JPH0442855A - 磁器組成物及びその製造方法 - Google Patents

磁器組成物及びその製造方法

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JPH0442855A
JPH0442855A JP2150255A JP15025590A JPH0442855A JP H0442855 A JPH0442855 A JP H0442855A JP 2150255 A JP2150255 A JP 2150255A JP 15025590 A JP15025590 A JP 15025590A JP H0442855 A JPH0442855 A JP H0442855A
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JP
Japan
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varistor
mol
ceramic composition
grain boundaries
grain
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Application number
JP2150255A
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English (en)
Inventor
Hidenobu Kondo
近藤 秀信
Takahiro Takada
隆裕 高田
Yutaka Ariake
有明 裕
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Sumitomo Metal Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 り策上Ω皿里玉1 本発明は磁器組成物及びその製造方法、より詳細には電
子機器等において発生するノイズ、パルス、静電気等か
ら回路を保護するために利用されるバリスタと呼称され
る電子部品を構成するためのSr+ −xBaxTIL
 (o、 001≦x≦0.10)を主成分とする磁器
組成物及びその製造方法に関する。
1未二孜l コンピュータ及びOA機器等の情報処理装置の普及にと
もない、これらデジタル機器が発生するノイズによるI
C、トランジスタ等の半導体部品の誤動作が問題となっ
ており、また、半導体部品はサージ、パルス、静電気等
の高電圧で破壊しゃすいという欠点があるので、電子回
路にバリスタ素子を組み込んでそれぞれの部品を保護す
ることが行なわれている。
バリスタとは、印加電圧により抵抗値が非直線的に変化
する機能素子であり、その電圧−電流特性は、I=KV
”で表わされる。ここで、■は素子を流れる電流値、α
は非直線性を示す係数(非直線係数)である。
この電圧−電流特性は材料や動作原理により異なる。 
5rTiOs系バリスタは、結晶粒界に生成する高電気
抵抗の粒界障壁を利用したものであり、同じ動作原理を
持つ機能素子には、SiCバリスタ、ZnOバリスタが
ある。これらバリスタはバリスタ電圧(1mAの電流が
流れた時の端子間電圧)を超える異常電圧に対しては、
急激に抵抗値が低くなるバリスタ機能により、異常電圧
をショートさせて回路内に侵入するのを防ぐ働きをする
しかしながら、SiC,ZnO等の従来のバリスタは静
電容量が低いため高周波成分を持つノイズを殆ど吸収す
ることができなかった。そのためノイズの除去には、見
掛けの誘電率が30000〜50000程度のコンデン
サが使用されてきた。しかし、コンデンサは静電気等に
よりそのコンデンサの耐圧以上の異常電圧が印加される
と破壊されたり、コンデンサ機能が劣化する欠点があっ
た。
一方、コンデンサとZnOバリスタ等で並列回路を構成
し、コンデンサで高周波ノイズを吸収し、バリスタで高
電圧を吸収することが行なわれているが、素子を小型化
できない欠点があった。
そこで、近年5rTiOxを主成分とするバリスタ特性
とコンデンサ特性との両方の機能を持つ複合機能素子が
開発され、実用化されている。その製造方法としては、
粒界を高抵抗化させる物質を素体表面から拡散させる方
法(特開昭61−131501号公報)、あるいは粒界
を高抵抗化させる物質を予め主成分に混合して焼成し、
熱拡散工程を省略する方法(特開昭62−43106号
公報)がある。
現在、実用化されているSrTiO3系バリスタには5
rTiCh系(特開昭56−36103号公報) 、 
Sr+fxBaxTi03系(特開昭59−92503
号公報)等がある。これらのバリスタは、Srを主成分
とし、副成分としてBaの他に半導体化剤であるNb、
 Y、 La、 W、Ta、 Dy等、非直線性改善剤
としてB1、Cu、 Na、 Co、 un、Ni、■
等を元素または化合物の形で添加したものを焼成するこ
とによって製造されることが知られている。通常SrT
iO3系バリスタは厚さ0.5〜1mm、直径0.5〜
1 cm程度の大きさの円板状焼結体に電極とリード線
をつけ、樹脂モールドを施したものが多く用いられる。
このほかに、マイクロモータのノイズ吸収のため、リン
グ状に成形し、片面に複数個の電極を付けたリングバリ
スタも多く使用されている。
明が解 しようとする課題 上記したような、従来の5rTi03系バリスタは、バ
リスタ特性とコンデンサ特性の両方の機能を持つ複合機
能素子であり、かつ小型であるという特徴をもつため、
IC及びLSI等が組み込まれる小型電子機器の保護に
適している。しかし、電子回路の高密度化技術の発達に
より、バリスタとしてより高い静電容量を有し、かつよ
り低いバリスタ電圧v1□をもったものが望まれている
これまで、高静電容量で、かつ低バリスタ電圧を得るた
めには、素体の肉厚を薄(するか、あるいは結晶粒子を
大きくするか、いずれかの方法がとられていた。しかし
、素体の肉厚を薄くする方法では、強度が低下するため
に限界があり、また、結晶粒子を大きくする方法では、
焼成時に異常粒成長が起きて均一な粒子径が得られない
ので、非直線係数αが低下するという課題があった。
本発明は上記した課題に鑑み発明されたものであって、
見掛けの誘電率が大きく、すなわち、高静電容量で、か
つバリスタ電圧が低いばかりでなく、非直線係数aが大
きい機能素子を得ることができる高誘電率バリスタ用の
磁器組成物及びその製造方法を提供することを目的とし
ている。
課1を解′するための 「1 上記した目的を達成するために本発明に係る磁器組成物
は、Sr+−xBaxTtos(0,001≦x≦01
0)からなる主成分100 molに対し、Nb2O6
あるいはSb20mのうちの少なくとも1種を0.00
1〜1.0mol 、 Sno□を0.001〜3.0
mol, CuO、ZrO2あるいはTiO□のうちの
少なくとも1種を0.001〜3.0molの割合で含
有していることを特徴とし、また、Sr+−xBaxT
ios fO,001≦x≦0.101からなる主成分
100 molに対し、NbJsあるいはSb2O5の
うちの少なくとも1種を0.001〜1.Omol、S
nO2を0.001〜3. Omol、CuO、ZrO
xあるいはT10zのうちの少なくとも1種を0001
〜3.0 molの割合で含有して形成された磁器組成
物であって、その結晶粒界がBi、 Li、 Na、 
CoあるいはMnのうち少なくとも1種を含む酸化物の
絶縁層により形成されていることを特徴としている。
さらに、上記磁器組成物の製造方法において、加圧酸素
の雰囲気中で熱処理する工程を含むことを特徴としてい
る。
■ 磁器は、固体拡散を主な過程とする焼結を経て作成され
るが、この焼結に伴う結晶粒子間の反応により、結晶粒
子が成長する。静電容量を有するバリスタの特性のうち
、バリスタとしての特性は、主として上記結晶粒子間の
粒界が持つ特性を利用するものである。従って、バリス
タ電圧■1□及び非直線係数aは、2つの電極間に存在
する結晶粒界の性質及び数によって決定される。
一方、コンデンサとしての特性は、見掛けの誘電率ε、
°は粒界の誘電率ε1を用いて εr′=εrg°r/l で表わされ、全体の静電容量Cは C=ε、°・S/d      で与えられる。
ここで、r:結晶粒子径、t:粒界層の厚さ、S:電極
面積、d:電極間距離をそれぞれ表わしている。
従って、静電容量は結晶粒子径rに比例し、粒界層の厚
さtに反比例する。
このような構造を持つ5rTxOs系バリスタでは、結
晶粒子径を大きくすると、電極間に存在する結晶粒界の
数が少なくなるため、バリスタ電圧は減少し、かつ見掛
けの誘電率及び静電容量は大きくなる。しかし一般に、
5rTiOs磁器は異常粒成長を起こして混粒組織にな
りやすいため、結晶粒子径の大きな組織では、電流の流
れる方向の粒界の数が場所によって異なり、かつ各粒界
層の厚さや成分分布にバラツキを生じる。その結果、個
々の粒界に印加される電圧及び個々の粒界の粒界障壁の
高さにバラツキが生じる。このような構造では印加電圧
に対する電流の立ち上がりの鋭さを表わす指標である非
直線係数αは低下する。従って、高静電容量、低バリス
タ電圧、高非直線係数のすべての要求を満足するために
は、異常粒成長を抑制し、均一で大きな結晶粒径を持つ
組織にすることが必要であり、それとともに、粒界障壁
の形成に寄与する酸素が、適当な濃度で均一に拡散しや
すい粒界を作る組成を選択する必要がある。
そこで、上記した本発明では、Sr+−エ13a、Ti
osiO,001≦x≦0.10+からなる主成分10
0molに対し、NbzOsあるいはSb2O5のうち
の少なくとも1種を0.001=1.Omolの割合で
含有していることにより、半導体化が促進され、5no
2を0.001〜30molの割合で含有していること
により異常な粒成長が抑制され、均一な大きさの粒子か
ら成る組織が形成される。さらに、CuO、ZrO□あ
るいはTiO□のうちの少なくとも1種を0.001〜
3.0 molの割合で含有して形成されることにより
、酸素の均一な拡散を促進する粒界層が形成された磁器
組成物が得られる。
あるいは、前記した磁器組成物であって、その結晶粒界
が、Bi、 Li、 Na、 CoあるいはMnのうち
少なくとも1種を含む酸化物の絶縁層により形成される
ことにより、粒界が高抵抗化して非直線係数が改善され
る。
さらに、前記した両磁器組成物において、加圧酸素の雰
囲気中で熱処理する工程を含むので、酸素は表面より粒
界に均一に拡散し、 で示したように、粒界の酸素空孔と反応、あるいは粒界
面に化学吸着する過程で、 に示したように、粒界近傍から伝導電子を奪い、粒界近
傍に高抵抗の粒界障壁を形成し、従って、非直線係数α
が改善される。ここで、otは酸素、eは伝導電子、■
。は酸素空孔、0トはイオン化した酸素をそれぞれ示す
なお、Sr+−xBaxTiosのXの範囲が0.00
1未満では、非直線係数αは改善されず、Xの範囲が0
、lOを超えると、バリスタ電圧が急に高くなるので、
Xの好ましい範囲は、0.001≦x≦0.lOとなる
また、Nb2O,あるいはsb、osの含有量が0.0
01mo1未満では、半導体化が十分に進まず、1.O
molを超えると未反応の半導体化剤が粒界に偏析し、
拡散工程での粒界の高抵抗化を著しく妨げることとなる
ので、Nb、O,あるいはSbgOsの好ましい含有量
の範囲は0.001〜1. Omolとなる。
また、Snowの含有量が0.001 mo1未満では
、異常粒成長が起き、混粒組織となるので、非直線係数
αは実質的には改善されない、 3.Omolを超える
と、SnO□が焼結体の表面に析出し、焼結体同士が融
着する。従って、 Snowの好ましい含有量の範囲は
、 0.001〜3.Omolとなる。
さらに、CuO、Zr0zあるいはTi0aの含有量が
0.001 mo1未満では、酸素の拡散が不均一で、
非直線係数αは改善されない。3.0 molを超える
と見掛けの誘電率が低下するので、CuO、ZrO2あ
るいはTiO□の好ましい含有量の範囲は0.001〜
3.Omolとなる。
1箔!Jば」1Δ廻 以下本発明に係る磁器組成物及びその製造方法の実施例
を説明する。
第1の実施例として、まず、Sr+−xBaJio3の
Xが第1表に示した値になるように、原料として、純度
99%以上の5rCOa 、 BaC0z 、 TlO
2をそれぞれ秤量、配合し、ボールミルにて24時間混
合した。
混合後、乾燥、粉砕し、1200℃で2時間仮焼した0
次いで前記仮焼粉末をさらにボールミル等を用いて粉砕
して、Sr I−+tBaxTx03の粉末を得た。
次に、前記Sr+−xBaJiOx 100 molに
対して、純度99.9%以上のNbJsあるいはsb、
o、のうちの少なくとも1種の金属酸化物粉末と、純度
99.9%以上のSnO□と、CuO、ZrO7あるい
はTiO□のうちの少なくとも1種の金属酸化物粉末と
を第1表に示した組成で秤量配合し、ボールミルにて2
4時間混合した。混合後、乾燥、粉砕し、1200 ’
Cで2時間仮焼し、さらにボールミル等を用いて粉砕し
た。この粉末に、10wt%のポリビニルアルコール水
溶液をバイングーとして3wt%添加混合し、80メツ
シユパスに造粒し、この造粒粉末を1000kg/cm
2の圧力で円板形に成形した。
これら成形体を空気中において、1000℃の温度で脱
脂した後、N、 (90vo1%) +H2(10vo
1%)の還元性雰囲気中で、1450°Cの温度で4時
間焼成し、直径的10 mm、厚さ約0.5mmの半導
体磁器組成物を得た。
さらに、前記半導体磁器組成物の特性を調べるために、
その両面に銀ペーストを塗布し、800°Cの温度で焼
き付けを行ない、電極を形成し、素子を完成させた。
なお、上記した実施例においては、本発明に係るバリス
タの性質を損なわない範囲で、例えば、鉱化剤であるA
11bi 、 SiO□等を付加しても差し支えない。
また、Sr+−++Ba、wTtoi、NbaOs 、
 5bJs 、 5no2、CuO、ZrO□あるいは
Ti(h等は焼成後の磁器組成物の各成分に相当する金
属酸化物の形で示しているが、最終的に所定の金属酸化
物を得ることができれば良く、出発成分は、金属元素、
炭酸塩、水酸化物燐酸塩、硝酸塩、あるいはシュウ酸塩
としても良い。
第1表の組成によって得られた半導体磁器組成物につい
て、素子の特性評価として見掛けの比誘電率ε、゛、誘
電正接tanδ、バリスタ電圧V 1mA及び非直線係
数αをそれぞれ測定し、結果を第1表に示した。
なお、非直線係数αは1mAの電流が流れたときの端子
間電圧V 1mAと10mAの電流が流れたときの端子
間電圧■、。、とを測定し、次式によって決定した。
また、見掛けの比誘電率ε、°は20℃、IKH,,1
vで測定し、磁器素体の直径と厚みとにより算出した。
(以下余白) 第1表中*印のものは本発明の範囲外のものを示し、そ
れ以外はすべて本発明の範囲内のものを示している。
第1表から明らかなように、本発明の範囲内のバリスタ
用半導体磁器組成物の特性として、見掛けの誘電率ε、
°は50000以上と大きく、更に、バリスフ電圧V 
1ffi&は20V以下で、かつ非直線係数αは10以
上と、優れたコンデンサ及びバリスタの複合機能を有す
る。
さらに、第2の実施例として、純度98%以上のBi、
 Na、 Cu、 Li及びCoの酸化物の粉末、すな
わち、Bi25330 mol、Na2COs 30 
mol 、 CuO30mol 、 LizCOx 5
 mol、C0CO35molの組成となるように各成
分を秤量し、これら混合物100重量部に対し、エチル
セルロースを主成分とする有機溶剤を100重量部混合
し、これを3時間混練して、拡散剤ペーストを得た。
次に、第1の実施例と同様の製造方法かつ、第2表に示
した組成で作成した半導体磁器組成物の主表面に前記拡
散剤ペーストを、乾燥後の重量が単位面積あたり1 m
g/cm”となるように塗布乾燥し、空気中において、
1100℃で1時間熱処理して結晶粒界に拡散剤を熱拡
散させ、バリスタ用半導体磁器組成物を得た。
また、前記半導体磁器組成物の特性を調べるために、そ
の両面に銀ペーストを塗布し、800°Cの温度で焼き
付けを行ない、電極を形成し、素子を完成さた。
なお、上記した実施例においては、Bi、 Li、Na
、 Co、 Cuの金属化合物ペーストの配合を一実施
例として示したが、上記金属化合物のうちの少なくとも
1種の金属化合物を配合したペーストならば、差し支り
はない。
さらに、第1の実施例と同様の方法でバリスタ用半導体
磁器組成物の特性の評価を行ない、その結果を第2表に
示した。
(以下余白) 第2表中*印のものは本発明の範囲外のものを示し、そ
れ以外はすべて本発明の範囲内のものを示している。
第2表から明らかなように、本発明の範囲内のバリスタ
用半導体磁器組成物は、見掛けの誘電率ε、°は500
00以上と大きく、更に、バリスタ電圧V ++amは
20V以下で、かつ非直線係数αは10以上と、優れた
コンデンサ及びバリスタの複合機能を有する。
さらに、第3の実施例として、第1の実施例と同様の製
造方法かつ、第3表に示した組成で作成した半導体磁器
組成物を、圧力100 kg/cm”の純酸素雰囲気中
において、800℃で1時間熱処理し、バリスタ用半導
体磁器組成物を得た。
また、前記磁器組成物の特性を調べるために、その両面
に800℃の温度で銀ペーストの焼き付けを行ない、電
極を形成し、素子を完成させ、第1の実施例と同様の方
法でバリスタ用半導体磁器組成物の特性の評価を行ない
、その結果を第3表に示した。
第3表から明らかなように、本発明の範囲内のバリスタ
用半導体磁器組成物は、非直線係数αが著しく大きい、
優れたバリスタ特性を有する。
さらに、第4の実施例として、純度98%以上のBi、
Na及びCuの酸化物の粉末、すなわちBIJs、Na
CO5及びCuOをモル比で45:45:10の組成と
なるように各成分を秤量し、これら混合物100重量部
に対し、エチルセルロースを主成分とする有機溶剤を1
00重量部混合し、これを3時間混練して、拡散剤ペー
ストを得た。
次(二第1の実施例と同様の製造方法かつ、第4表に示
した組成で作成した半導体磁器の主表面に前記拡散剤ペ
ーストを、乾燥後の重量が単位面積あたり1 mg/c
m”となるように塗布乾燥し、約200℃の温度で乾燥
した。
さらに前記半導体磁器組成物を、圧力2 kg/cm”
の純酸素雰囲気中において、1000℃で30分間熱処
理し、バリスタ用半導体磁器組成物質を得た。
また、前記半導体磁器組成物の特性を調べるために、そ
の両面に800℃の温度で銀ペーストの焼き付けを行な
い、電極を形成し、素子を完成させ、第1の実施例と同
様の方法でバリスタ用半導体磁器組成物の特性の評価を
行ない、その結果を第4表に示した。
(以下余白) 第4表から明らかなように、本発明の範囲内のバリスタ
用半導体磁器組成物は、非直線係数αが著しく太き(、
かつ高静電容量の優れたコンデンサ及びバリスタの複合
機能を有する。
聚肛Ω匁呈 以上の説明により明らかなように、本発明に係る磁器組
成物にあっては、Sr+−xBaJiOa (0,00
1≦x≦0.10)からなる主成分100 molに対
し、Nb2O,あるいはSb2O5のうちの少なくとも
1種を0、001〜1.omolの割合で含有している
ことにより、半導体化を促進し、SnO2を0.001
〜3.0molの割合で含有していることにより異常な
粒成長を抑制し、均一な大きさの粒子から成る組織を形
成することができる。また、CuO、ZrO□あるいは
TiO□のうちの少なくとも1種を0.001〜3.0
 molの割合で含有していることにより、酸素の均一
な拡散を促進する粒界層を有した半導体磁器組成物が得
られ、非直線係数αを改善することができる。
あるいは、前記半導体磁器組成物の結晶粒界がB1、L
i、 Na、 CoあるいはMnのうち少なくとも1種
を含む酸化物の絶縁層により形成されている場合には、
結晶粒界を高抵抗化してさらに非直線係数αを改善する
ことができる。
さらに、前記両生導体磁器組成物の製造方法において、
加圧酸素の雰囲気中で熱処理する工程を含む場合には、
酸素は表面より粒界に均一に拡散し、粒界の酸素空孔と
反応、あるいは粒界面に化学吸着する過程で、粒界近傍
から伝導電子を奪い、粒界近傍に高抵抗の粒界障壁を形
成することができる。
従って、見掛けの誘電率ε、゛が大きく、更に、バリス
タ電圧v1□が低く、かつ非直線係数αが大きい、優れ
たコンデンサ及びバリスタの複合機能素子を形成するこ
とができるので、これら素子をIC,LSI等を組み込
んだ小型電子機器のノイズ対策に用いれば、優れた特性
を発揮させることができる。
特 許 出 願 人 :住友金属工業株式会社代  理
  人 :弁理士 井内龍ニ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)Sr_1_−_xBa_xTiO_3(0.00
    1≦x≦0.10)からなる主成分100molに対し
    、Nb_2O_5あるいはSb_2O_5のうちの少な
    くとも1種を0.001〜1.0mol、SnO_2を
    0.001〜3.0mol、CuO、ZrO_2あるい
    はTiO_2のうちの少なくとも1種を0.001〜3
    .0molの割合で含有していることを特徴とする磁器
    組成物。
  2. (2)Sr_1_−_xBa_xTiO_3(0.00
    1≦x≦0.10)からなる主成分100molに対し
    、Nb_2O_5あるいはSb_2O_5のうちの少な
    くとも1種を0.001〜1.0mol、SnO_2を
    0.001〜3.0mol,CuO、ZrO_2あるい
    はTiO_2のうちの少なくとも1種を0.001〜3
    .0molの割合で含有して形成された磁器組成物であ
    って、その結晶粒界がBi、Li、Na、Coあるいは
    Mnのうち少なくとも1種を含む酸化物の絶縁層により
    形成されていることを特徴とする磁器組成物。
  3. (3)加圧酸素の雰囲気中で熱処理する工程を含むこと
    を特徴とする請求項1または請求項2記載の磁器組成物
    の製造方法。
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