JPS61277227A - 高電圧絶縁回路 - Google Patents

高電圧絶縁回路

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JPS61277227A
JPS61277227A JP61124627A JP12462786A JPS61277227A JP S61277227 A JPS61277227 A JP S61277227A JP 61124627 A JP61124627 A JP 61124627A JP 12462786 A JP12462786 A JP 12462786A JP S61277227 A JPS61277227 A JP S61277227A
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voltage
transistor
connection point
source
gate
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JP61124627A
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ビーマチャール・ヴェンカテーシュ
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Advanced Micro Devices Inc
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    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K19/00Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
    • H03K19/003Modifications for increasing the reliability for protection
    • H03K19/00315Modifications for increasing the reliability for protection in field-effect transistor circuits
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K19/00Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
    • H03K19/01Modifications for accelerating switching
    • H03K19/017Modifications for accelerating switching in field-effect transistor circuits
    • H03K19/01707Modifications for accelerating switching in field-effect transistor circuits in asynchronous circuits
    • H03K19/01721Modifications for accelerating switching in field-effect transistor circuits in asynchronous circuits by means of a pull-up or down element

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  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Electronic Switches (AREA)
  • Logic Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の背景] この発明は一般に絶縁回路に関するものであって、特に
、CMOSラッチアップを防ぐように低電圧接続点から
高電圧接続点を分離するためにNチャネルMOSバスト
ランジスタが用いられる、0M08回路網のための高電
圧絶縁回路に関す−るものである。
周知のように、インバータからなる0M03回路網は電
界効果トランジスタ(FET)を含むモノリシックな集
積回路から形成されてもよく、そこではP型のような1
つの導電性の領域がN型のような相補的導電性のサブス
トレートに分散される。集積回路の異なる部分が2つの
異なる電圧レベルで動作されるときに問題がおこる。例
えば、もしFETのソースおよびドレイン電極を規定す
るP導電性型領域が第1のより高い電圧(すなわち15
ボルト)で動作され、そしてサブストレートを形成する
N導電性が第2のより低い電圧(すなわち5ボルト)で
動作されたなら、こうして形成されるPN接合は順方向
にバイアスされ、これはCMOSラッチアップをトリガ
し得る。その結果、過度の高電流が流れ、電力源への損
傷の可能性がもたらされる、接合の焼失および集積回路
の破壊を引き起こすかもしれない。
それゆえ、高電圧接続点と低電圧接続点を分離させるた
めの制御素子を含む0M08回路網のための高電圧絶縁
回路を提供することが望ましい。
[発明の要約1 N導電性型(Nウェル)のサブストレートとサブストレ
ートに分散されたP導電性領域が設けられ、それがPN
接合を形成する。供給電位はサブストレートに与えられ
る。この発明の制御素子は導通経路の端部を形成するソ
ースおよびドレインと、制御電極を形成するゲートとを
有するNチャネルMOSバストランジスタから形成され
る。ドレインは低電圧接続点とP導電性領域に接続され
る。ソースは高電圧接続点に接続される。ゲートは高電
圧接続点で供給電位より高い高電圧がP導電性領域に印
加されるのを防ぐようにバストランジスタを非導電性に
するために用いられる。その結果、この領域とサブスト
レートの間で形成されるPN接合は順方向のバイアスと
なることは決して許されず、それによってCMOSラッ
チアップを避ける。
したがって、この発明の一般的な目的は、CMOSラッ
チアップを防ぐように0M08回路網のための高電圧絶
縁回路を提供することである。
この発明の目的は、高電圧接続点と低電圧接続点を分離
させて、CMOSラッチアップを防ぐためのNチャネル
MOSバストランジスタを含む0M08回路網のための
高電圧絶縁回路を提供することである。
この発明の別の目的は、導通経路を有する制御素子を含
む0M08回路網のための高電圧絶縁回路を提供するこ
とであって、そこでは、第1モードの動作の間、第1の
電圧が導通経路を通過することが許され、そして第2の
モードの動作の間、第2の電圧が導通経路を通過するこ
とが妨げられる。
この発明のさらに別の目的は、導通経路と制御電極を有
する制御素子と、第1の電圧がしきい値電圧降下を引き
起こすことなく導通経路を通過することを可能にするた
めに制御電極に与えられるポンプ回路とを含む高電圧絶
縁回路を提供することである。
この発明のさらに別の目的は、供給電位に接続されるN
3!!?lt性型のサブストレートと、それとともにP
N接合を形成するためにサブストレート内に埋設された
PIJ電性型の領域と、供給電位より高い電圧から領域
を分離するための制御素子とを含む集積回路を提供する
ことである。
この発明のこれらおよびその他の目的および利点は、こ
の発明の原理を実施するための高電圧絶縁回路の典型的
な略図が示される添付の図面に関連して読むと、以下の
詳細な説明からより一層明らかとなるであろう。
[好ましい実施例の説明] 初めに明確に理解されるべきことは、イレーザブルでプ
ログラマブルな、リードオンリメモリ(EPROM>の
レコーダの部分と関連して示されるこの発明は、それの
範囲または教示を限定するものとしては意図されておら
ず、単にそれはその応用の1つの具体例の例示の便宜の
ためであるということである。この発明は、CMOSラ
ッチアップを妨げるように低電圧接続点から高電圧接続
点を分離するための絶縁回路に関しているの゛で、この
発明は他のCMOS回路設計に数多くの応用を有する。
特別な例示の図面を詳細に参照すると、CMOS入力回
路網セクション12と、制御回路網セクション14と、
出力回路網セクション16とを含む相補形金属酸化物半
導体(0MO3)のための高電圧絶縁回路10の概略図
が示される。この発明の実施例では、P導電性型のトラ
ンジスタは参照番号が付けられた文字Pによって識別さ
れ、そしてN導電性型のトランジスタは参照番号が付け
られた文字Nによって識別される。出力回路網セクショ
ン16は第1のより高い電力源電圧すなわち電位VPP
で動作され、これは約11ボルトである。入力回路網セ
クション12および制御回路網セクタ1ン14は第2の
より低い電力源電圧すなわち電位■CCで動作され、こ
れは約+5ボルトである。
CMOS入力回路網セクション12は、第1のインバー
タ18と第2のインバータ20から形成される。第1の
インバータ18はPチャネルMOSトランジスタP2お
よびNチャネルMOSトランジスタN4から形成され、
それらのゲート電極は、入力信号V、。を受取るために
一緒にそして入力端子22に接続される。入力信号■、
。は0ボルトのオーダのローすなわち「0」論理レベル
と、約+5ボルトのハイすなわち「1」論理レベルの間
で典型的に振れる。トランジスタP2およびN4のドレ
イン電極もまた一緒に結合され、そして第1のインバー
タ18の出力を規定する。トランジスタP2のソースは
、より低い電力源電圧vCCに接続され、そしてトラン
ジスタN4のソースは接地電位に接続される。第2のイ
ンバータ20はPチャネルMOSトランジスタP6とN
チャネルMOSt−ランジスタN8から形成され、それ
らのゲート電極は一緒にそして第1のインバータ18の
出力に結合される。トランジスタP6とN8のドレイン
電極もまた、−緒に結合され、第2のインバータ20の
出力を規定する。トランジスタP6のソースは供給電位
■CCに結合され、トランジスタN8のソースは接地電
位に結合される。
制御回路網セクシミン14は、そのドレイン電極が、ト
ランジスタP6およびN8の共通ドレインで入力回路網
セクション12の出力(接続点3)に接続されるNチャ
ネルMOSバストランジスタN10からなる制御手段を
含む。トランジスタN10のソース電極は、リード線2
5を通って出力回路網セクシ3ン16と出力端子セクシ
ョン24に接続される。トランジスタN10のソースと
ドレインは、その導通経路の先端を規定し、モして導通
経路の間に存在するトランジスタN10のゲート電極が
その導通を制御する。接続点3に接続されたトランジス
タNIOのドレインは、そこで第1の電圧を受取るため
に第1の低電圧接続点を規定する。接続点5に接続され
たトランジスタN10のソースは、そこで第2の電圧を
受取るために第2または高電圧接続点を規定する。第1
の電圧の大きさは供給電位VCCより大きくなく、第2
の電圧の大きさは第1の電圧および供給電位VCCより
高い。実際、第2の電圧の大ぎさは供給電位VPPより
も大きい。
NチャネルMoSトランジスタN12は、そのドレイン
およびゲート電極が一緒にそして低電圧供給電位VCC
に接続される。トランジスタN12は電流制限抵抗器の
組み合わせおよびダイオードとしての働きをする。トラ
ンジスタN12のソースはダイオードとして機能するN
チャネルMOS電荷伝送トランジスタN14のドレイン
およびゲート電極に、そしてコンデンサC1の一方の端
部に接続される。コンデンサC1の他方の端部は、自走
発娠器(因示されていない)から正のパルスPUMPX
を受取るために入力端子26に接続される。トランジス
タN14のソースは、プログラムモードトランジスタN
16のドレインとバストランジスタNIOのゲートに接
続される。トランジスタN16のゲートは、プログラム
モードすなわち、第1モードの動作のためのロー論理レ
ベルと第2モードの動作のためのハイ論理レベルの間を
振れるモード選択電圧を受取るために入力端子28に接
続される。トランジスタN16のソースは接地電位に接
続される。
出力回路網セクション16はNチャネルMOS切換1〜
ランジスタN18を含み、そのドレインはより高い電力
源電位VPPに接続され、そのゲートは論理電圧vpx
cに接続され、そしてそのソースがNチャネルMOSト
ランジスタN20のドレインに接続される。トランジス
タN20は電流制限抵抗器の組み合わせおよびダイオー
ドとして機能する。トランジスタN20のゲートもまた
より高い電力源電位VPPに接続される。トランジスタ
N20のソースはダイオードとして機能するNチャネル
MOS電荷伝送トランジスタN22のドレインおよびゲ
ート電極に接続される。NチャネルMOSトランジスタ
N24はコンデンサとして機能するようにそのドレイン
およびソース電極が一緒に接続され、そのゲート電極は
トランジスタN20のソースに接続される。トランジス
タN24の共通ドレインおよびソース電極は、第2の発
振器(図示されていない)から正のパルスPUMPを受
取るために入力端子30に接続される。
トランジスタN22のソースは、ダイオードとして機能
するNチャネルMOS電荷伝送トランジスタN26のド
レインおよびゲート電極に接続される。NチャネルMO
SトランジスタN28はコンデンサとして機能するよう
にそのドレインおよびソース電極が一緒に接続され、そ
してそのゲートはトランジスタN22のソースに接続さ
れる。トランジスタN28の共通ドレインおよびソース
電極は、第2の発振器から正の補数のパルスPUMPを
受取るために入力端子32に接続される。トランジスタ
N26のソースは出力端子24に結合される。第2の接
続点5もまた、接続手段によって出力端子24に接続さ
れる。
一般に既知のように、電界効果トランジスタを含む集積
回路は、1つの導電性(すなわちP型)の領域が相補の
導電性型(すなわちN型)のサブストレートの中または
、Fに形成されたものを含む。
Pチャネル電界効果トランジスタはその導電性を制御す
るために、導通チャネルとそのチャネルの上にある制御
電極の端部を規定する2つの隣接して分散されたソース
およびドレイン領域から形成されてもよい。分散した領
域とサブストレートの間のインターフェイスで、PN接
合が形成される。
PチャネルトランジスタP6を特定に参照すると、その
ソースおよびドレイン領域はN導電性型のサブストレー
トに分散または埋設されるP導電性型であることが注目
されるであろう。このN導電性型サブストレートはより
低い電力源電位VCCに接続されると仮定されている。
先に述べたように、トランジスタP6のP導電性型のド
レイン領域は第1の電圧を受取るために接続手段によっ
て第1の接続点に接続される。こうして、第1の接続点
く接続点3)すなわちトランジスタP6のドレイン領域
で受取ることができる最も正の電圧は、それがサブスト
レートとともに形成するPN接合を通って順方向に導通
することを妨げるために、供給電位700以上であって
はならない。トランジスタP6のサブストレートは供給
電位■CCで動作されると仮定されているので、第1接
続点のトランジスタP6のドレイン領域は第2の接続点
(接続点5)で現われる供給電位■CCより高い電圧か
ら分離されなければならない。トランジスタP6で例示
されるPN接合はCMOSインバータ20の中にあるが
、PN接合は他のCMOS回路設計の一部であってもよ
いことは当業者によって明らかに理解されるはずである
図で示された発明を具体化する集積回路はEPROMの
デコーダに用いるために設計された。動作の続出モード
または第1のモードの間、入力端子26の第1の発振器
はオンにされ、入力端子30および32の第2の発振器
はオフにされ、そして入力端子28のプログラムモード
電圧はトランジスタN16をオフにするようにロー論理
レベルである。さらに、入力端子31での論理電圧VP
XCもまた、トランジスタN18を非導通にするように
ロー論理レベルである。正のパルスPUMPXはコンデ
ンサC1を充電し、充電された伝送トランジスタN14
を通ってトランジスタN10のゲート(接続点4)にそ
の電圧を伝送してより低い電力源電位■CC以上に電圧
を汲み上げる。。
入力電圧V、。はロー論理レベルであることを最初に仮
定すると、Oボルトの電圧はトランジスタN10のドレ
イン(接続点3)で受取られるであろう。トランジスタ
N10のゲートに与えられる電圧は供給電位vCCより
高いレベルまで汲み上げられているので、トランジスタ
N10はより導通にされ、そのため第1の接続点での第
1の電圧は導通経路を通過して第2の接続点く接続点5
)に達することができる。こうして、端子24の出力電
圧は第1の接続点での電圧と同じとなるであろう。
入力電圧Vlnがハイ論理レーベルまで切換わると、接
続点3は供給電位vCCにまで充電するであろう。これ
はトランジスタN10が過度に駆動されることをひきお
こし、そして第2の接続点の電圧を第1の接続点の供給
電圧VCCにクランプし、それによって全供給電位■C
Cがしきい値電圧降下なしに、出力端子に与えられるこ
とを実質的に可能にする。言い換えれば、読出モードの
間、低電圧接続点で受取られた第1の電圧は導通経路を
介して高電圧接続点へと進むことができ、そのため出力
端子の電圧はしきい値電圧降下の損失なしに第1の電圧
に従うであろう。
書込モードすなわち第2モードの動作の間、第1の発振
器はオフにされ、第2の発振器はオンにされ、そしてプ
ログラムモード電圧はトランジスタN16をオンにする
ようにハイ論理レベルである。さらに、端子31での論
理電圧もまたトランジスタN18をオンにさせるように
ハイ論理レベルであり、これはより高い電力源電位VP
PがトランジスタN20のドレインに与えられることを
可能にする。その結果、トランジスタN10のゲート(
接続点4)は供給電位VCCの約2分の1なすわちVC
C/2でバイアスされ、これによってトランジスタNI
Oが部分的にオンにされることが可能となる。こうして
、入力電圧■、。がロー論理レベルからハイ論理レベル
へ切換えられるとき、低電圧接続点の初期電圧は、ゲー
ト電圧より1つのしきい値電圧降下分だけ低いレベルに
第2の接続点が達するとぎまで、チャネルを通って高電
圧接続点へと進められるであろう。そのとき、トランジ
スタN10はあまり導通状態でなくなるか、またはオフ
にされる。その結果、第2のすなわち高電圧接続点(接
続点5)はトランジスタN10の導通経路によって第1
すなわち低電圧接続点く接続点3)から分離される。正
のパルスPUMPとその補数のパルスPUMPはトラン
ジスタ22.24.26および28を介して第2の接続
点の第2の電圧のレベルを供給電位■CCおよびVPP
より高い第2の電圧にまで汲み上げるであろう。
もしトランジスタN10がオンされたままであるなら、
第2のより高い電圧は第2の接続点から導通経路を通っ
て第1の接続点まで通過し、次にトランジスタP6のp
Hll!性型領域(上型領域)に与えられることが注目
されるであろう。トランジスタP6のN導電性型サブス
トレート領域はより低い電力源電位vCCに接続される
と仮定されていたので、これはPN接合が順方向にバイ
アスされるのを引きおこし、CMOSラッチアップをも
たらすことになる。書込動作モードの間、トランジスタ
NIOを自動的にオフにすることによって、出力端子2
4はCMOSインバータにラッチアップを引き起こすこ
となく、第2のすなわちより高い電圧(これは第1の電
圧および供給電位VCCより高い)にまで汲み上げられ
ることが可能となる。さらに、読出動作モードの間、ト
ランジスタN10をオンにすることによって、出力端子
24は第1の低電圧接続点で受取られた第1の電圧に従
うことが可能となり、それによって、しきい値電圧降下
の損失なしにより低い電力源電位VCCまでずっと充電
する。
この発明はEPROMのデコーダに接続して例示されて
きた。しかし、明らかにこの発明は供給電圧で動作され
るNyI!A電性型と供給電位を越えて充電される電圧
から分離されることになっているP導電性型領域とを含
むいかなるモノリシックな集積回路にも応用可能である
。NチャネルMOSトランジスタN10は第1の動作モ
ードの間、低電圧接続点を高電圧接続点に結合させ、そ
して第2の動作モードの間、高電圧接続点を低電圧接続
点から分離させるために用いられてきた。
上の詳細な説明から、この発明はCMOSラッチアップ
を防げるように0M08回路網のための高電圧絶縁回路
を提供することがわかる。NチャネルMOSバストラン
ジスタはPN接合の順方向のバイアスを防ぐように低電
圧接続点から高電圧接続点を分離させるために採用され
、それによってラッチアップを避ける。
この発明の現在の好ましい実施例が例示され説明されて
きたが、発明の範囲から逸脱することなく、種々の変化
や修正がなされてもよく、同等のものがそれの要素に代
用されてもよいことは当業者によって理解されるであろ
う。さらに、それの中心の範囲から逸脱することなく、
特定の状況または材料を発明の教示に適合させるように
多くの修正がなされてもよい。それゆえ、この発明はこ
の発明を実施するために考えられる最善の方法として開
示された特定の実施例に限定されるのではなく、この発
明ガ添付の特許請求の範囲の範囲内にある実施例のすべ
てを含むことが意図される。
【図面の簡単な説明】
図面は相補形金属酸化物半導体(0MOS)回路網のた
めの高電圧分離回路10の概略図である。 図において、10は高電圧絶縁回路、12はCMO3入
力回路網セクション、14は制御回路網セクション・、
16は出力回路網セクション、18は第1のインバータ
、20は第2のインバータ、22.26.28.3oお
よび32は入力端子、24は出力端子、25はリード線
である。

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)CMOS回路網のための高電圧絶縁回路であって
    : N導電性型のサブストレートおよびPN接合を形成する
    ために前記サブストレート内に分散されたP導電性型領
    域を含む入力手段と; 前記サブストレートに供給電位を与えるための手段と: 導通経路および制御電極を有する制御手段とを含み、導
    通経路の一方の端部がそこで第1の電圧を受取るための
    第1の接続点を規定し、導通経路の他方の端部はそこで
    第2の電圧を受取るための第2の接続点を規定し、前記
    第1の電圧は供給電位より大きくなく、前記第2の電圧
    は前記第1の電圧および供給電位より高く; 前記第1の接続点を前記領域に接続させるための手段と
    : 第2の接続点を第2のより高い電圧にまで汲み上げるた
    めの出力手段と; 第2の接続点を出力端子に接続するための手段とを含み
    ; 前記制御手段の前記制御電極がローモードセレクシヨン
    電圧に応答して、第1の接続点の前記第1の電圧が導通
    経路を通って第2の接続点に進むことを可能にし、その
    ため出力端子の電圧は前記出力汲み上げ手段が不活性化
    されているとき、第1の電圧に従い;さらに 前記制御手段の前記制御電極はハイモードセレクシヨン
    電圧に応答し、第2の接続点の前記第2の電圧が前記導
    通経路を通って第1の接続点に進むことを妨げ、そのた
    め第1の接続点は前記出力汲み上げ手段が活性化されて
    いるとき、第2の接続点の第2の電圧から分離され、そ
    れによつてPN接合の順方向のバイアスを避ける、回路
  2. (2)前記制御手段がNチャネルMOSバストランジス
    タを含み、そのソースおよびドレインが前記導通経路の
    端部を形成し、そのゲートが前記制御電極を形成する、
    特許請求の範囲第1項に記載の絶縁回路。
  3. (3)前記入力手段が1対の第1および第2のCMOS
    インバータを含む、特許請求の範囲第1項に記載の絶縁
    回路。
  4. (4)前記第2のインバータがPチャネルMOSトラン
    ジスタとNチャネルMOSトランジスタから形成される
    、特許請求の範囲第3項に記載の絶縁回路。
  5. (5)前記PチャネルトランジスタがN導電性型サブス
    トレートに分散されるP導電性型領域を規定するドレイ
    ンを有する、特許請求の範囲第4項に記載の絶縁回路。
  6. (6)前記バストランジスタのゲートの電圧を第1の電
    圧より高いレベルにまで汲み上げるための、第2の汲み
    上げ手段をさらに含み、そのため第1の電圧がしきい値
    電圧降下なしに前記導通経路を通って第2の接続点まで
    進められる、特許請求の範囲第2項に記載の絶縁回路。
  7. (7)前記入力手段がそこに入力信号を与えるための入
    力端子を含む、特許請求の範囲第1項に記載の絶縁回路
  8. (8)前記入力手段が第1のインバータと第2のインバ
    ータとを含み、前記第1のインバータは入力信号を受取
    るための入力を有し、その出力は前記第2のインバータ
    の入力に接続され、前記第2のインバータはその出力が
    前記第1の接続点に接続される、特許請求の範囲第1項
    に記載の絶縁回路。
  9. (9)前記出力汲み上げ手段が少なくとも、そのドレイ
    ンおよびソース電極が一緒に接続される第1のNチャネ
    ルMOSトランジスタと、そのドレインとゲート電極が
    一緒に、そして前記第1のトランジスタのゲートに接続
    される第2のNチャネルMOSトランジスタからなり、
    前記第2のトランジスタのソースは前記出力端子に結合
    され、前記第1のトランジスタはコンデンサとして機能
    し、そして前記第2のトランジスタはダイオードとして
    機能する、特許請求の範囲第1項に記載の絶縁回路。
  10. (10)前記第2の汲み上げ手段がコンデンサと、その
    ドレインとゲート電極が一緒に、そして前記コンデンサ
    の一方の端部に接続されるNチャネルMOS電荷伝送ト
    ランジスタからなり、電荷伝送トランジスタのソースは
    前記バストランジスタのゲートに接続される、特許請求
    の範囲第6項に記載の絶縁回路。
  11. (11)N導電性のサブストレートと; 前記サブストレート内に埋設され、そしてそれとともに
    PN接合を形成するP導電性型の領域と;供給電位を前
    記サブストレートに与えるための手段と; NチャネルMOSバストランジスタとを含み、その導電
    性を制御するために、そのソースおよびドレイン電極は
    導通経路の端部を規定し、そのゲート電極は導通経路の
    上にあり、前記ソースおよびドレイン電極の一方はそこ
    で第1の電圧を受取るための第1の接続点を形成し、前
    記ソースおよびドレイン電極の他方はそこで第2の電圧
    を受取るための第2の接続点を形成し; 前記第1の接続点を前記領域に接続するための手段とを
    含み;さらに 前記ゲート電極はローモードセレクション信号に応答し
    て、第1の動作モードに対して前記導通経路をより導電
    状態にさせ、そこでは前記第1の接続点が前記第2の接
    続点に結合され、そのため前記第2の電圧は前記供給電
    位より大きくない前記第1の電圧に従い、そしてまた前
    記ゲート電極はハイモードセレクシヨン信号に応答して
    、第2の動作モードに対して前記導通経路があまり導電
    状態でなくなるようにさせ、そこでは前記第2の接続点
    が前記第1の接続点から分離され、そのため前記供給電
    位より高く充電されることが可能である前記第2の電圧
    は前記領域に与えられることが妨げられ、それによって
    ラッチアップを避ける、集積回路。
JP61124627A 1985-05-29 1986-05-28 高電圧絶縁回路 Pending JPS61277227A (ja)

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