洗(2)  30秒 30〜37℃  
2β水 洗(3)  30秒 30〜37℃  21’
    248m/m’乾   燥 60秒 70〜8
0℃ 零 補充量は、感光材料の乳剤面の面積l mf当たり
の液量 水洗水の補充方式は、水洗槽(3)に補充し、水洗槽(
3)のオーバーフロー液を水洗槽(2)へ導入し、更に
水洗槽(2)のオーバーフロー液を水洗槽(1)へ導入
する、いわゆる向流補充方式とした。
また、各処理液の温度は、実験期間中、上記表中の温度
に保持し続けた(連続温調)。
各処理液の組成は、以下の通りである。
カラー現像液 母液(g)  補充液(g) エチレンジアミン− N、 N、 N、 N−テトラメチレンホスホン酸  
     1.5   1.5トリエチレンジアミン (1,4−ジアザビシクロ (2,2,2)オクタン>      5.0    
5.0塩化ナトリウム      1.4 炭酸カリウム       25.0   25.ON
−エチル−N−(β−メタン スルホンアミドエチル) −3−メチル−4−アミノ アニリン硫酸塩 ジエチルヒドロキシル アミン        4.2 蛍光増白剤(4,4−ジアミノ スチルベン系) 水を加えて pH(25℃) 5.0 2.0    2.5 1000rn11000rd 10.05   10.45 漂白定着液(補充液は母液と同じ) 7.0 6.0 チオ硫酸アンモニウム(70%) 亜硫酸ナトリウム エチレンジアミン四酢酸鉄(III) アンモニウム エチレンジアミン凹酢酸 二ナトリウム 臭化アンモニウム 氷酢酸 水を加えて pH(25℃) 母液(g) 1000  if 5.40 水洗水 母液と補充液とも イオン交検水(カルシウム、マグネシウム各々・3pp
m以下)を使用。
pHは6〜8.5 このペーパープロセッサの現像タンクと定着タンクと水
洗タンクからのオーバーフロー液を混合して写真処理廃
液Bとした。
写真処理廃液Aと写真処理廃液Bを3=7の割合で混合
し試験液とした。この試験液のpHは8゜4、またco
Dx、=30400ppm (ただしC0DX、、は過
マンガン酸カリウム法によるCOD測定値を表す)であ
った。
処理工程 (1)ポンプ14により廃液タンク6内の廃液1500
−を1次酸化槽2に充填して攪拌を開始する。
(2)pHセンサ32により廃液のpHを検出し、制御
装置34(pHスタット)によりポンプ18の作動を制
御してIN硫酸を添加してpHを5に調整する。
(3)ポンプ15によりタンク3内の消泡剤(例えば富
士写真フィルム側腹消泡剤)を2−添加する。
(4)供給手段26を作動させてホッパー22内の鉄粉
を6g添加する。
(5)ポンプ16によりタンク8内の17%過酸化水素
水を330−添加する。
〔6)過酸化水素水の添加終了後、攪拌部材42を5分
間作動させて廃液を攪拌する。
(7)攪拌終了後、10分間銀を沈降させ弁77を開い
て廃液の上澄液をフィルタ78により濾過する。
(8)上澄液の濾過後、弁57を開いて沈澱物をフィル
タ56により濾過する。
(9〕  フィルタ78.56により濾過された濾液は
濾液−時収容タンク58に供給された後、ポンプ59に
より再び1次酸化槽2内に回収される。
Q[)  攪拌部材42を作動させて廃液を攪拌し、p
Hセンサ32により廃液のpHを検出しながら制御装置
34(pHスタット)によりポンプ18の作動を制御し
てタンク10内のIN硫酸を添加してpHを2に調整す
る。
0υ ポンプ15を作動させ消泡剤を2rd添加する。
C21供給手段28を作動させ、ホッパー24内の銅被
膜鉄粉(例えば和光紬薬■製コーチロン)を9g添加す
る。
α′!  ポンプ16を作動させタンク8内の17%過
酸化水素水を990−添加する。
C0過酸化水素水の添加後、攪拌部材42を作動させて
廃液を30分間攪拌し、pHセンサ32により廃液のp
Hを検出しながら制御装置34(pHスタット)により
ポンプ20の作動を制御してタンク12内の消石灰を添
加してpHを7に調整する。
0ω ポンプ17を作動させ、タンク5内の凝集剤(例
えば大日本インキ■製 Dic  A−500)0.1
%溶液を20m1l!添加する。
2α0 廃液中の凝集物を10分間沈降させた後、弁5
3を開いて廃液の上澄液をフィルタ52により濾過し、
次いで弁55を開いて沈澱物をフィルタ54により濾別
する。上澄液及び沈澱物の濾液は濾液タンク60内に供
給される。
Q71  濾液タンク60内の濾液を2次酸化槽(電解
槽)4内に供給するとともに、ポンプ61により濾液タ
ンク60と2次酸化槽(電解槽)4との間で廃液を循環
させる。廃液の循環時、ファン64が作動して放熱フィ
ン62に送風して放熱フィン62を冷却する。同時に、
2次酸化槽(電解槽)4内の電極66、.68に通電し
く120AX6〜7v)、電解酸化処理を3時間行う。
側 3時間の電解酸化処理後、弁76を開いて更にポン
プ74を作動させ、2次酸化槽(電解槽)4内の廃液を
排出する。このとき、廃液はフィルタ72により濾過さ
れる。
なお、工程0■における過酸化水素水の単位時間当たり
の供給量と、廃液の温度、全量供給に要した時間は表1
の通りである。
表1 表2 結果 過酸化水素水の全供給時間を30分以内に収めようとす
ると、一定の供給量(30ml/分)では反応が進行す
るにつれて廃液が突沸してしまい、また廃液が突沸しな
いように、過酸化水素水の供給量を低くすると(20−
/分)、全供給時間が長く(50分)なってしまう。こ
れに対し、廃液の温度に応じて過酸化水素水の単位時間
当たりの供給量を調整すると、突沸することなく30分
で全量を供給できた。
また、工程Q71においてファン64を作動させずに電
解酸化処理を行ったところ、廃液温度が90℃を超え、
廃液の蒸発が激しく悪臭も強かった。
更に電極66.68の劣化も激しかった。これに対し、
ファン64により廃液を冷却しながら電解酸化処理を行
ったところ、廃液温度は65℃程度までしか上昇せず、
廃液の蒸発及び悪臭性ガスの発生はなく、電極66.6
8の劣化もなかった。
実施例2 廃液C 市販の撮影済み黒白ネガフィルム、ネオパンSS1ネオ
パン400 PRESTO、ネオパン1600SUPE
RPRESTO(以上商品名、富士写真フィルム側製)
を特に区別することなく、各種数り混ぜて順次現像液フ
ジドールと定着液フジフィックス(以上商品名、富士写
真フィルム側脚)を用いて処理いた廃液を1容と、市販
の黒白ペーパー、フジプロWP(商品名、富士写真フィ
ルムQl製)にネガからプリント焼付けを行って現像液
コレクトールと定着液フジフィックス(以上商品名、富
士写真フィルム側製)を用いて処理した廃液を1容と、
医療用Xレイ感光材料、MI−3F及びMISFII 
(以上商品名、富士写真フィルム側脚)を現像液RD−
3と定着液フジフィックス(以上商品名、富士写真フィ
ルム側製)で処理したときの廃液を2容、及び印刷用感
光材料システム富士GRANDEX システムty)現
像液GR−DIと定着液GR−Fl(以上商品名、富士
写真フィルム側脚)の廃液を2容とを混合し、1.7倍
希釈し処理廃液の原液とし、前記写真処理廃液処理装置
の廃液タンク6に供給する。
処理工程 実施例1と同じ。
なお、工程0のにおける過酸化水素水の単位時間当たり
の供給量と、廃液の温度、全量供給に要した時間は表3
の通りである。
表3 結果 実施例1と同様の結果が得られた。
〔発明の効果〕
本発明によれば、廃液温度が高くなる傾向にあれば過酸
化水素の単位時間当たりの供給量を少なくなる。うに調
整し、酸化反応の急激な進行を防止することで、廃液の
温度が急激に上昇することはなく、廃液の突沸を防止す
ることができる。そして、廃液の温度に応じて適正な過
酸化水素が供給されるので、危険のない範囲で効率の良
い酸化処理を行うことができる。したがって、小規模現
像所においても安全な廃液処理を行うことができる。
また、過酸化水素による酸化処理の反応効率を高く維持
しながら廃液の温度上昇を防止し、電解装置により2次
酸化処理を行うことにより、過酸化水素によって酸化さ
れなかったキレート剤等の被酸化物が電解装置により酸
化されるので、安全でしかも効率の良い酸化処理を行う
ことができる。
更に、電解装置内の廃液を冷却することにより、電解装
置内の廃液が危険温度に上昇することはなく、したがっ
て電解装置から有害ないし極めて悪臭性のガスの発生を
防止することができ、危険を伴わずに廃液処理を行うこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は写真処理廃液処理装置の概略断面図、第2図は
廃液温゛度と過酸化水素の供給量との関係を表すグラフ
である。 図中符号: 21次酸化槽    3 消泡剤タンク14〜 20゜ 26゜ 52゜ 2次酸化槽    5 凝集剤タンク 廃液タンク    訃過酸化水素タンク硫酸タンク  
 12−消石灰タンク 20.59,61.74.78−ポンプ24−ホッパー 28− 供給手段 サーミスタ   32 、p Hセンサ制御装置   
 36.・駆動手段 54.56.72.78  フィルタ 濾液タンク   62 放熱フィン 送風ファン   66 陽極 陰極 第2図 廃液の温度 手続補正書 平成2年10月

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)写真処理廃液に鉄粉及び過酸化水素を加えて被酸
    化性物質を酸化処理する写真処理廃液処理装置において
    、 廃液の温度を検出する温度検出手段と、 過酸化水素の単位時間当たりの供給量を調整する可変供
    給手段と、 検出した廃液温度が高くなるほど過酸化水素の単位時間
    当たりの供給量が少なくなるように前記可変供給手段の
    作動を制御する制御手段 とを備えたことを特徴とする写真処理廃液処理装置
  2. (2)写真処理廃液に鉄粉及び過酸化水素を加えて被酸
    化性物質を酸化処理する写真処理廃液処理装置において
    、 過酸化水素により酸化された廃液を更に酸化処理する電
    解装置を設け、 該電解装置内の廃液を冷却する冷却手段を備えたことを
    特徴とする写真処理廃液処理装置(3)写真処理廃液に
    鉄粉及び過酸化水素を加えて被酸化性物質を1次酸化処
    理した後、引き続いて前記廃液を電解装置により2次酸
    化処理する写真処理廃液処理装置において、過酸化水素
    による酸化中の廃液温度を検出する温度検出手段と、 過酸化水素の単位時間当たりの供給量を調整する可変供
    給手段と、 検出した廃液温度が高くなるほど過酸化水素の単位時間
    当たりの供給量が少なくなるように前記可変供給手段の
    作動を制御する制御手段と、前記電解装置内の廃液を冷
    却する冷却手段 とを備えたことを特徴とする写真処理廃液処理装置
JP19760890A 1990-07-27 1990-07-27 写真処理廃液処理装置 Pending JPH0483591A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5516423A (en) * 1994-08-08 1996-05-14 Concorp, Inc. Variable residence time treatment system
JP2014014805A (ja) * 2012-07-11 2014-01-30 Taisei Corp 難分解性の揮発性有機化合物を含有する汚染水の浄化方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5516423A (en) * 1994-08-08 1996-05-14 Concorp, Inc. Variable residence time treatment system
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