JPH0482188B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0482188B2 JPH0482188B2 JP61216710A JP21671086A JPH0482188B2 JP H0482188 B2 JPH0482188 B2 JP H0482188B2 JP 61216710 A JP61216710 A JP 61216710A JP 21671086 A JP21671086 A JP 21671086A JP H0482188 B2 JPH0482188 B2 JP H0482188B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- power supply
- internal power
- voltage
- circuit
- terminal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 12
- 230000005669 field effect Effects 0.000 claims 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 4
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 101100119059 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) ERG25 gene Proteins 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05F—SYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
- G05F3/00—Non-retroactive systems for regulating electric variables by using an uncontrolled element, or an uncontrolled combination of elements, such element or such combination having self-regulating properties
- G05F3/02—Regulating voltage or current
- G05F3/08—Regulating voltage or current wherein the variable is dc
- G05F3/10—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics
- G05F3/16—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices
- G05F3/20—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations
- G05F3/24—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations wherein the transistors are of the field-effect type only
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05F—SYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
- G05F1/00—Automatic systems in which deviations of an electric quantity from one or more predetermined values are detected at the output of the system and fed back to a device within the system to restore the detected quantity to its predetermined value or values, i.e. retroactive systems
- G05F1/10—Regulating voltage or current
- G05F1/46—Regulating voltage or current wherein the variable actually regulated by the final control device is dc
- G05F1/462—Regulating voltage or current wherein the variable actually regulated by the final control device is dc as a function of the requirements of the load, e.g. delay, temperature, specific voltage/current characteristic
- G05F1/465—Internal voltage generators for integrated circuits, e.g. step down generators
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Radar, Positioning & Navigation (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Logic Circuits (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は、内部的に外部から外部電源端子に
与えられる外部電源電圧より低い内部電源電圧で
動作する半導体集積回路に関し、特に、バーンイ
ンの加速を容易にするものである。
与えられる外部電源電圧より低い内部電源電圧で
動作する半導体集積回路に関し、特に、バーンイ
ンの加速を容易にするものである。
(従来の技術)
集積回路の集積度の増大に伴つてFETの大き
さを小さくする必要がある。一方、外部のTTL
回路との接続性から外部電源端子に与えられる外
部電源電圧は、5Vに保つ必要がある。しかしな
がら、外部電源電圧を5VにしたままFETのゲー
ト長を短くするとFETのドレインソース間の電
界の増大によりドレインソース間の耐圧が保てな
くなる。
さを小さくする必要がある。一方、外部のTTL
回路との接続性から外部電源端子に与えられる外
部電源電圧は、5Vに保つ必要がある。しかしな
がら、外部電源電圧を5VにしたままFETのゲー
ト長を短くするとFETのドレインソース間の電
界の増大によりドレインソース間の耐圧が保てな
くなる。
このため、従来は第2図に示すような電圧変換
回路を用いて電圧を下げていた。
回路を用いて電圧を下げていた。
この図において1はゲート長の短いNチヤネル
のFETを用いた点を除き通常の半導体集積回路
全体とほぼ同一構成の主回路、2は主回路1の内
部電源端子、3は主回路1の接地端子、4は集積
回路全体の外部電源端子、5は電圧変換回路の出
力端子、6は外部電源端子4と出力端子5との間
に設けられた電流駆動能力の大きいNチヤネルの
FET、7は一端を外部電源端子4に、他端を接
続点8に接続された高抵抗の抵抗、M1〜Mnは
各々ドレインとゲートとを接続し、接続点8と接
地端子3との間に直列に接続されたm個のNチヤ
ネルのFETである。
のFETを用いた点を除き通常の半導体集積回路
全体とほぼ同一構成の主回路、2は主回路1の内
部電源端子、3は主回路1の接地端子、4は集積
回路全体の外部電源端子、5は電圧変換回路の出
力端子、6は外部電源端子4と出力端子5との間
に設けられた電流駆動能力の大きいNチヤネルの
FET、7は一端を外部電源端子4に、他端を接
続点8に接続された高抵抗の抵抗、M1〜Mnは
各々ドレインとゲートとを接続し、接続点8と接
地端子3との間に直列に接続されたm個のNチヤ
ネルのFETである。
次に、動作について説明する。抵抗7の抵抗値
を直列接続されたFETM1〜MnのON抵抗値の
100倍程度に設定すると、接続点8の電圧V3は次
のように表わされる。
を直列接続されたFETM1〜MnのON抵抗値の
100倍程度に設定すると、接続点8の電圧V3は次
のように表わされる。
V8≒mVTH ……(1)
ここで、VTHはFETM1〜Mnのしきい値電圧で
ある。例えばVTH=0.5V、m=8とすると、 V8=8×0.5V=4.0V ……(2) となる。
ある。例えばVTH=0.5V、m=8とすると、 V8=8×0.5V=4.0V ……(2) となる。
接続点8はFET6のゲート電極に接続されて
いる。FET6はいわゆるソースフオロワの動作
をしており、FET6のソース電圧はゲート電圧
からVTHだけ低下した電圧となる。
いる。FET6はいわゆるソースフオロワの動作
をしており、FET6のソース電圧はゲート電圧
からVTHだけ低下した電圧となる。
従つて、ソースに接続された出力端子5の電圧
V5は V5=4.0V−0.5V=3.5V ……(3) となる。
V5は V5=4.0V−0.5V=3.5V ……(3) となる。
この電圧が主回路1に内部電源電圧として供給
される。この電圧は(1)式より明らかなように外部
電源電圧Vccに無関係となつている。これは、通
常、外部電源電圧Vccには±10%の変動が許され
ているので、この変動により主回路1の動作が影
響を受けないようにするために、外部電源電圧を
内部電源電圧に変換するのと同時にとられる処置
のためである。
される。この電圧は(1)式より明らかなように外部
電源電圧Vccに無関係となつている。これは、通
常、外部電源電圧Vccには±10%の変動が許され
ているので、この変動により主回路1の動作が影
響を受けないようにするために、外部電源電圧を
内部電源電圧に変換するのと同時にとられる処置
のためである。
つまり、従来の電圧変換回路は、外部電流電圧
を下げる働きと外部電源電圧の変動に対して無関
係な内部電源電圧を発生する回路として用いられ
ている。
を下げる働きと外部電源電圧の変動に対して無関
係な内部電源電圧を発生する回路として用いられ
ている。
(発明が解決しようとする問題点)
FETはソースドレイン間に形成された薄い絶
縁酸化膜上のゲート電極の電圧によつて制御され
る素子である。
縁酸化膜上のゲート電極の電圧によつて制御され
る素子である。
実際のFETの製造においては、この酸化膜は
均一に作れず、部分的に薄い部分が形成される。
この薄くなつた部分は熱あるいは電界が長期間加
わることにより劣化し、最終的に破壊に至り、素
子の誤動作を招く。素子の製造者は、このような
潜在的欠陥をもつものを取り除くために、素子の
出荷の前にダイナミツクバーインとよばれるスト
レスを加え、潜在的欠陥部分を強制的に破壊し、
その後の試験により破壊したFETを有する素子
を取り除いている。
均一に作れず、部分的に薄い部分が形成される。
この薄くなつた部分は熱あるいは電界が長期間加
わることにより劣化し、最終的に破壊に至り、素
子の誤動作を招く。素子の製造者は、このような
潜在的欠陥をもつものを取り除くために、素子の
出荷の前にダイナミツクバーインとよばれるスト
レスを加え、潜在的欠陥部分を強制的に破壊し、
その後の試験により破壊したFETを有する素子
を取り除いている。
ダイナミツクバーインを行う場合、できるだけ
短時間に行うことが製造者にとつて生産性の点か
ら好ましい。
短時間に行うことが製造者にとつて生産性の点か
ら好ましい。
そのために、ストレスの条件を通常使用する条
件よりも厳しくして時間を加速している。
件よりも厳しくして時間を加速している。
例えば、周囲温度を125℃、Vccを7〜8Vにま
で上昇させてストレスを加速している。
で上昇させてストレスを加速している。
ところが、上記のように内部電源回路を設けた
場合、内部の電源電圧が外部電源電圧Vccにかか
わらず一定となり、外部電源電圧Vccによる加速
ができなくなると云つた問題点があつた。
場合、内部の電源電圧が外部電源電圧Vccにかか
わらず一定となり、外部電源電圧Vccによる加速
ができなくなると云つた問題点があつた。
この発明は、上記の如き問題点を解決するため
になされたもので、主回路につながる外部端子の
電位を通常動作範囲外の所定状態にするとこれを
検知し、内部回路に加わる内部電源電圧を増大さ
せ、バーンインの加速を可能にする半導体集積回
路を提供することを目的とする。
になされたもので、主回路につながる外部端子の
電位を通常動作範囲外の所定状態にするとこれを
検知し、内部回路に加わる内部電源電圧を増大さ
せ、バーンインの加速を可能にする半導体集積回
路を提供することを目的とする。
(問題点を解決するための手段)
この発明に係わる半導体集積回路は、主回路が
外部電源端子に与えられる外部電源電圧より低い
内部電源電圧で通常動作するように設定され、前
記主回路につながる外部端子の電位が前記通常動
作範囲外の所定状態にある場合に、制御回路がこ
の外部端子に与えられた電位を検知することによ
り、内部電源回路が前記内部電源電圧より高い電
圧を前記主回路の内部電源端子に与えるようにし
たものである。
外部電源端子に与えられる外部電源電圧より低い
内部電源電圧で通常動作するように設定され、前
記主回路につながる外部端子の電位が前記通常動
作範囲外の所定状態にある場合に、制御回路がこ
の外部端子に与えられた電位を検知することによ
り、内部電源回路が前記内部電源電圧より高い電
圧を前記主回路の内部電源端子に与えるようにし
たものである。
(作用)
この発明においては、外部端子の電位が所定状
態にある場合に、制御回路がこれを検知して内部
電源回路が内部電源電圧より高い電圧を内部電源
端子に与えるようにする。
態にある場合に、制御回路がこれを検知して内部
電源回路が内部電源電圧より高い電圧を内部電源
端子に与えるようにする。
(実施例)
本発明の一実施例を第1図に示す。
第1図において第2図と同一符号は相当部分を
表している。9は外部入力信号が加わり、主回路
1につながる外部端子、10は接続点、N1〜No
はそれぞれドレインとゲート電極が接続され、外
部端子9と接続点10との間で直列に接続された
n個のNチヤネルFET、11は一端を接続点1
0に、他端を接地された高抵抗値を有する抵抗、
12は接続点、13は一端を外部電源端子4に、
他端を接続点12に接続された高抵抗値を有する
抵抗、14は接続点12と接地端子3との間に設
けられ、ゲート電極を接続点10に接続されたN
チヤネルFET、L1〜Llはそれぞれドレインとゲ
ート電極が接続され、接続点12と外部端子9と
の間に接続された1個のNチヤネルFET、15
は接続点16と接地端子3との間に接続され、ゲ
ート電極を接続点12に接続されたNチヤネル
FETである。
表している。9は外部入力信号が加わり、主回路
1につながる外部端子、10は接続点、N1〜No
はそれぞれドレインとゲート電極が接続され、外
部端子9と接続点10との間で直列に接続された
n個のNチヤネルFET、11は一端を接続点1
0に、他端を接地された高抵抗値を有する抵抗、
12は接続点、13は一端を外部電源端子4に、
他端を接続点12に接続された高抵抗値を有する
抵抗、14は接続点12と接地端子3との間に設
けられ、ゲート電極を接続点10に接続されたN
チヤネルFET、L1〜Llはそれぞれドレインとゲ
ート電極が接続され、接続点12と外部端子9と
の間に接続された1個のNチヤネルFET、15
は接続点16と接地端子3との間に接続され、ゲ
ート電極を接続点12に接続されたNチヤネル
FETである。
次に、動作について説明する。外部端子9に与
えられる外部入力信号DINは論理“0”“1”の状
態をもつており、それらは信号の電圧レベル
“L”“H”に設定することで実現される。
えられる外部入力信号DINは論理“0”“1”の状
態をもつており、それらは信号の電圧レベル
“L”“H”に設定することで実現される。
通常、“L”レベルは−1V〜0.8V、“H”レベ
ルは2.4V〜6.5Vの範囲に設定されている。
ルは2.4V〜6.5Vの範囲に設定されている。
いま、仮に、nが15、lが5とし、各FETの
しきい値電圧が等しく0.5Vとし、外部入力信号
DINの“H”レベルが6.5V、“L”レベルが−1V
とすると、接続点10のレベルは接地レベルに、
また、接続点12のレベルはVccになり、FET1
5のON抵抗は充分低く設定してあるので、接続
点16のレベルは接地レベルになる。
しきい値電圧が等しく0.5Vとし、外部入力信号
DINの“H”レベルが6.5V、“L”レベルが−1V
とすると、接続点10のレベルは接地レベルに、
また、接続点12のレベルはVccになり、FET1
5のON抵抗は充分低く設定してあるので、接続
点16のレベルは接地レベルになる。
この状態は第2図と同じであり、出力端子5に
は3.5Vの電位が発生する。
は3.5Vの電位が発生する。
接続点10が接地レベルになる理由は、外部端
子9と接続点10との間にある15個のFETによ
り、外部端子9と接続点10との間に等価的に15
×0.5V=7.5Vのしきい値をもつFETが存在する
ことになり、外部入力信号DINのレベルを6.5Vに
しても、この電圧が接続点10に作用しないの
で、抵抗11を通して接地されるためである。
子9と接続点10との間にある15個のFETによ
り、外部端子9と接続点10との間に等価的に15
×0.5V=7.5Vのしきい値をもつFETが存在する
ことになり、外部入力信号DINのレベルを6.5Vに
しても、この電圧が接続点10に作用しないの
で、抵抗11を通して接地されるためである。
また、同様に、接続点12にFETL1〜Llを通
して外部入力信号DINの電圧が作用しない理由は、
接続点12と外部端子9との間にある5個の
FETにより、接続点12の外部端子9の間に等
価的に5×0.5V=2.5Vのしきい値をもつFETが
存在することになり、外部端子9に−1Vの電圧
を加えても接続点12にこの電圧が作用しないた
め、接続点12は抵抗13を通してすくなくとも
1.5V以下にならないからである。
して外部入力信号DINの電圧が作用しない理由は、
接続点12と外部端子9との間にある5個の
FETにより、接続点12の外部端子9の間に等
価的に5×0.5V=2.5Vのしきい値をもつFETが
存在することになり、外部端子9に−1Vの電圧
を加えても接続点12にこの電圧が作用しないた
め、接続点12は抵抗13を通してすくなくとも
1.5V以下にならないからである。
以上は外部入力信号DINに通常使用する範囲の
電圧を加えた場合で内部電源端子2に加わる電圧
は通常の3.5Vになる。
電圧を加えた場合で内部電源端子2に加わる電圧
は通常の3.5Vになる。
以下に外部入力信号DINのレベルを通常使用範
囲外の電位、例えば“H”レベルを8.5Vに設定
すると、FETN1〜Noが導通し、接続点10のレ
ベルは8.5V−7.5V=1.0Vとなり、FET14を充
分ONできるので、接続点12のレベルはほぼ接
地レベルになる。この結果、FET15がOFFす
るので、接続点8のレベルはVccまで引き上げら
れ、出力端子5のレベルはVcc−0.5V=4.5Vまで
上昇する。
囲外の電位、例えば“H”レベルを8.5Vに設定
すると、FETN1〜Noが導通し、接続点10のレ
ベルは8.5V−7.5V=1.0Vとなり、FET14を充
分ONできるので、接続点12のレベルはほぼ接
地レベルになる。この結果、FET15がOFFす
るので、接続点8のレベルはVccまで引き上げら
れ、出力端子5のレベルはVcc−0.5V=4.5Vまで
上昇する。
また、“L”レベルを−2.5Vに設定すると、
FETL1〜Llが導通し、接続点12のレベルはほ
ぼ接地レベルになる。この結果、上と同様に出力
端子5のレベルは4.5Vになる。
FETL1〜Llが導通し、接続点12のレベルはほ
ぼ接地レベルになる。この結果、上と同様に出力
端子5のレベルは4.5Vになる。
なお、第1図において、抵抗11,13の値は
FETN1〜No、L1〜LlのON抵抗の値に比べ充分
高く設定しているので、FETN1〜No、L1〜Llが
ONしているときは、接続点10,12のレベル
への抵抗の影響は無視できる。
FETN1〜No、L1〜LlのON抵抗の値に比べ充分
高く設定しているので、FETN1〜No、L1〜Llが
ONしているときは、接続点10,12のレベル
への抵抗の影響は無視できる。
主回路1の入出力部分は、信号のレベル変換可
能なように構成され、出力部分のみ外部電源電圧
で駆動されるようになつている。点線で囲つた3
0は通常動作時に内部電源電圧を内部電源端子2
に与えるための内部電源回路、40は外部端子9
の電位が通常動作範囲外の所定状態にあることを
検知すると、内部電源回路30が内部電源端子2
に通常動作時の内部電源電圧より高い電圧を与え
るように制御する制御回路である。この実施例の
場合には所定状態が8.5V以上と−2.5V以下にな
つている。
能なように構成され、出力部分のみ外部電源電圧
で駆動されるようになつている。点線で囲つた3
0は通常動作時に内部電源電圧を内部電源端子2
に与えるための内部電源回路、40は外部端子9
の電位が通常動作範囲外の所定状態にあることを
検知すると、内部電源回路30が内部電源端子2
に通常動作時の内部電源電圧より高い電圧を与え
るように制御する制御回路である。この実施例の
場合には所定状態が8.5V以上と−2.5V以下にな
つている。
第1図では示さなかつたが、外部端子9には保
護回路が設けられており、サージ電圧等の高電圧
が加わつても、外部電源電圧Vccの数倍以上の電
圧は内部の回路に伝えないようになつている。従
つて、このような電圧が加わる主回路1の入出力
部及び回路30、40を構成するFETには外部
電源電圧Vccで直接動作する通常の半導体集積回
路に用いられるFETと同一仕様のものが用いら
れている。
護回路が設けられており、サージ電圧等の高電圧
が加わつても、外部電源電圧Vccの数倍以上の電
圧は内部の回路に伝えないようになつている。従
つて、このような電圧が加わる主回路1の入出力
部及び回路30、40を構成するFETには外部
電源電圧Vccで直接動作する通常の半導体集積回
路に用いられるFETと同一仕様のものが用いら
れている。
外部端子9は、例えばメモリの場合、データ入
力端子やアドレス入力端子、チツプイネイブル入
力端子、ライトイネイブル入力端子のいずれかで
あつてもよい。
力端子やアドレス入力端子、チツプイネイブル入
力端子、ライトイネイブル入力端子のいずれかで
あつてもよい。
なお、上記実施例では、所定状態を8.5V以上
と−2.5V以下にした場合について述べたが、ど
ちらか一方だけにしてもよい。この場合、第1図
の制御回路40のうち、前者のみの場合、
FETL1〜Llが不要になり、後者のみの場合、
FETN1〜No、14、抵抗11が不要となる。ま
た、上記実施例では、1本の外部端子9に印加さ
れる電位によつて制御する場合について述べた
が、第3図に示すように2本同時に所定状態の電
位(両者共に8.5V以上)が与えられた時、通常
動作時の内部電源電圧より高い電圧を発生するよ
うにしてもよい。但し、14a,14bはFET
14と同じnチヤネル形で同じしきい値電圧の
FETである。この場合、通常動作中にサージ電
圧等により誤動作する確率を小にできる効果があ
る。
と−2.5V以下にした場合について述べたが、ど
ちらか一方だけにしてもよい。この場合、第1図
の制御回路40のうち、前者のみの場合、
FETL1〜Llが不要になり、後者のみの場合、
FETN1〜No、14、抵抗11が不要となる。ま
た、上記実施例では、1本の外部端子9に印加さ
れる電位によつて制御する場合について述べた
が、第3図に示すように2本同時に所定状態の電
位(両者共に8.5V以上)が与えられた時、通常
動作時の内部電源電圧より高い電圧を発生するよ
うにしてもよい。但し、14a,14bはFET
14と同じnチヤネル形で同じしきい値電圧の
FETである。この場合、通常動作中にサージ電
圧等により誤動作する確率を小にできる効果があ
る。
さらに、第4図に示すように、2本の外部端子
9それぞれの所定状態を8.5V以上、−2.5V以下の
ように互いに反対方向に定めると、このようなサ
ージ電圧が同時に加わることは少ないから、一層
誤動作の確率を小にできる効果がある。但し、1
5a,15bはいずれもFET15と同じnチヤ
ネル形の同じしきい値電圧のFETである。
9それぞれの所定状態を8.5V以上、−2.5V以下の
ように互いに反対方向に定めると、このようなサ
ージ電圧が同時に加わることは少ないから、一層
誤動作の確率を小にできる効果がある。但し、1
5a,15bはいずれもFET15と同じnチヤ
ネル形の同じしきい値電圧のFETである。
以上の説明中の所定状態は誤動作を避けるため
マージンを取つて定められ、望ましい値であり、
原理的には、通常動作範囲外ぎりぎりに定めても
よく、さらに、この通常動作範囲も仕様により変
わり得るものである。
マージンを取つて定められ、望ましい値であり、
原理的には、通常動作範囲外ぎりぎりに定めても
よく、さらに、この通常動作範囲も仕様により変
わり得るものである。
また、上記実施例では、通常動作時の内部電源
電圧より高い電圧はFET6のしきい値電圧降下
を持つ場合を示したが、例えば、第5図の如くに
すると避けることができる。すなわち、第5図に
おいて17は交流信号が加えられる端子、18は
端子17と接続点20との間に接続された昇圧容
量、19は外部電源端子4と接続点20との間に
設けられ、ドレインとゲート電極が接続された第
1の整流用NチヤネルFET、21は接続点20
と接続点22との間に設けられ、ドレインとゲー
ト電極が接続された第2の整流用Nチヤネル
FETである。
電圧より高い電圧はFET6のしきい値電圧降下
を持つ場合を示したが、例えば、第5図の如くに
すると避けることができる。すなわち、第5図に
おいて17は交流信号が加えられる端子、18は
端子17と接続点20との間に接続された昇圧容
量、19は外部電源端子4と接続点20との間に
設けられ、ドレインとゲート電極が接続された第
1の整流用NチヤネルFET、21は接続点20
と接続点22との間に設けられ、ドレインとゲー
ト電極が接続された第2の整流用Nチヤネル
FETである。
次に、動作について説明する。最初に、接続点
22が外部電源端子4に加わる電圧により、
FET19,21を通してVcc−2VTHに充電され
る。次に、交流信号φの立ち上がりによつて容量
18を通して接続点20が充電され、接続点20
のレベルが上がる。それと同時にFET21がON
して電荷が接続点22に伝わり、接続点22のレ
ベルが上昇する。次に、交流信号φが立ち下がる
と、接続点22から容量18を介して電荷が引き
抜かれ、接続点20のレベルが下がるが、FET
19がONしてVccから充電され、接続点20の
レベルはVcc−VTHに回復する。
22が外部電源端子4に加わる電圧により、
FET19,21を通してVcc−2VTHに充電され
る。次に、交流信号φの立ち上がりによつて容量
18を通して接続点20が充電され、接続点20
のレベルが上がる。それと同時にFET21がON
して電荷が接続点22に伝わり、接続点22のレ
ベルが上昇する。次に、交流信号φが立ち下がる
と、接続点22から容量18を介して電荷が引き
抜かれ、接続点20のレベルが下がるが、FET
19がONしてVccから充電され、接続点20の
レベルはVcc−VTHに回復する。
交流信号φが立ち下がるとき、第2の整流用
FET21により接続点22のレベルは保持され
る。
FET21により接続点22のレベルは保持され
る。
接続点22のレベルは交流信号φの繰り返しに
より徐々に上昇してゆき、交流信号φの振幅を
Vccとすると2(Vcc−VTH)となる。
より徐々に上昇してゆき、交流信号φの振幅を
Vccとすると2(Vcc−VTH)となる。
外部入力信号DINのレベルが通常動作範囲外の
ときは、このレベルがそのまま接続点8に伝わ
り、FETが3極管領域で導通し、出力端子5は
Vccレベルになる。すなわち、FET6のしきい値
電圧の損失分はなくなる。
ときは、このレベルがそのまま接続点8に伝わ
り、FETが3極管領域で導通し、出力端子5は
Vccレベルになる。すなわち、FET6のしきい値
電圧の損失分はなくなる。
なお、上記実施例では、NチヤネルFETを用
いて説明したが、PチヤネルFETを用いて実施
することも可能である。
いて説明したが、PチヤネルFETを用いて実施
することも可能である。
また、抵抗7,11,13はFETを用いて実
施することも可能である。
施することも可能である。
また、外部端子9として上記したデータ入力端
子やアドレス入力端子、チツプイネイブル入力端
子、ライトイネイブル入力端子を用いる変わり
に、チツプセレクト信号が加えられるチツプセレ
クト入力端子を用いても良いものである。チツプ
セレクト信号のようにダイナミツクバーイン中に
“L”または“H”に固定できる信号であれば、
より実施が容易である。
子やアドレス入力端子、チツプイネイブル入力端
子、ライトイネイブル入力端子を用いる変わり
に、チツプセレクト信号が加えられるチツプセレ
クト入力端子を用いても良いものである。チツプ
セレクト信号のようにダイナミツクバーイン中に
“L”または“H”に固定できる信号であれば、
より実施が容易である。
(発明の効果)
以上に説明したように、本発明によれば、主回
路につながる少なくとも1つの外部端子に加える
電位を通常動作範囲外の所定状態に設定すること
により、端子数を増やさずに、通常動作時に外部
電源電圧が変動しても一定の内部電源電圧を主回
路の内部電源端子に与える内部電源回路をもつ集
積回路のダイナミツクバーインの条件を加速する
ことができるので、ダイナミツクバーインの時間
を短縮できるという効果がある。
路につながる少なくとも1つの外部端子に加える
電位を通常動作範囲外の所定状態に設定すること
により、端子数を増やさずに、通常動作時に外部
電源電圧が変動しても一定の内部電源電圧を主回
路の内部電源端子に与える内部電源回路をもつ集
積回路のダイナミツクバーインの条件を加速する
ことができるので、ダイナミツクバーインの時間
を短縮できるという効果がある。
第1図はこの発明の一実施例を示す回路図、第
2図は従来の半導体集積回路を示す回路図、第3
図ないし第5図はこの発明の変形例を示す回路図
である。 図において、1は主回路、2は内部電源端子、
3及び3aは接地端子、4は外部電源端子、9は
外部端子、30は内部電源回路、40は制御回路
である。なお、各図中、同一符号は同一または相
当部分を示す。
2図は従来の半導体集積回路を示す回路図、第3
図ないし第5図はこの発明の変形例を示す回路図
である。 図において、1は主回路、2は内部電源端子、
3及び3aは接地端子、4は外部電源端子、9は
外部端子、30は内部電源回路、40は制御回路
である。なお、各図中、同一符号は同一または相
当部分を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 外部電源端子に与えられる外部電源電圧より
低い内部電源電圧で通常動作するように設定され
た主回路と 前記外部電源電圧を与えられて、通常動作時に
この外部電源電圧が変動しても一定の前記内部電
源電圧を前記主回路の内部電源端子に与える内部
電源回路と 前記主回路につながる外部端子の電位を検知
し、この電位が前記通常動作範囲外の所定状態に
ある場合に前記内部電源電圧より高い電圧を前記
内部電源端子に与えるように前記内部電源回路を
制御する制御回路とを 備えた半導体集積回路。 2 内部電源回路は、外部電源端子と主回路の内
部電源端子との間に設けられた絶縁ゲート電界効
果トランジスタを有し、かつ、通常動作時の内部
電源電圧より高い電圧を内部電源端子に与える時
にこの絶縁ゲート電界効果トランジスタのしきい
値電圧降下による電圧低下分を排除して内部電源
端子に与えるものであることを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載の半導体集積回路。 3 外部電源端子に与えられる外部電源電圧より
低い内部電源電圧で通常動作するように設定され
た主回路と 前記外部電源電圧を与えられて、通常動作時に
この外部電源電圧が変動しても一定の前記内部電
源電圧を前記主回路の内部電源端子に与える内部
電源回路と 前記主回路につながる複数の外部端子における
電位を検知し、これら検知した電位が、それぞれ
の所定状態にある場合にのみ、通常動作時の内部
電源電圧より高い電圧を内部電源端子に与えるよ
うに内部電源回路を制御する制御回路とを 備えた半導体集積回路。 4 複数の外部端子の信号に対する所定状態は、
互いに異なるものであることを特徴とする特許請
求の範囲第3項記載の半導体集積回路。 5 内部電源回路は、外部電源端子と主回路の内
部電源端子との間に設けられた絶縁ゲート電界効
果トランジスタを有し、かつ、通常動作時の内部
電源電圧より高い電圧を内部電源端子に与える時
にこの絶縁ゲート電界効果トランジスタのしきい
値電圧降下による電圧低下分を排除して内部電源
端子に与えるものであることを特徴とする特許請
求の範囲第3項または第4項に記載の半導体集積
回路。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61216710A JPS6370451A (ja) | 1986-09-11 | 1986-09-11 | 半導体集積回路 |
KR1019870004172A KR900003834B1 (ko) | 1986-09-11 | 1987-04-29 | 반도체 집적회로 |
US07/070,254 US4806788A (en) | 1986-09-11 | 1987-07-06 | Semiconductor integrated circuit with decreased burn-in time |
DE19873722421 DE3722421A1 (de) | 1986-09-11 | 1987-07-07 | Integrierte halbleiterschaltung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61216710A JPS6370451A (ja) | 1986-09-11 | 1986-09-11 | 半導体集積回路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6370451A JPS6370451A (ja) | 1988-03-30 |
JPH0482188B2 true JPH0482188B2 (ja) | 1992-12-25 |
Family
ID=16692706
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61216710A Granted JPS6370451A (ja) | 1986-09-11 | 1986-09-11 | 半導体集積回路 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4806788A (ja) |
JP (1) | JPS6370451A (ja) |
KR (1) | KR900003834B1 (ja) |
DE (1) | DE3722421A1 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2904276B2 (ja) * | 1987-02-24 | 1999-06-14 | 沖電気工業株式会社 | 半導体集積回路装置 |
JPH0777079B2 (ja) * | 1987-07-31 | 1995-08-16 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
JPS6455857A (en) * | 1987-08-26 | 1989-03-02 | Nec Corp | Semiconductor integrated device |
JPH02197163A (ja) * | 1989-01-26 | 1990-08-03 | Nec Ic Microcomput Syst Ltd | 半導体記憶装置 |
JPH0346188A (ja) * | 1989-07-13 | 1991-02-27 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶回路 |
JP2809768B2 (ja) * | 1989-11-30 | 1998-10-15 | 株式会社東芝 | 基準電位発生回路 |
US5283762A (en) * | 1990-05-09 | 1994-02-01 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device containing voltage converting circuit and operating method thereof |
KR930009148B1 (ko) * | 1990-09-29 | 1993-09-23 | 삼성전자 주식회사 | 전원전압 조정회로 |
KR940008286B1 (ko) * | 1991-08-19 | 1994-09-09 | 삼성전자 주식회사 | 내부전원발생회로 |
JPH05314769A (ja) * | 1992-05-13 | 1993-11-26 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体集積回路装置 |
US5954832A (en) * | 1997-03-14 | 1999-09-21 | International Business Machines Corporation | Method and system for performing non-standard insitu burn-in testings |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5849885B2 (ja) * | 1976-03-16 | 1983-11-07 | 日本電気株式会社 | 定電圧回路 |
US4300061A (en) * | 1979-03-15 | 1981-11-10 | National Semiconductor Corporation | CMOS Voltage regulator circuit |
JPS5772429A (en) * | 1980-10-22 | 1982-05-06 | Toshiba Corp | Semiconductor integrated circuit device |
US4585955B1 (en) * | 1982-12-15 | 2000-11-21 | Tokyo Shibaura Electric Co | Internally regulated power voltage circuit for mis semiconductor integrated circuit |
JPS60103827A (ja) * | 1983-11-11 | 1985-06-08 | Fujitsu Ltd | 電圧変換回路 |
JPS60176121A (ja) * | 1984-02-22 | 1985-09-10 | Toshiba Corp | 電圧降下回路 |
-
1986
- 1986-09-11 JP JP61216710A patent/JPS6370451A/ja active Granted
-
1987
- 1987-04-29 KR KR1019870004172A patent/KR900003834B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1987-07-06 US US07/070,254 patent/US4806788A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-07 DE DE19873722421 patent/DE3722421A1/de active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3722421A1 (de) | 1988-03-24 |
DE3722421C2 (ja) | 1990-03-22 |
JPS6370451A (ja) | 1988-03-30 |
KR880004564A (ko) | 1988-06-07 |
US4806788A (en) | 1989-02-21 |
KR900003834B1 (ko) | 1990-06-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5406141A (en) | High voltage CMOS switching circuit | |
US6040729A (en) | Digital output buffer for multiple voltage system | |
JP2536871B2 (ja) | オフ・チップ駆動回路 | |
JPH0482188B2 (ja) | ||
EP0090662B1 (en) | Boosting circuit | |
KR100308208B1 (ko) | 반도체집적회로장치의입력회로 | |
US11190178B1 (en) | Gate induced drain leakage robust bootstrapped switch | |
US8299845B2 (en) | Semiconductor device | |
JPS6237472B2 (ja) | ||
US4468576A (en) | Inverter circuit having transistors operable in a shallow saturation region for avoiding fluctuation of electrical characteristics | |
JPS61277227A (ja) | 高電圧絶縁回路 | |
US4571509A (en) | Output circuit having decreased interference between output terminals | |
KR20020084446A (ko) | 전압 인터페이스 회로를 구비한 반도체 집적 회로 장치 | |
US20020008500A1 (en) | Semiconductor integrated circuit and method for generating internal supply voltage | |
US4353104A (en) | Output interface circuits | |
US4525640A (en) | High performance and gate having an "natural" or zero threshold transistor for providing a faster rise time for the output | |
JP2865486B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP3890614B2 (ja) | 昇圧電圧供給回路 | |
JPH05119127A (ja) | 半導体集積回路 | |
KR950013395B1 (ko) | 입력초단회로를 갖춘 불휘발성 반도체기억장치 | |
US20230335546A1 (en) | Electrostatic discharge protection circuit | |
JP2874459B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
JPH021270B2 (ja) | ||
JPH04103215A (ja) | 半導体集積回路の入力回路 | |
JPH0536919A (ja) | 半導体集積回路装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |