JPH0439784B2 - - Google Patents

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JPH0439784B2
JPH0439784B2 JP59500432A JP50043284A JPH0439784B2 JP H0439784 B2 JPH0439784 B2 JP H0439784B2 JP 59500432 A JP59500432 A JP 59500432A JP 50043284 A JP50043284 A JP 50043284A JP H0439784 B2 JPH0439784 B2 JP H0439784B2
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channel transistor
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bias voltage
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    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K3/00Circuits for generating electric pulses; Monostable, bistable or multistable circuits
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05FSYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
    • G05F3/00Non-retroactive systems for regulating electric variables by using an uncontrolled element, or an uncontrolled combination of elements, such element or such combination having self-regulating properties
    • G05F3/02Regulating voltage or current
    • G05F3/08Regulating voltage or current wherein the variable is dc
    • G05F3/10Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics
    • G05F3/16Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices
    • G05F3/20Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations
    • G05F3/205Substrate bias-voltage generators

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  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Radar, Positioning & Navigation (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Logic Circuits (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Description

請求の範囲 1 共通の基板上に1緒に形成され、基板はそこ
に電圧を印加し、他方、前記基板上の半導体デバ
イスは、電源電圧を印加されることを保証するバ
イアス電圧制御回路を具える集積回路にして、 バイアス電圧源および電源電圧源を基板に与え
る手段と、 前記バイアス電圧が存在する場合には前記バイ
アス電圧を前記基板に結合させる第1手段と、 前記バイアス電圧が存在しない場合には前記電
源電圧を前記基板に結合させる第2手段と、を具
える基板バイアス制御回路。
2 前記バイアス電圧が存在しない場合には、前
記のバイアス電圧を与える手段を前記基板から減
結合させる手段を更に含む前記請求の範囲第1項
の集積回路。
3 前記第2結合手段は、更に、 前記バイアス電圧が存在し前記電源電圧以下で
1つのPチヤネルしきい値より高い値を有する場
合に、前記の電源電圧を与える手段を前記基板か
ら減結合させる手段を具える前記請求の範囲第1
項記載の集積回路。
4 前記バイアス電圧は、前記電源電圧以下で1
つのPチヤネルしきい値より高い前記請求の範囲
第1項記載の集積回路。
5 集積回路基板は、電圧をそこに印加し、他
方、 前記基板上の半導体デバイスは、電源電圧をそ
こに印加することを保証する方法にして、 バイアス電圧源および電源電圧源を基板に与え
るステツプと、 前記バイアス電圧が存在する場合には第1に前
記バイアス電圧を前記基板に結合させるステツプ
と、 第2に、前記バイアス電圧が存在しない場合に
は前記電源電圧を前記基板に結合させるステツプ
と、を具える基板バイアス制御方法。
6 前記バイアス電圧が存在しない場合には前記
基板から前記バイアス電圧を減結合させるステツ
プを更に含む前記請求の範囲第5項の方法。
7 前記バイアス電圧が存在する場合には前記基
板から前記電源電圧を減結合させるステツプを更
に含む前記請求の範囲第5項の方法。
8 基板バイアスバスを回路接地(circuit
ground)に接続させ、その第1入力を電源電圧
バスに接続させている第1スイツチング手段と、 前記電源電圧バスと前記回路接地との間に接続
され、その入力ノードを前記基板バイアス電圧バ
スおよびその出力ノードに接続させているインバ
ータ手段と、 前記電源電圧バスおよび基板バイアス電圧バス
をそれぞれ基板接点に結合させる第2および第3
スイツチング手段とを含み、 前記第2スイツチング手段はその第2入力を前
記基板バイアス電圧バスに接続させ、前記第3ス
イツチング手段はその第3入力を前記出力ノード
に接続させている、 基板バイアス電圧制御回路。
9 前記第1、第2および第3スイツチング手段
はMOSトランジスタを含む前記請求の範囲第8
項の基板バイアス電圧制御回路。
10 前記第1スイツチング手段はNチヤネルデ
バイスを含み、前記第2および第3スイツチング
手段はPチヤネルデバイスを含み、前記インバー
タ手段はCMOSインバータを含む前記請求の範
囲第9項の基板バイアス電圧制御回路。
発明の背景 本発明は、一般的には基板バイアス制御回路お
よび方法に関する。更に詳しく云うと本発明は、
別個の電圧レベルを用いてCMOSデバイスへの
電源電圧および基板電圧の印加を制御する上で特
に有用な上記の回路および方法に関する。
スケール(基準化:scale)されたCMOSデバ
イス、即ちチヤネルの長さが1.25ミクロン程度の
CMOSデバイスは適当な動作を行うためには電
源(VCC)を小さくする必要がある。即ち、チヤ
ネルの長さが短かくなるにつれて、短チヤネルデ
バイスのしきい値電圧の過渡のドレイン電圧低下
をさせるためには、同時に電源電圧レベルを下げ
ることが要求される。しかし、かような低下した
電源電圧レベル(3ボルトの範囲)は、従来の
CMOS入力保護構造が用いられた場合には従来
の5.0ボルト入力論理スイング(swing)を受け入
れることを妨げる。即ち、CMOS技術において
従来行われているように3.0ボルトのVCC電源をN
形基板に接続すると、入力保護回路にPNダイオ
ードを用いることができなくなる。従つて、5.0
ボルト(VBB)の基板デバイスをスケールされた
CMOS回路に印加する新規な技術が提案されて
おり、この技術は入力保護回路のPNダイオード
を保持ししかも5.0ボルトの入力論理スイングを
そこに印加できるようにするものである。この技
術の更に詳しい説明は、1982年12月23日付でチヤ
ールスS.メイヤーによつて出願され本発明の譲受
人に譲渡された米国特許出願第452532号に述べら
れている。しかし、これらの小さい形状の
CMOSデバイスに5.0ボルトの基板デバイス電圧
および別個の3.0ボルトの電源電圧を用いる場合
には、電源電圧の前に基板電圧を印加することが
必要である。もし電源電圧が印加される前に基板
がデバイスされないと、Pチヤネルデバイスのゲ
ート保護ダイオードおよびソース−基板接合部に
順方向バイアスがかゝることによりチツプが損傷
をうけるおそれがある。典型的な場合には、従来
のCMOS構造は内部で基板を直接にVCC電源に接
続させ、デバイスがパワーアツプされると必ず基
板バイアスが確実にかゝるようになつている。
従つて、本発明の目的は、改良された基板バイ
アス制御回路および方法を提供することである。
本発明のもう1つの目的は、チツプに結果的に
損傷を生じさせずにいづれの順序(sequence)
においても別個の回路電源電圧および基板バイア
ス電圧を印加又は除去できるようにする改良され
た基板バイアス制御回路および方法を提供するこ
とである。
本発明の更にもう1つの目的は、基板電圧が印
加されるまで基板を電源電圧に接続することによ
つて基板バイアス電圧がなくても回路電源電圧の
みでチツプ動作ができるようにする改良された基
板バイアス制御回路および方法を提供することで
ある。
本発明の更にもう1つの目的は、回路電源電圧
源と基板バイアス電圧電源との間の絶縁(分離:
isolation)を可能にする改良された基板バイア
ス制御回路および方法を提供することである。
本発明の更にもう1つの目的は、公称オンチツ
プ面積のみを必要として簡単に実行される改良さ
れた基板バイアス制御回路および方法を提供する
ことである。
本発明の更にもう1つの目的は、ごく僅かな回
路電力しか散逸させない改良された基板バイアス
制御回路および方法を提供することである。
発明の要約 上記の目的およびその他の目的は、共通基板上
に形成された基板バイアス電圧制御回路を含む集
積回路が備えられており、その基板がそこに印加
された電圧を有し、一方、その基板上の半導体デ
バイスがそこへ印加された電源電圧を有すること
を保証し、基板にバイアスおよび電源電圧源を与
える手段を含む本発明において達成される。バイ
アス電圧が存在する場合には先づ第1にバイアス
電圧を基板に結合させる手段、およびバイアス電
圧が存在しない場合には第2に電源電圧を基板に
結合させる手段もまた含まれている。
集積回路がそこへ印加された電圧を有し、一方
では基板上の半導体デバイスがそこへ印加された
電源電圧を有することを保証し、基板にバイアス
および電源電圧源を与えるが、バイアス電圧が存
在しない場合には第一にバイアス電圧を基板に結
合させ、バイアス電圧が存在しない場合には第2
の電源電圧を基板に結合させるステツプを含む方
法もまた提供されている。
【図面の簡単な説明】
本発明の上記の、およびその他の特徴および目
的、およびそれらの特徴および目的を達成する方
法は、添付した図面ならびに本発明の実施例につ
いての下記の説明を参照することによつて最もよ
く理解される。
第1図は、本発明とともに用いるための
CMOSインバータに対する典型的な入力保護回
路の簡略化した概略図である。
第2図は、集積回路への電源電圧および基板電
圧の印加を制御するのに用いるための本発明の好
ましい実施例の概略図である。
好ましい実施例の説明 さて第1図を参照すると、本発明とともに用い
るためのCMOS入力保護回路10が示されてい
る。CMOS入力保護回路10は、Pチヤネルト
ランジスタ18とNチヤネルトランジスタ22か
らなるCMOSインバータをVI線24上に現われ
る過度の電圧入力から保護するため集積回路を含
む。VI線24は拡散抵抗16を介してPチヤネ
ルトランジスタ18およびNチヤネルトランジス
タ22の共通接続ゲートに結合されている。拡散
抵抗16と集積回路基板のインタフエースにダイ
オード12が形成されている。基板バイアス電圧
源を基板接点34を介してダイオード12の陰極
に印加してもよい。従来のCMOS入力保護回路
では、基板接点34は電源電圧(VCC)源に接続
されている。しかし、1982年12月23日付でチヤー
ルスS・メイヤーによつて出願され本発明の譲受
人に譲渡されている米国特許第452532号に開示さ
れ、請求されているように、基板接点はまた基板
バイアス電圧(VBB)源にも接続してもよい。こ
の後者の場合には基板接点34はN形基板内の
N+拡散を具えてよい。
その陰極をPチヤネルトランジスタ18とNチ
ヤネルトランジスタ22のゲートに接続させてい
る追加のダイオード14はこれらのゲートをVSS
線32に結合させている。一般的に云うとVSS
32はVCCおよびVBBに関して大地電位に保持さ
れている。電源電圧(VCC)源はPチヤネルトラ
ンジスタ18のソースに印加され、このトランジ
スタはそのドレインをNチヤネルトランジスタの
ドレインに接続させている。このソースおよびN
チヤネルトランジスタ22がそこに形成されてい
るP形ウエルはVSS線32に接続されている。P
チヤネルトランジスタ18とNチヤネルトランジ
スタ22の共通接続ドレインに現われる出力信号
はV0線26に印加される。
CMOS入力保護回路10を用いる場合、基板
接点34を5.0ボルトのVBB源に接続すると、VI
24上の入力信号はダイオード12をオンにせず
に5.0ボルトのレベルを超えて1ダイオードドロ
ツプ(one diode drop)以上正になることがで
きないことが判る。従つて、VI線24上に現わ
れる5ボルト入力スウイングは、スケールされた
CMOS回路を用いた場合にみられるように3.0ボ
ルトのVCCレベルでもPチヤネルトランジスタ1
8とNチヤネルトランジスタ22からなるインバ
ータに印加できる。しかし、基板接点34に印加
する電圧は電源電圧VCCより前に印加することが
必要である。従来のCMOS技術においては、こ
のことは基板にバイアスをかけるためにVCCを基
板接点34に供給することによつて行われてい
る。バイアス電圧を基板接点34に印加する前に
電源電圧VCCを印加すると、ゲート保護ダイオー
ド12ならびにPチヤネルトランジスタ18のよ
うなPチヤネルトランジスタのソース−基板接合
部に順バイアスをかけることから生じる損傷が集
積回路に起きる。
さて次に第2図を参照すると、基板接点34へ
のバイアス電圧の印加を制御する基板バイアス電
圧制御回路20が示されている。基板バイアス電
圧制御回路20は電源電圧(VCC)源のみでなく
基板バイアス電圧(VBB)源をも独立して基板接
点34に結合する。図示されているように、Nチ
ヤネルトランジスタ36はそのソース接点をVSS
線32に接続させ、そのドレイン接点をVBB線3
0に接続させている。Nチヤネルトランジスタ3
6のゲート電極はVCC線28に接続されている。
Nチヤネルトランジスタ36のドレイン接点は、
ノード46を定義している(define)。ノード4
6やVBB線30と電気的に共通であるが、明確に
するためにノード46として参照されることは注
目される。
ノード46上に現われる信号は、Nチヤネルト
ランジスタ44と並列のPチヤネルトランジスタ
42を含む従来のCMOSインバータの入力に印
加される。このインバータはVSS線32である接
地(ground)に関してVCC線28によつて供給さ
れる。Pチヤネルトランジスタ42とNチヤネル
トランジスタ44の共通接続ドレインに現われる
出力はノード48に印加され、Pチヤネルトラン
ジスタ40のゲートに印加される。Pチヤネルト
ランジスタ40はそのソースをVBB線30に接続
させ、そのドレインを基板接点34に接続させて
いる。Pチヤネルトランジスタ38のドレインも
基板接点34に接続されており、そのソース接点
をVCC線28に接続させている。Pチヤネルトラ
ンジスタ38のゲートはVBB線30に接続されて
いる。
VCCのみまたVSSを印加した場合 動作中、3.0ボルトがVCC線28、Pチヤネルト
ランジスタ42とNチヤネルトランジスタ44か
らなるインバータ、およびNチヤネルトランジス
タ36のゲートに印加される。このためNチヤネ
ルトランジスタ36のチヤネルを反転させ、これ
はノード46に接続されたデバイスゲートを接地
させる。この結果、Pチヤネルトランジスタ38
は導通しVCC線28上に現われる3.0ボルトを基板
接点34に接続させ、Pチヤネルトランジスタ4
2は導通してノード48を3.0ボルトに上昇させ、
これはPチヤネルトランジスタ40をオフに保
つ。今やチツプはVCC線28上に現われる3.0ボル
トに等しいその基板バイアスによつて機能するこ
とができ、VI線24上に現われる論理スイング
が、振幅3.0ボルトを超えない場合、満足に動作
するであろう。
VCCおよびVBBおよびVSSを印加した場合 次に5.0ボルトがVBB線30に印加されると、ノ
ード46は5.0ボルトに上昇され、これはPチヤ
ネルトランジスタ38および42をターンオフ
し、Nチヤネルトランジスタ44をターンオンし
てノード48をドライブして接地又はVSSにする。
この結果Pチヤネルトランジスタ40は導通して
5.0ボルトを基板接点34に接続する。Nチヤネ
ルトランジスタ36は5.0ボルトに等しいVDSで導
通し続けるが、Nチヤネルトランジスタ36は非
常に長くて狭いチヤネル(非常に低いZ/L比)
に設計されており、所定の非常に低い電流を消費
させる点に注目されたい。2つの電圧源VCCおよ
びVBBはPチヤネルトランジスタ38のゲートを
より高い電圧に保つことによつて効果的に減結合
され、デバイスを非導通状態に保つ。
VCCからVBBへの基板電圧制御間の過渡的切換
えは、VCCが一定の3ボルトに保たれVBBが0ボ
ルトから5.0ボルトにランプ(傾斜:ramp)され
る場合の状態と考えてもよい。この状態はVBB
圧源がターンオンになり、一方でVCC電圧源がタ
ーンオンになつた時に起きる。VBB<VTNである
限りにおいては、VCC電圧源はオンになつてい
る。VBB<VTNである限りにおいては、Nチヤネ
ルトランジスタはオンになつている。VTN<VBB
<(VCC+VTP)である場合には、Pチヤネルトラ
ンジスタ42およびNチヤネルトランジスタ44
はいづれもオンであつて分圧器として動作する。
それらのZ/L比の相対値の故にノード48は
VCCに近い電圧に保たれ、このことはPチヤネル
トランジスタ40をオフに保つが、Pチヤネルト
ランジスタ38をオンに保つ。VBB>(VCC+VTP
の場合には、Pチヤネルトランジスタ38および
42はいづれもオフになり、ノード48は接地
し、Pチヤネルトランジスタ40はオンになり、
基板電圧はVBBによつて決定される。瞬時VBB
(VCC+VTP)を超えると、Pチヤネルトランジス
タ42およびNチヤネルトランジスタ44は効果
的に分圧器からインバータに変り、基板電圧の制
御はVCCからVBBに切換えられる。
上記の説明から、Pチヤネルトランジスタ42
およびNチヤネルトランジスタ44のZ/L比は
広い範囲にわたつて異なる値を有しなければなら
ないことが判る。Pチヤネルトランジスタ38お
よび40に対するZ/L比は、予期される最大基
準電流の条件の下で容認しうる程度に低いチヤネ
ル電圧低下を与えるべきである(450/1.25が満
足すべき比であることが見出されている)。Nチ
ヤネルトランジスタ36および44に対するZ/
L比は約6/80において容認しうる程度に低い電
流消費を与える。Pチヤネルトランジスタ38お
よび40に対するZ/L比と同じZ/L比をPチ
ヤネルトランジスタ42に用いることによつてレ
イアウトは簡略化される。
VBBのみを、またVSSを印加した場合 5.0ボルトをNチヤネルトランジスタ44に印
加すると、そのチヤネルは反転し、それによりノ
ード48は接地する。このためPチヤネルトラン
ジスタ40は導通し、5.0ボルトを基板接点34
に接続する。5.0ボルトがそのゲートにすると、
Pチヤネルトランジスタ38はオフに保たれ、こ
れは回路の残りの部分から5.0ボルトを減結合さ
せる。
次に3.0ボルトをVCC線28に印加すると、ノー
ド46およびノード48の電圧は不変であり、P
チヤネルトランジスタ38およびPチヤネルトラ
ンジスタ40の状態は3.0ボルトの印加前の状態
と同じにとゞまつている。しかし、Nチヤネルト
ランジスタ36はオンになり、上述したように非
常に低い電流を導通する。この場合にもまたPチ
ヤネルトランジスタ38はそのゲートに5.0ボル
トを有してオフに保たれて、これら2つの印加さ
れた電圧を互に分離している。
VCCおよびVBBを印加した場合(VSSは印加せず) この場合には、VSSがないとノード48の電圧
は不定となる。しかしノード48がどのような電
圧をとろうともPチヤネルトランジスタ38はオ
フに保持され続ける。という訳は、そのゲートは
2つの印加された電圧のうちの高い方の電圧、即
ちVBBに保たれるからである。このため2つの電
圧は互に確実に分離される。
次にVSSを印加すると、上述したように正常な
動作が起きる。
Pチヤネルトランジスタ38およびPチヤネル
トランジスタ40は、(直線領域で動作する)そ
れらのソース−ドレイン電圧低下が予期される最
大基準電流にとつて無視しうる程小さいものであ
るようにするために、非常に大きいZ/L比を用
いて設計されている。上述したように、Nチヤネ
ルトランジスタ36について設計されたZ/L比
はこのデバイスのドレイン電流を容認しうる程度
に低い値に保つの十分な程度に小さくなつてい
る。
3.0ボルトのVCCおよび5.0ボルトのVBBの値は1
例として示してあるにすぎないという点に注目す
べきである。という訳は、トランジスタ自体の電
圧限界内でこの回路は任意の2つの電圧で機能す
るからである。通常の使用では基板バイアス電圧
は定常状態の条件下では決して電源電圧以下には
ならないという点に注目すべきである。
従つて上記に説明したのは、チツプに結果的に
損傷を生じさせるにいづれの順序(sequence)
においても別個の回路電源電圧および基板バイア
ス電圧を印加又は除去できるようにする改良され
た基板バイアス制御回路および方法である。本発
明の回路および方法は、基板電圧が印加されるま
で基板を電源電圧に接続することによつて基板バ
イアス電圧がなくても回路電源電圧のみで集積回
路チツプ動作ができるようにする。本発明の回路
および方法は回路電源電圧源と基板バイアス電圧
電源との間の絶縁を更に可能にする。更に、本発
明の改良された基板バイアス制御回路および方法
は公称オンチツプ面積のみを必要として簡単に実
施されると同時にごく僅かな回路電力しか消費さ
せない。
特殊な装置とともに本発明の原理を上記に説明
したが、この説明は1例として述べたにすぎず、
本発明の範囲を制限するものとして述べたもので
はないことを明確に理解すべきである。
JP59500432A 1983-02-07 1983-12-15 基板バイアス制御回路および方法 Granted JPS60500433A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
US464163 1983-02-07
US06/464,163 US4473758A (en) 1983-02-07 1983-02-07 Substrate bias control circuit and method

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JPS60500433A JPS60500433A (ja) 1985-03-28
JPH0439784B2 true JPH0439784B2 (ja) 1992-06-30

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JP (1) JPS60500433A (ja)
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