JP2808775B2 - バリスタの製造方法 - Google Patents
バリスタの製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は電気機器,電子機器で発生する異常高電圧,
ノイズ,静電気などから機器の半導体および回路を保護
するためのコンデンサ特性とバリスタ特性を有するバリ
スタの製造方法に関するものである。
ノイズ,静電気などから機器の半導体および回路を保護
するためのコンデンサ特性とバリスタ特性を有するバリ
スタの製造方法に関するものである。
従来の技術 従来、各種の電気機器,電子機器における異常高電圧
の吸収,ノイズの除去,火花消去,静電気対策のために
電圧依存性非直線抵抗特性を有するSiCバリスタや、ZnO
系バリスタなどが使用されている。このようなバリスタ
の電圧−電流特性は近似的に次式のように表すことがで
きる。
の吸収,ノイズの除去,火花消去,静電気対策のために
電圧依存性非直線抵抗特性を有するSiCバリスタや、ZnO
系バリスタなどが使用されている。このようなバリスタ
の電圧−電流特性は近似的に次式のように表すことがで
きる。
I=(V/C)α ここで、Iは電流,Vは電圧,Cはバリスタ固有の定数,
αは電圧−電流非直線指数である。
αは電圧−電流非直線指数である。
SiCバリスタのαは2〜7程度、ZnO系バリスタではα
が50にもおよぶものがある。このようなバリスタは比較
的高い電圧の吸収には優れた性能を有しているが、誘電
率が低く、固有の静電容量が小さいため、バリスタ電圧
以下の比較的低い電圧の吸収にはほとんど効果を示さ
ず、また誘電損失tanδが5〜10%と大きい。
が50にもおよぶものがある。このようなバリスタは比較
的高い電圧の吸収には優れた性能を有しているが、誘電
率が低く、固有の静電容量が小さいため、バリスタ電圧
以下の比較的低い電圧の吸収にはほとんど効果を示さ
ず、また誘電損失tanδが5〜10%と大きい。
一方、これらの低電圧のノイズなどの除去には見かけ
の誘電率が5×104程度で、tanδが1%前後の半導体コ
ンデンサが利用されている。しかし、このような半導体
コンデンサはサージなどによりある限度以上の電圧また
は電流が印加されると静電容量を減少したり、破壊した
りしてコンデンサとしての機能を果たさなくなったりす
る。
の誘電率が5×104程度で、tanδが1%前後の半導体コ
ンデンサが利用されている。しかし、このような半導体
コンデンサはサージなどによりある限度以上の電圧また
は電流が印加されると静電容量を減少したり、破壊した
りしてコンデンサとしての機能を果たさなくなったりす
る。
そこで最近になってSrTiO3を主成分とし、バリスタ特
性とコンデンサ特性の両方の機能を有するものが開発さ
れ、コンピュータなどの電子機器におけるIC,LSIなどの
半導体素子の保護に利用されている。
性とコンデンサ特性の両方の機能を有するものが開発さ
れ、コンピュータなどの電子機器におけるIC,LSIなどの
半導体素子の保護に利用されている。
発明が解決しようとする課題 上記のSrTiO3を主成分とするバリスタとコンデンサの
両方の機能を有する素子は、ZnO系バリスタに比べ誘電
率が約10倍と大きいが、αやサージ耐量が小さく、バリ
スタ電圧を低くすると特性が劣化しやすいといった欠点
を有していた。
両方の機能を有する素子は、ZnO系バリスタに比べ誘電
率が約10倍と大きいが、αやサージ耐量が小さく、バリ
スタ電圧を低くすると特性が劣化しやすいといった欠点
を有していた。
そこで本発明では、誘電率が大きく、バリスタ電圧が
低く、αが大きいと共にサージ耐量が大きいバリスタの
製造方法を提供することを目的とするものである。
低く、αが大きいと共にサージ耐量が大きいバリスタの
製造方法を提供することを目的とするものである。
課題を解決するための手段 そしてこの目的を達成するために本発明は、Sr1-xBax
TiO3(0.001≦x≦0.300)を90.000〜99.998mol%、Nb2
O5,Ta2O5,WO3,Dy2O3,Y2O3,La2O3,CeO2,Sm2O3,Pr6O11,Nd
2O3のうち少なくとも1種類以上を0.001〜5.000mol%、
Al2O3,Sb2O3,BaO,BeO,PbO,B2O3,Cr2O3,Fe2O3,CdO,K2O,C
aO,Co2O3,CuO,Cu2O,Li2O,LiF,MgO,MnO2,MoO3,Na2O,NaF,
NiO,Rh2O3,SeO2,Ag2O,SiO2,SiC,SrO,Tl2O3,ThO2,TiO2,V
2O5,Bi2O3,ZnO,ZrO2,SnO2のうち少なくとも1種類以上
を0.001〜5.000mol%含有してなる主成分100重量部と、
CaTiO360.000〜32.500mol%、SiO240.000〜67.5mol%か
らなる混合物を1200℃以上で焼成してなる添加物0.001
〜10.000重量部とからなる組成物を、1100℃以上で焼成
したしたものである。
TiO3(0.001≦x≦0.300)を90.000〜99.998mol%、Nb2
O5,Ta2O5,WO3,Dy2O3,Y2O3,La2O3,CeO2,Sm2O3,Pr6O11,Nd
2O3のうち少なくとも1種類以上を0.001〜5.000mol%、
Al2O3,Sb2O3,BaO,BeO,PbO,B2O3,Cr2O3,Fe2O3,CdO,K2O,C
aO,Co2O3,CuO,Cu2O,Li2O,LiF,MgO,MnO2,MoO3,Na2O,NaF,
NiO,Rh2O3,SeO2,Ag2O,SiO2,SiC,SrO,Tl2O3,ThO2,TiO2,V
2O5,Bi2O3,ZnO,ZrO2,SnO2のうち少なくとも1種類以上
を0.001〜5.000mol%含有してなる主成分100重量部と、
CaTiO360.000〜32.500mol%、SiO240.000〜67.5mol%か
らなる混合物を1200℃以上で焼成してなる添加物0.001
〜10.000重量部とからなる組成物を、1100℃以上で焼成
したしたものである。
作用 上記の発明において、第1成分は主たる成分であり、
SrTiO3のSrの一部をBaで置換することにより、粒界に形
成される高抵抗槽がサージに対して強くなる。第2成分
は主に第1成分の半導体化を促進する金属酸化物であ
る。また、第3成分は誘電率,α,サージ耐量の改善に
寄与するものであり、第4成分はバリスタ電圧の低下,
誘電率の改善に有効なものである。特に、第4成分は融
点が1230〜1250℃と比較的低いため、融点前後の温度で
焼成すると液相となり、その他の成分の反応を促進する
と共に粒子の成長を促進する。そのため粒界部分に第3
成分が偏析しやすくなり、粒界が高抵抗化されやすくな
り、バリスタ機能およびコンデンサ機能が改善される。
また、粒成長が促進されるためバリスタ電圧が低くな
り、粒径の均一性が向上するため特性の安定性が良くな
り、特にサージ耐量が改善されることとなる。
SrTiO3のSrの一部をBaで置換することにより、粒界に形
成される高抵抗槽がサージに対して強くなる。第2成分
は主に第1成分の半導体化を促進する金属酸化物であ
る。また、第3成分は誘電率,α,サージ耐量の改善に
寄与するものであり、第4成分はバリスタ電圧の低下,
誘電率の改善に有効なものである。特に、第4成分は融
点が1230〜1250℃と比較的低いため、融点前後の温度で
焼成すると液相となり、その他の成分の反応を促進する
と共に粒子の成長を促進する。そのため粒界部分に第3
成分が偏析しやすくなり、粒界が高抵抗化されやすくな
り、バリスタ機能およびコンデンサ機能が改善される。
また、粒成長が促進されるためバリスタ電圧が低くな
り、粒径の均一性が向上するため特性の安定性が良くな
り、特にサージ耐量が改善されることとなる。
実施例 以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
CaTiO3,SiO2を下記の第1表に示すように組成比を種
々変えて秤量し、ボールミルなどで20Hr混合する。次
に、乾燥した後、下記の第1表に示すように温度を種々
変えて焼成し、再びボールミルなどで20Hr粉砕した後、
乾燥し第4成分とする。次いで、第1成分,第2成分,
第3成分,第4成分を下記の第1表に示した組成比にな
るように秤量し、ボールミルなどで24Hr混合した後、乾
燥し、ポリビニルアルコールなどの有機バインダーを10
wt%添加して造粒した後、1(t/cm2)のプレス圧力で1
0φ×1t(mm)の円板状に成形し、1000℃で10Hr焼成
し、脱バインダーする。次に、第1表に示したように温
度と時間を種々変えて焼成(第1焼成)し、その後還元
性雰囲気、例えばN2:H2=9:1のガス中で温度と時間を種
々変えて焼成(第2焼成)する。さらにその後、酸化性
雰囲気中て温度と時間を種々変えて焼成(第3焼成)す
る。
々変えて秤量し、ボールミルなどで20Hr混合する。次
に、乾燥した後、下記の第1表に示すように温度を種々
変えて焼成し、再びボールミルなどで20Hr粉砕した後、
乾燥し第4成分とする。次いで、第1成分,第2成分,
第3成分,第4成分を下記の第1表に示した組成比にな
るように秤量し、ボールミルなどで24Hr混合した後、乾
燥し、ポリビニルアルコールなどの有機バインダーを10
wt%添加して造粒した後、1(t/cm2)のプレス圧力で1
0φ×1t(mm)の円板状に成形し、1000℃で10Hr焼成
し、脱バインダーする。次に、第1表に示したように温
度と時間を種々変えて焼成(第1焼成)し、その後還元
性雰囲気、例えばN2:H2=9:1のガス中で温度と時間を種
々変えて焼成(第2焼成)する。さらにその後、酸化性
雰囲気中て温度と時間を種々変えて焼成(第3焼成)す
る。
こうして得られた第1図,第2図に示す焼結体1の両
平面に外周を残すようにしてAgなどの導電性ペーストを
スクリーン印刷などにより塗布し、600℃,5minで焼成
し、電極2,3を形成する。次に、半田などによりリード
線を取付け、エポキシなどの樹脂を塗装する。このよう
にして得られた素子の特性を下記の第2表に示す。
平面に外周を残すようにしてAgなどの導電性ペーストを
スクリーン印刷などにより塗布し、600℃,5minで焼成
し、電極2,3を形成する。次に、半田などによりリード
線を取付け、エポキシなどの樹脂を塗装する。このよう
にして得られた素子の特性を下記の第2表に示す。
なお、誘電類は1KHzの静電容量から計算したものであ
り、αは α=1/Log(V10mA/V1mA) (ただし、VmA,V10mAは1mA,10mAの電流を流した時に素
子の両端にかかる電圧である。)で評価した。また、サ
ージ耐量はパルス性の電流を印加した後のV1mAの変化率
が±10%以内である時の最大のパルス性電流値により評
価している。
り、αは α=1/Log(V10mA/V1mA) (ただし、VmA,V10mAは1mA,10mAの電流を流した時に素
子の両端にかかる電圧である。)で評価した。また、サ
ージ耐量はパルス性の電流を印加した後のV1mAの変化率
が±10%以内である時の最大のパルス性電流値により評
価している。
また、第1成分のSr1-xBaxTiO3のxの範囲を規定した
のは、xが0.001よりも小さいと効果を示さず、0.300を
超えると格子欠陥が発生しにくくなるため半導体化が促
進されず、粒界がBaが単一相として析出するため、組織
が不均一になり、V1mAが高くなりすぎて特性が劣化する
ためである。さらに、第2成分は0.001mol%未満では効
果を示さず、5.000mol%を超えると粒界に偏析して粒界
の高抵抗化を抑制し、粒界に第2相を形成するため特性
が劣化するものである。また、第3成分は0.001mol%未
満では効果を示さず、5.000mol%を超えると粒界に偏析
して第2相を形成するため特性が劣化するものである。
そして、第4成分はCaTiO3とSiO2の2成分系の相図のな
かでも最も融点の低い領域の物質であり、その範囲外で
は融点が高くなるものである。また、第4成分の添加量
は、0.001重量部未満では効果を示さず、10.000重量部
を超えると粒界の抵抗は高くなるが粒界の幅が厚くなる
ため、静電容量が小さくなると共にV1mAが高くなり、サ
ージに対して弱くなるものである。さらに、第4成分の
焼成温度を規定したのは、低融点の第4成分が合成され
る温度が1200℃以上であるためである。また、第1焼成
の温度を規定したのは、第4成分の融点が1230〜1250℃
であるため、1100℃以上の温度で焼成すると第4成分が
液相に近い状態になって焼成が促進されるためであり、
1100℃未満では第4成分の液相焼結効果がないためであ
る。また、第2焼成の温度を規定したのは、1200℃未満
では第1焼成後の焼結体が十分に還元されず、バリスタ
特性,コンデンサ特性共に劣化するためである。そし
て、第3焼成の温度を規定したのは、900℃未満では粒
界の高抵抗化が十分に進まないため、V1mAが低くなりす
ぎバリスタ特性が劣化するためであり、1300℃を超える
と静電容量が小さくなりすぎコンデンサ特性が劣化する
ためである。また、第1焼成の雰囲気は酸化性雰囲気で
も還元性雰囲気でも同様の効果があることを確認した。
さらに、本実施例では添加物の組み合わせについては、
第1成分としてSr1-xBaxTiO3(0.001≦x≦0.300)、第
2成分としてNb2O5,Ta2O5,WO3,Dy2O3,Y2O3,La2O3,CeO2,
Nd2O3、第3成分としてAl2O3,PbO,Cr2O3,CdO,K2O,Co
2O3,CuO,Cu2O,MgO,MnO2,MoO3,NiO,Ag2O,SiC,Tl2O3,Zr
O2、第4成分としてCaTiO3,SiO2についてのみ示した
が、その他に第2成分としてSm2O3,Pr6O11を、また第3
成分としてSb2O3,BaO,BeO,B2O3,Fe2O3,CaO,Li2O,LiF,Na
2O,NaF,Rh2O3,SeO2,SiO2,SrO,ThO2,TiO2,V2O5,Bi2O3,Zn
O,SnO2を用いた組成の組み合わせでも同様の効果が得ら
れることを確認した。また、第1成分,第2成分,第3
成分,第4成分を第1焼成しただけでもバリスタ電圧が
低く、誘電率εを大きくするのに効果があることを確認
した。
のは、xが0.001よりも小さいと効果を示さず、0.300を
超えると格子欠陥が発生しにくくなるため半導体化が促
進されず、粒界がBaが単一相として析出するため、組織
が不均一になり、V1mAが高くなりすぎて特性が劣化する
ためである。さらに、第2成分は0.001mol%未満では効
果を示さず、5.000mol%を超えると粒界に偏析して粒界
の高抵抗化を抑制し、粒界に第2相を形成するため特性
が劣化するものである。また、第3成分は0.001mol%未
満では効果を示さず、5.000mol%を超えると粒界に偏析
して第2相を形成するため特性が劣化するものである。
そして、第4成分はCaTiO3とSiO2の2成分系の相図のな
かでも最も融点の低い領域の物質であり、その範囲外で
は融点が高くなるものである。また、第4成分の添加量
は、0.001重量部未満では効果を示さず、10.000重量部
を超えると粒界の抵抗は高くなるが粒界の幅が厚くなる
ため、静電容量が小さくなると共にV1mAが高くなり、サ
ージに対して弱くなるものである。さらに、第4成分の
焼成温度を規定したのは、低融点の第4成分が合成され
る温度が1200℃以上であるためである。また、第1焼成
の温度を規定したのは、第4成分の融点が1230〜1250℃
であるため、1100℃以上の温度で焼成すると第4成分が
液相に近い状態になって焼成が促進されるためであり、
1100℃未満では第4成分の液相焼結効果がないためであ
る。また、第2焼成の温度を規定したのは、1200℃未満
では第1焼成後の焼結体が十分に還元されず、バリスタ
特性,コンデンサ特性共に劣化するためである。そし
て、第3焼成の温度を規定したのは、900℃未満では粒
界の高抵抗化が十分に進まないため、V1mAが低くなりす
ぎバリスタ特性が劣化するためであり、1300℃を超える
と静電容量が小さくなりすぎコンデンサ特性が劣化する
ためである。また、第1焼成の雰囲気は酸化性雰囲気で
も還元性雰囲気でも同様の効果があることを確認した。
さらに、本実施例では添加物の組み合わせについては、
第1成分としてSr1-xBaxTiO3(0.001≦x≦0.300)、第
2成分としてNb2O5,Ta2O5,WO3,Dy2O3,Y2O3,La2O3,CeO2,
Nd2O3、第3成分としてAl2O3,PbO,Cr2O3,CdO,K2O,Co
2O3,CuO,Cu2O,MgO,MnO2,MoO3,NiO,Ag2O,SiC,Tl2O3,Zr
O2、第4成分としてCaTiO3,SiO2についてのみ示した
が、その他に第2成分としてSm2O3,Pr6O11を、また第3
成分としてSb2O3,BaO,BeO,B2O3,Fe2O3,CaO,Li2O,LiF,Na
2O,NaF,Rh2O3,SeO2,SiO2,SrO,ThO2,TiO2,V2O5,Bi2O3,Zn
O,SnO2を用いた組成の組み合わせでも同様の効果が得ら
れることを確認した。また、第1成分,第2成分,第3
成分,第4成分を第1焼成しただけでもバリスタ電圧が
低く、誘電率εを大きくするのに効果があることを確認
した。
発明の効果 以上に示したように本発明によれば、粒子径が大きい
ためバリスタ電圧が低く、誘電率εおよびαが大きく、
粒子径のばらつきが小さいためサージ電流が素子に均一
に流れ、またBaによって粒界が効果的に高抵抗化される
ため、サージ耐量が大きくなるという効果が得られる。
ためバリスタ電圧が低く、誘電率εおよびαが大きく、
粒子径のばらつきが小さいためサージ電流が素子に均一
に流れ、またBaによって粒界が効果的に高抵抗化される
ため、サージ耐量が大きくなるという効果が得られる。
第1図は本発明による素子を示す上面図、第2図は本発
明による素子を示す断面図である。 1……焼成体、2,3……電極。
明による素子を示す断面図である。 1……焼成体、2,3……電極。
Claims (2)
- 【請求項1】Sr1-xBaxTiO3(0.001≦x≦0.300)を90.0
00〜99.998mol%、Nb2O5,Ta2O5,WO3,Dy2O3,Y2O3,La2O3,
CeO2,Sm2O3,Pr6O11,Nd2O3のうち少なくとも1種類以上
を0.001〜5.000mol%、Al2O3,Sb2O3,BaO,BeO,PbO,B2O3,
Cr2O3,Fe2O3,CdO,K2O,CaO,Co2O3,CuO,Cu2O,Li2O,LiF,Mg
O,MnO2,MoO3,Na2O,NaF,NiO,Rh2O3,SeO2,Ag2O,SiO2,SiC,
SrO,Tl2O3,ThO2,TiO2,V2O5,Bi2O3,ZnO,ZrO2,SnO2のうち
少なくとも1種類以上を0.001〜5.000mol%含有してな
る主成分100重量部と、CaTiO360.000〜32.500mol%、Si
O240.000〜67.5mol%からなる混合物を1200℃以上で焼
成してなる添加物0.001〜10.000重量部とからなる組成
物を、1100℃以上で焼成したことを特徴とするバリスタ
の製造方法。 - 【請求項2】Sr1-xBaxTiO3(0.001≦x≦0.300)を90.0
00〜99.998mol%、Nb2O5,Ta2O5,WO3,Dy2O3,Y2O3,La2O3,
CeO2,Sm2O3,Pr6O11,Nd2O3のうち少なくとも1種類以上
を0.001〜5.000mol%、Al2O3,Sb2O3,BaO,BeO,PbO,B2O3,
Cr2O3,Fe2O3,CdO,K2O,CaO,Co2O3,CuO,Cu2O,Li2O,LiF,Mg
O,MnO2,MoO3,Na2O,NaF,NiO,Rh2O3,SeO2,Ag2O,SiO2,SiC,
SrO,Tl2O3,ThO2,TiO2,V2O5,Bi2O3,ZnO,ZrO2,SnO2のうち
少なくとも1種類以上を0.001〜5.000mol%含有してな
る主成分100重量部と、CaTiO360.000〜32.500mol%、Si
O240.000〜67.5mol%からなる混合物を1200℃以上で焼
成してなる添加物0.001〜10.000重量部とからなる組成
物を、1100℃以上で焼成した後、還元性雰囲気中で1200
℃以上で焼成し、その後酸化性雰囲気中で900〜1300℃
で焼成したことを特徴とするバリスタの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006597A JP2808775B2 (ja) | 1990-01-16 | 1990-01-16 | バリスタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006597A JP2808775B2 (ja) | 1990-01-16 | 1990-01-16 | バリスタの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03211704A JPH03211704A (ja) | 1991-09-17 |
JP2808775B2 true JP2808775B2 (ja) | 1998-10-08 |
Family
ID=11642741
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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---|---|
JP (1) | JP2808775B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107986774A (zh) * | 2017-11-29 | 2018-05-04 | 电子科技大学 | 低温烧结高介电常数微波介质陶瓷材料及其制备方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW535174B (en) * | 2000-11-15 | 2003-06-01 | Tdk Corp | Voltage-dependent nonlinear resistor ceramic, voltage-dependent nonlinear resistor with the ceramic, and method of manufacturing voltage-dependent nonlinear resistor ceramic |
CN114933469A (zh) * | 2022-06-07 | 2022-08-23 | 汕头市瑞升电子有限公司 | 一种压敏电阻器介质材料及其制备方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS625611A (ja) * | 1985-07-02 | 1987-01-12 | 松下電器産業株式会社 | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物 |
-
1990
- 1990-01-16 JP JP2006597A patent/JP2808775B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107986774A (zh) * | 2017-11-29 | 2018-05-04 | 电子科技大学 | 低温烧结高介电常数微波介质陶瓷材料及其制备方法 |
CN107986774B (zh) * | 2017-11-29 | 2021-04-13 | 电子科技大学 | 低温烧结高介电常数微波介质陶瓷材料及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH03211704A (ja) | 1991-09-17 |
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