JPH04321665A

JPH04321665A - 置換アセトキシアゼチジノン類及び４−アシルオキシアゼチジノン類の製造方法

Info

Publication number: JPH04321665A
Application number: JP3086588A
Authority: JP
Inventors: Takao Saito; 隆夫斉藤; Hidenori Kumobayashi; 雲林　秀徳; Shunichi Murahashi; 俊一村橋
Original assignee: Takasago International Corp; Takasago Perfumery Industry Co
Current assignee: Takasago International Corp
Priority date: 1991-04-18
Filing date: 1991-04-18
Publication date: 1992-11-11
Anticipated expiration: 2014-11-02
Also published as: DE69207051T2; US5606052A; EP0509821A1; DE69207051D1; US5288862A; US5440030A; JP2969387B2; EP0509821B1; US5629420A

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はチエナマイシンに代表さ
れるペネム系抗生物質の合成中間体の製造方法、より詳
細には次の一般式（４）

【０００２】

【化６】

【０００３】〔式中、Ｒ１　は水素原子、低級アルキル
基又は保護されていてもよいヒドロキシエチル基を示し
、Ｒ３　はハロゲン原子、シアノ基、低級アルキルオキ
シ基もしくはフェニル基で置換されていてもよい炭素数
１〜１０のアルキル基（ただし、α−位の炭素原子に置
換するハロゲン原子は２個までである）又は置換基を有
していてもよいフェニル基を示し、Ｒ４　は水素原子、
低級アルキル基又は低級アルキルオキシカルボニル基を
示す〕で表わされる４−アシルオキシアゼチジノン類の
製造方法に関する。

【０００４】

【従来の技術】チエナマイシンに代表されるペネム系抗
生物質は広範囲の抗菌スペクトルを有することから、医
薬品として注目をあびている。ペネム系抗生物質の製造
方法としては、亀谷〔Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ，１７
，４６３〜５０６（１９８２）　〕、渋谷〔「有機合成
化学」４１，６２（１９８３）〕らによって種々の方法
が報告されているが、その中でも前記一般式（４）で表
わされ、４−アセトキシアゼチジノンに代表される４−
アシルオキシアゼチジノン類を中間に経由する方法は、
化合物（４）が各種求核剤と置換反応が可能なことから
、種々のペネム系抗生物質を製造できる有利な方法であ
る。

【０００５】従来、４−アセトキシアゼチジノン類を製
造する方法としては、４−カルボキシアゼチジノン類を
四酢酸鉛で酸化する方法〔Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌ
ｅｔｔｅｒｓ，　２３，２２９３（１９８２）〕、４−
カルボキシアゼチジノン類を電極酸化する方法〔同，２
９，１４０９（１９８８）〕、４−アセチルアゼチジノ
ン類をメタクロロ過安息香酸により酸化する方法（特開
昭６１−５０９６４号）、４−シリルオキシアゼチジノ
ン誘導体を無水酢酸で処理する方法（ヨーロッパ特許第
２４７，３７８号）等が知られている。

【０００６】しかし、上記方法によりアゼチジノン類の
４位にアセトキシ基を導入するには、４位に特定の置換
基をもつアゼチジノン類を合成し、この置換基を手掛り
としてアセトキシ基を導入しなければならない。しかし
ながら、この方法は、４位に特定の置換基をもつアゼチ
ジノン類を製造するのが厄介であると共に、４位置換基
をアセトキシ基に変換するのが困難であるという欠点が
あり、工業的方法として不利なるを免れなかった。

【０００７】また、上記方法以外にも４−アシルオキシ
アゼチジノン類の合成法は、特開平３−４８６８１号公
報及び特開平３−５６４８１号公報において報告されて
いるが、上述のような問題点のほか収率が低い等工業的
に難点があった。

【０００８】また、最近では特開平２−２３１４７１号
公報で示されるように、アゼチジノン類に、触媒として
ルテニウム化合物を用いて酢酸及び酸化剤としての過酸
化物を反応させてアセトキシ基を導入できるようになっ
た。

【０００９】しかし、酸化剤として用いられる過酸化物
は一般に危険なものが多く、その貯蔵、運搬等に厳重な
注意を要し、実際の反応に際しても同様に注意を要し、
また高価である等実際の工業的な実施にあたっては難点
があった。

【００１０】また、４−アセトキシアゼチジノン類は、
４−位のアセトキシル基の脱離基としての能力という点
では不十分であり、より活性な脱離基を有する中間体の
開発が望まれる。脱離基の活性については、その酸性度
が高いものほど活性も高く、４−位の置換反応において
有利であることが知られている（Ｗ．　Ｎ．　Ｓｐｅｃ
ｋａｍｐ，　Ｈ．Ｈｉｅｍｓｔｒａ，　Ｔｅｔｒａｈｅ
ｄｒｏｎ，　１９８５，　４１，　４３６７）　。この
点から、アセトキシル基に比べ、クロロアセトキシル基
、シアノアセトキシル基、ブロモアセトキシル基、ジク
ロロアセトキシル基、ジブロモアセトキシル基等はより
活性であることが予想される。

【００１１】特に、ルイス酸等を用いる炭素−炭素結合
生成反応に用いられる炭素求核剤、例えばケテンシリル
アセタール、シリルエノールエーテル等は、反応条件下
において比較的不安定であるが、上記のような活性な脱
離基を有する中間体を用いて反応速度を高めることによ
り、その問題点を解決することができる。

【００１２】しかしながら、これらの中間体は４−アセ
トキシ体からのエステル交換反応等による従来の方法で
は合成が困難であった。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は簡便な操作で、安全かつ収率よくアゼチジノン類の４
位にアシルオキシ基を導入して、４−アシルオキシアゼ
チジノン類を製造する方法を提供することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】このような実情において
、本発明者らは鋭意研究を行った結果、ルテニウム化合
物、オスミウム化合物及びコバルト化合物から選ばれる
遷移金属化合物、アルデヒド類並びに酸素の３種の物質
の存在下に、アゼチジノン類とカルボン酸類とを反応さ
せることにより、上記課題が解決できることを見出し、
本発明を完成した。

【００１５】本発明は次の反応式で示される。

【００１６】

【化７】

【００１７】〔式中、Ｒ２　は水素原子、低級アルキル
基、低級アルキルオキシカルボニル基又はカルボキシル
基を示し、Ｒ１　、Ｒ３　及びＲ４　は前記と同じもの
を示す〕

【００１８】すなわち、アゼチジノン類（２）とカルボ
ン酸類（３）を、１）ルテニウム化合物、オスミウム化
合物及びコバルト化合物から選ばれる遷移金属化合物、
２）炭素数２以上のアルデヒド類（ただし、α−位の炭
素原子に置換するハロゲン原子は２個までである）並び
に３）酸素の存在下に反応させることを特徴とする４−
アシルオキシアゼチジノン類（４）の製造方法を提供す
るものである。

【００１９】本発明において低級アルキル、低級アルキ
ルオキシとして示す基は、通常炭素数１〜５のものを示
し、低級アルカノイル基は炭素数２〜６のものを示す。

【００２０】本発明のアゼチジノン類（２）としては、
アゼチジン−２−オン、３−メチルアゼチジン−２−オ
ン、３−エチルアゼチジン−２−オン、３−（保護）ヒ
ドロキシエチルアゼチジン−２−オン、３−メチル−４
−カルボキシアゼチジン−２オン、３−エチル−４−カ
ルボキシアゼチジン−２−オン、３−（保護）ヒドロキ
シエチル−４−カルボキシアゼチジン−２−オン、４−
メチルアゼチジン−２−オン、４−カルボキシアゼチジ
ン−２−オン、４−メトキシカルボニルアゼチジン−２
−オン等が挙げられる。ここにおいて、水酸基の保護基
としては、ラクタム系化合物において水酸基の保護に一
般に使用されているもの、例えばトリメチルシリル、ト
リエチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ジ
フェニル・ｔｅｒｔ−ブチルシリル等のシリル基、ベン
ジルオキシカルボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル基、ｏ−ニトロベンジルオキシカルボニル基等
が挙げられる。

【００２１】これらアゼチジノン類（２）のうち、Ｒ１
　が（保護）ヒドロキシエチル基で、Ｒ２　が水素原子
の化合物は、Ｂｅｒ．，９２，１５９９（１９５９）又
は特開平２−２３１４７１号公報で示される方法で合成
することができる。

【００２２】本発明のもう一方の原料であるカルボン酸
類（３）のうち、Ｒ３　が炭素数１〜１０のアルキル基
であるものとしては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ヘキ
サン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、デカン酸、イソ酪酸
等が挙げられる。これらのカルボン酸への置換基の数は
、通常特に限定されないが、α位の炭素原子にハロゲン
原子が置換する場合は、２個以内であることが必要であ
る。これは、トリクロロ酢酸等のα位に３個のハロゲン原子
が置換したカルボン酸を使用すると、基質に影響を与え
て目的物が得られないためである。ハロゲン原子置換カ
ルボン酸としては、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、ブロモ
酢酸、ジブロモ酢酸、３−クロロプロピオン酸、２−ブ
ロモヘキサン酸、２−ブロモオクタン酸等が挙げられる
。低級アルキルオキシ基置換カルボン酸としては、メト
キシ酢酸、３−エトキシプロピオン酸等が挙げられる。シアノ基置換カルボン酸としては、シアノ酢酸等が挙げ
られる。フェニル基置換カルボン酸としては、フェニル
酢酸、２−フェニル酪酸、６−フェニルヘキサン酸等が
挙げられる。また、Ｒ３　が置換基を有していてもよい
フェニル基であるカルボン酸としては、安息香酸、ｐ−
クロロ安息香酸、ｐ−エトキシ安息香酸、２，４−ジニ
トロ安息香酸等が挙げられる。

【００２３】本発明において用いられる遷移金属化合物
は、触媒として作用するものであり、そのうち、ルテニ
ウム化合物としては、次の（ａ）〜（ｊ）で示されるも
のが挙げられる。

【００２４】（ａ）次の一般式（５）ＲｕＡ３　　　　　　　　　（５）〔式中、Ａはハロゲン原子、低級アルカノイルオキシ基
又はアセチルアセトナートを示す〕で表わされる化合物
。具体例としては、例えば三塩化ルテニウム、三臭化ル
テニウム、三ヨウ化ルテニウム及びこれらの水和物、ル
テニウムアセチルアセトナート、酢酸ルテニウム等が挙
げられる。

【００２５】（ｂ）ルテニウム金属又はルテニウム−担
体。ルテニウム金属としては粉末状ルテニウム金属が挙げら
れ、ルテニウム一担体としては、ルテニウム−カーボン
、ルテニウム−グラファイト、ルテニウム−アルミナ、
ルテニウム−シリカ、ルテニウム−シリカ−アルミナ、
ルテニウム−ゼオライト、ルテニウム−酸化鉄、ルテニ
ウム−酸化ジルコニウム、ルテニウム−ケイソウ土等が
挙げられる。

【００２６】（ｃ）次の一般式（６）［ＲｕｒＣｌｍＨｎ（Ｎ２）ｊＢｐ］ｑ　　　（６）〔
式中、ＢはＰＲ５３　（ここでＲ５　は低級アルキル基
もしくは低級アルキルオキシ基で置換されていてもよい
フェニル基又は低級アルキル基を示す）を示し、Ｒ５　
が低級アルキル基又は低級アルキルオキシ基で置換され
ていてもよいフェニル基のとき、ｍ　、ｎ　、ｊ　、ｐ
　、ｑ　及びｒ　は１）ｍ＝０，ｎ＝２，ｊ＝０，ｐ＝
４，ｑ＝１，ｒ＝１２）ｍ＝０，ｎ＝２，ｊ＝１，ｐ＝
３，ｑ＝１，ｒ＝１３）ｍ＝１，ｎ＝１，ｊ＝０，ｐ＝
３，ｑ＝１，ｒ＝１又は４）ｍ＝２，ｎ＝０，ｊ＝０，ｐ＝３，ｑ＝１，ｒ＝１
を示し、Ｒ５　が低級アルキル基のときｍ　、ｎ　、ｊ
　、ｐ　、ｑ　及びｒ　は、１）ｍ＝３，ｎ＝０，ｊ＝０，ｐ＝２，ｑ＝２，ｒ＝１
又は２）ｍ＝５，ｎ＝０，ｊ＝０，ｐ＝３，ｑ＝１，ｒ＝２
を示す〕で表わされる化合物。具体例としては、例えば
ＲｕＨＣｌ（ＰＰｈ３）３　、ＲｕＣｌ２（ＰＰｈ３）
３　、ＲｕＨ２（ＰＰｈ３）３　、ＲｕＨ２（Ｎ２）（
ＰＰｈ３）３　、［ＲｕＣｌ３（ＰＢｕ３）２］２　、
Ｒｕ２Ｃｌ５（ＰＢｕ３）３　（式中、Ｐｈはフェニル
基を示し、Ｂｕはブチル基を示す）等が挙げられる。

【００２７】（ｄ）次の一般式（７）［ＲｕＹ２Ｌ］ｍ　　　　　　　　　　　（７）〔式中
、Ｙは塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を示し、ｍは
正の整数を示し、Ｌは１，５−シクロオクタジエン、ノ
ルボルナジエン、シクロオクタテトラエン、シクロヘプ
タトリエン又は低級アルキル基が置換していてもよいベ
ンゼンを示す〕で表わされる化合物。具体例としては、
例えばＲｕＣｌ２（ＣＯＤ）　、ＲｕＣｌ２（ＮＢＤ）
　、ＲｕＣｌ２（ＣＯＴ）　、ＲｕＢｒ２（ＣＯＤ）、
ＲｕＢｒ２（ＮＢＤ）　、ＲｕＢｒ２（ＣＯＴ）　、Ｒ
ｕＩ２（ＣＯＤ）　、ＲｕＩ２（ＮＢＤ）　、ＲｕＩ２
（ＣＯＴ）　、ＲｕＣｌ２（ＣＨＰＴ）、ＲｕＢｒ２（
ＣＨＰＴ）、ＲｕＣｌ２（Ｃ６Ｈ６）　、ＲｕＢｒ２（
Ｃ６Ｈ６）　、ＲｕＩ２（Ｃ６Ｈ６）　、ＲｕＣｌ２（
Ｃ６Ｈ５ＣＨ３）　、ＲｕＣｌ２［ｐ−Ｃ６Ｈ４（ＣＨ
３）２　］　、ＲｕＣｌ２［１，３，５−Ｃ６Ｈ３（Ｃ
Ｈ３）３］　、ＲｕＣｌ２［ｐ−シメン］　（式中、Ｃ
ＯＤ　は１，５−シクロオクタジエンを示し、ＮＢＤ　
はノルボルナジエンを示し、ＣＯＴ　はシクロオクタテ
トラエンを示し、ＣＨＰＴはシクロヘプタトリエンを示
す）等が挙げられる。

【００２８】（ｅ）次の一般式（８）ＲｕｘＨｙＣｌｚ（Ｒ−ＢＩＮＡＰ）２（Ｓ）ｐ　　　
（８）〔式中、Ｒ−ＢＩＮＡＰ　は次の一般式（９）

【
００２９】

【化８】

【００３０】（ここでＲは水素原子、メチル基又はｔｅ
ｒｔ−ブチル基を示す）で示される三級ホスフィンを示
し、Ｓは三級アミンを示し、ｙが０のときｘは２、ｚは
４、ｐは１を示し、ｙが１のときｘは１、ｚは１、ｐは
０を示す〕で表わされる化合物。

【００３１】（ｆ）次の一般式（１０）

【００３２】

【化９】

【００３３】〔式中、Ｘは水素原子、アミノ基、アセチ
ルアミノ基又はスルホン基を示し、Ｒ６　は水素原子又
は低級アルキル基を示し、Ｒ７　及びＲ８　は低級アル
キル基、ハロゲン化低級アルキル基、低級アルキル基で
置換されていてもよいフェニル基、α−アミノアルキル
基又はα−アミノフェニルアルキル基を示すか、あるい
はＲ７　とＲ８　が一緒になってアルキレン基を形成し
、ｎは１又は２を示す〕で表わされる化合物。

【００３４】（ｇ）次の一般式（１１）［ＲｕＨｌ（Ｒ
−ＢＩＮＡＰ）ｍ］Ｚｎ　　　　　　　（１１）〔式中
、Ｒ−ＢＩＮＡＰ　は前記と同様の意味を示し、ＺはＣ
ｌＯ４　、ＢＦ４　又はＰＦ６　を示し、ｌが０のとき
ｍは１、ｎは２を示し、ｌが１のときｍは２、ｎは１を
示す〕で表わされる化合物。

【００３５】（ｈ）次の一般式（１２）［ＲｕＴｌＭｍ
（Ｒ−ＢＩＮＡＰ）］Ｋｎ　　　　　　　　　（１２）
〔式中、Ｒ−ＢＩＮＡＰ　は前記と同様の意味を示し、
Ｔはハロゲン原子を示し、Ｍは置換されていてもよいベ
ンゼン又はアセトニトリルを示し、Ｋはハロゲン原子、
ＣｌＯ４、ＰＦ６　、ＢＰｈ４　（式中、Ｐｈはフェニ
ル基を示す）　又はＢＦ４　を示し、Ｍが置換基を有し
ていてもよいベンゼンの場合、ｌは１、ｍは１、ｎは１
を示し、Ｍがアセトニトリルの場合、ｌが１のときはｍ
は２、ｎは１を示し、ｌが０のときはｍは４、ｎは２を
示す〕で表わされる化合物。

【００３６】（ｉ）Ｒｕ３（ＣＯ）１２、Ｒｕｌ２（Ｃ
Ｏ）２　、Ｒｕ２Ｃｌ４（ＣＯ）６　、Ｒｕ（ＣＯ）５
又はＲｕ（ＴＰＰ）（ＣＯ）−ＴＨＦ。〔式中、ＴＰＰ
　はテトラフェニルポルフィンを示し、ＴＨＦ　はテト
ラヒドロフランを示す〕

【００３７】（ｊ）Ｒｕ（ＮＯ）Ｃｌ３・Ｈ２Ｏ　、Ｒ
ｕ（ＮＯ）Ｂｒ３・Ｈ２Ｏ　、Ｋ（ＲｕＯ４）　又はＢ
ａ（ＲｕＯ３（ＯＨ）２）。

【００３８】また、オスミウム化合物としては、次の一
般式（１３）ＯｓＹ３　　　　　　　（１３）〔式中、Ｙは塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を示す
〕で表わされる化合物が挙げられる。具体例としては、
三塩化オスミウム、三臭化オスミウム、三ヨウ化オスミ
ウム及びこれらの水和物がある。

【００３９】さらに、コバルト化合物としては、次の一
般式（１４）ＣｏＷ２　　　　　　　　　（１４）〔式中、Ｗは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はアセ
トキシ基を示す〕で表わされる化合物が挙げられる。具
体例としては、塩化コバルト、臭化コバルト、ヨウ化コ
バルト、酢酸コバルト及びこれらの水和物がある。

【００４０】ここで上記化合物のうち、一般式（６）で
表わされる化合物は日本化学会編「新実験化学講座（第
１２巻）有機金属化学」（昭和５１−３−２０，丸善）
Ｐ．１６３　、Ｊ．　Ｃ．Ｓ．，　Ｄａｌｔｏｎ　Ｔｒ
ａｎｓ，（１９８０）　Ｐ．２４８０に記載の方法で得
ることができる。また、一般式（７）で表わされる化合
物は　ＣＨＥＭＩＳＴＲＹ　ＡＮＤ　ＩＮＤ．，（１９
５９）　Ｐ．１５１６　、Ｊ．　Ｃ．　Ｓ．，（１９５
９）　Ｐ．３１７８、Ｊ．　Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌ．
，７（１９６７）　Ｐ．４８７、Ｊ．　Ｃ．　Ｓ．，　
Ｄａｌｔｏｎ　Ｔｒａｎｓ，（１９７４）Ｐ．２３３に
記載の方法で合成されるが、得られた化合物は一般式（
６）のｍが１のもののみが存在する場合もあり、ｍが１
のものだけでなくそのポリマーと共に混在する場合もあ
る（以下、省略してｍが１の形で表記する）。また一般
式（８）で表わされる化合物は特開昭６１−６３６９０
号公報に記載の方法で、一般式（１０）で表わされる化
合物は特開昭６２−２６５２９３号公報に記載の方法で
、一般式（１１）で表わささる化合物は特開昭６３−４
１４８７号公報に記載の方法で、一般式（１２）で表わ
される化合物は特開平２−１９１２８９号公報に記載の
方法でそれぞれ得ることができる。

【００４１】本発明において用いられる炭素数２以上の
アルデヒド類としては、特に限定されるものではないが
、置換基を有していてもよいアルキルアルデヒド、アル
ケニルアルデビド及びアリールアルデヒド等が挙げられ
る。置換基を有していてもよいアルキルアルデヒドとし
ては、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチ
ルアルデヒド、ヘキサナール、ヘプタナール、オクタナ
ール、デカナール、ドデカナール、イソプロピオンアル
デヒド、イソブチルアルデヒド、クロロアセトアルデヒ
ド、ジクロロアセトアルデヒド、フルオロアセトアルデ
ヒド、ブロモアセトアルデヒド、α−クロロプロピオン
アルデヒド、α−ブロモプロピオンアルデヒド、１−ク
ロロオクタナール、フェニルアセトアルデヒド、ｐ−メ
トキシフェニルアセトアルデヒド、ｐ−クロロフェニル
アセトアルデヒド、ｍ−クロロフェニルアセトアルデヒ
ド、シクロヘキサンカルバルデヒド、シクロペンタンカ
ルバルデヒド等が挙げられる。置換基を有していてもよ
いアルケニルアルデヒドとしては、クロトンアルデヒド
、２−ペンテナール、２−ヘキセナール等が挙げられる
。置換基を有していてもよいアリールアルデヒドとして
はベンズアルデヒド、ｐ−クロロベンズアルデヒド、ｍ
−クロロベンズアルデヒド、ｐ−メトキシベンズアルデ
ヒド、ｏ−メトキシベンズアルデヒド、３，４−ジメト
キシベンズアルデヒド、ｐ−メチルベンズアルデヒド、
ピペロナール、１−ホルミルナフタレン、２−ホルミル
ナフタレン等が挙げられる。また、これらのアルデヒド
類の場合も、α位の炭素原子へのハロゲン原子の置換は
２個以内であることが必要である。さらに本発明におい
て用いるアルデヒド類は、使用するカルボン酸に対応す
るアルデヒドを用いると、収率が向上するので好ましい
。

【００４２】本発明に用いる酸素は、酸素ガスでもよい
が、酸素含有ガス、例えば空気を用いてもよい。

【００４３】本発明の反応を行なうに際し、カルボン酸
塩を共存させると収率が向上するので好ましい。かかる
カルボン酸塩としては、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム
、酢酸リチウム等が挙げられ特に限定されないが、用い
るカルボン酸に対応するカルボン酸塩を用いるとより好
ましい。

【００４４】本発明を実施するには、化合物（２）、ア
ルデヒド類、カルボン酸（３）及び遷移金属化合物を適
当な溶媒に溶解または懸濁せしめ、酸素又は酸素含有ガ
ス、例えば空気を通じて、−１０℃〜８０℃、好ましく
は０℃〜４０℃の温度で、撹拌下に０．５〜１５時間、
好ましくは１〜５時間反応させることにより行われる。原料化合物、触媒等の添加順序・方法は特に限定されな
いが、最後にアルデヒドを加えるのが好ましい。

【００４５】溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルブ
チルケトン、ジクロロメタン、アセトニトリル、クロロ
ホルム等が使用され、またこれらの混合溶液を使用する
こともできる。アルデヒド類は化合物（２）に対し１〜
５倍モル、特に１．１　〜３倍モル使用するのが好まし
く、カルボン酸（３）は化合物（２）に対し１〜１５倍
モル、特に２〜１０倍モル使用するのが好ましい。また
、遷移金属化合物は化合物（２）に対し０．００１〜０
．１倍モル、特に０．０１〜０．０５倍モル使用するの
が好ましい。

【００４６】反応混合物からの目的物の単離は、特に限
定されないが、例えば再結晶、カラムクロマトグラフィ
ー等により行うことができる。

【００４７】本発明の方法により得られる４−アシルオ
キシアゼチジノン類（４）のうち、下記一般式（１）

【
化１０】〔式中、ｔ−Ｂｕはｔｅｒｔ−ブチル基を示し、Ｍｅは
メチル基を示し、Ｄは塩素原子、臭素原子又はシアノ基
を示し、ａが１のときはｂは２を、ａが２のときはｂは
１を示す〕で表わされる置換アセトキシアセチジノン類
は新規化合物である。

【００４８】

【発明の効果】叙上の如く、本発明方法は、簡単な操作
で安全に、ペネム系抗生物質の製造中間体として有用な
４−アシルオキシアゼチジノン類（４）を製造すること
のできる工業的に有利な方法である。

【００４９】更に、本発明により得られる化合物（１）
は、４−アセトキシアゼチジノン類に比べ、４−位の脱
離基の活性が高いため、カルバペネム系抗生物質の合成
中間体としてより優れているものである。

【００５０】

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。

【００５１】実施例１４−アセトキシアゼチジン−２−オンの合成；アゼチジ
ン−２−オン７１０ｍｇ（１０ｍｍｏｌ）　、無水酢酸
ナトリウム２０５ｍｇ（２．５ｍｍｏｌ）、塩化ルテニ
ウム・三水和物１３０ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ，　５ｍｏ
ｌ％）をシュレンク管に計り取り、酸素で充分に置換し
、酸素を満たした風船を付した。これに、酢酸エチル１
００ｍｌ　、酢酸５ｍｌを加えて、４０℃に加熱し、３
０分間撹拌した。その後、４０℃にて撹拌しながら、ア
セトアルデヒド１．１ｍｌ（２０ｍｍｏｌ）　を一度に
加え、さらに３時間撹拌を続けた。反応混合液を１０％
亜硫酸ナトリウム水溶液４００ｍｌ　に注ぎ、酢酸エチ
ル５００ｍｌ　で２回抽出し、次いで飽和食塩水２００
ｍｌ　で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を
減圧にて留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１（容量比））
にて分離することにより、油状の４−アセトキシアゼチ
ジン−２−オン１．１４ｇ（８．８ｍｍｏｌ　、収率８
８％）を得た。

【００５２】実施例２〜５基質であるアゼチジノン類を表１に示すように変えた他
は実施例１と同様の処理を行った。その結果表１に示す
４−アセトキシアゼチジノン類をそれぞれ同表に示す収
率で得た。

【００５３】

【表１】

【００５４】実施例６〜１４（１′Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−［　（
１′−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル
］　アゼチジン−２−オンの合成：基質であるアゼチジ
ノン類として（１′Ｒ，３Ｓ）−３−　［（１′−ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］　アゼチ
ジン−２−オン４５８ｍｇ（２ｍｍｏｌ）を使用し、遷
移金属化合物（触媒）を表２に示すように変え、無水酢
酸ナトリウム４１ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）　、酢酸を１
ｍｌ、酢酸エチル２０ｍｌ、アセトアルデヒドを０．２
２ｍｌ（４ｍｍｏｌ）、１０％亜硫酸ナトリウム水溶液
を４０ｍｌ、飽和食塩水を５０ｍｌ用い、抽出をｎ−ヘ
キサン１００ｍｌ　で２回行った他は実施例１と同様の
処理を行った。その結果（１′Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−
アセトキシ−３−［　（１′−ｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリルオキシ）エチル］　アゼチジン−２−オンをそ
れぞれ表２に示す収率で得た。

【００５５】

【表２】

【００５６】また、同様にして、触媒としてＲｕ（ＴＰ
Ｐ）（ＣＯ）−ＴＨＦ、ＲｕＣｌ２（ＰＰｈ３）３　、
Ｒｕ（ａｃａｃ）（式中、ａｃａｃはアセチルアセトナ
ートを示す）をそれぞれ用いて、それぞれ目的化合物で
ある（１′Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−［
　（１′−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エ
チル］　アゼチジン−２−オンを得た。

【００５７】実施例１５〜２０（１′Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−［　（
１′−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル
］　アゼチジン−２−オンの合成：基質であるアゼチジ
ノン類として（１′Ｒ，３Ｓ）−３−［　（１′−ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］　アゼチ
ジン−２−オン４５８ｍｇ（２ｍｍｏｌ）を使用し、ア
ルデヒドを表３に示すように変え、無水酢酸ナトリウム
４１ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）　、塩化ルテニウム・三水
和物を２６ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ、基質に対して５ｍｏ
ｌ　％）、酢酸を１ｍｌ、酢酸エチルを２０ｍｌ、１０
％亜硫酸ナトリウム水溶液を４０ｍｌ、飽和食塩水を５
０ｍｌ用い、抽出をｎ−ヘキサン１００ｍｌ　で２回行
った他は実施例１と同様の処理を行った。その結果（１
′Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−［　（１′
−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］　
アゼチジン−２−オンをそれぞれ表３に示す収率で得た
。

【００５８】

【表３】

【００５９】実施例２１（１′Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−［　（
１′−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル
］　アゼチジン−２−オンの合成：（１′Ｒ，３Ｓ）−
３−［　（１′−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）エチル］　アゼチジン−２−オン４５８ｍｇ（２ｍ
ｍｏｌ）、無水酢酸ナトリウム４１ｍｇ（０．５ｍｍｏ
ｌ）　、塩化ルテニウム・三水和物２６ｍｇ（０．１ｍ
ｍｏｌ）　、酢酸１ｍｌ、酢酸エチル２０ｍｌを加えて
溶かし、４０℃に加熱した。これにベンズアルデヒド６
．０ｇ（５７ｍｍｏｌ）を加え、撹拌しながら酸素を５
時間ふき込んだ。反応混合液を１０％亜硫酸ナトリウム
水溶液４０ｍｌに注ぎ、ｎ−ヘキサン（１００ｍｌ×２
回）で抽出し、次いで飽和食塩水５０ｍｌで洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧にて留去した後
、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン
：酢酸エチル＝３：１（容量比））にて分離することに
より、（１′Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−
［　（１′−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）
エチル］　アゼチジン−２−オン１７８ｍｇ（０．６９
ｍｍｏｌ、収率３０％）を得た。

【００６０】実施例２２（１′Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−３−［　（１′−ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］　−４−エチル
カルボニルオキシアゼチジン−２−オンの合成：基質で
あるアゼチジノン類として（１′Ｒ，３Ｓ）−３−［　
（１′−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル］　アゼチジン−２−オン４５８ｍｇ（２ｍｍｏｌ）
を使用し、アルデヒドとしてプロピオンアルデヒド０．
３６ｍｌ（５ｍｍｏｌ）　を、カルボン酸としてプロピ
オン酸０．７５ｍｌ（１０ｍｍｏｌ）を、無水酢酸ナト
リウム４１ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）　、塩化ルテニウム
・三水和物２６ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）　、酢酸エチル
を２０ｍｌ、１０％亜硫酸ナトリウム水溶液を４０ｍｌ
、飽和食塩水５０ｍｌ用い、抽出をｎ−ヘキサン１００
ｍｌ　で２回行った他は実施例１と同様の処理を行った
。その結果（１′Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−３−［　（１′−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］　−
４−エチルカルボニルオキシアゼチジン−２−オン５０
０ｍｇ（１．９５ｍｍｏｌ、収率８５％）を得た。

【００６１】ｍｐ　８４．５　℃ １Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）　δｐｐｍ
；０．０６（ｓ，３Ｈ），　０．０８（ｓ，３Ｈ），　
０．８７（ｓ，９Ｈ，ｔ−Ｂｕ），１．１６（ｔ，Ｊ＝
７．６，３Ｈ），　１．２６（ｄ，Ｊ＝６．４，３Ｈ）
，２．３７（ｑ，Ｊ＝７．６，２Ｈ），　３．１８（ｄ
ｄ，Ｊ＝３．７，１．２，１Ｈ），４．２２（ｄｑ，Ｊ
＝６．４，３．７，１Ｈ），　５．８４（ｄ，Ｊ＝１．
２，１Ｈ），６．４４（ｂｓ，１Ｈ，ＮＨ）

【００６２
】実施例２３〜３１基質であるアゼチジノン類として（１′Ｒ，３Ｓ）−３
−［　（１′−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
）エチル］　アゼチジン−２−オン４５８ｍｇ（２ｍｍ
ｏｌ）を使用し、表４〜表６に示すようなカルボン酸を
１０ｍｍｏｌ、無水酢酸ナトリウムを４１ｍｇ（０．５
ｍｍｏｌ）　、塩化ルテニウム・三水和物を２６ｍｇ（
０．１ｍｍｏｌ）　、酢酸エチルを２０ｍｌ、アセトア
ルデヒドを０．２８ｍｌ（５ｍｍｏｌ）　、１０％亜硫
酸ナトリウムを４０ｍｌ、飽和食塩水を５０ｍｌ用い、
抽出をｎ−ヘキサン１００ｍｌ　で２回行った他は実施
例１と同様の処理を行った。その結果表４〜表６に示す
４−アシルオキシアゼチジノン類をそれぞれ同表に示す
収率で得た。

【００６３】

【表４】

【００６４】

【表５】

【００６５】

【表６】

【００６６】以下に、各実施例の合成４−アシルオキシ
アゼチジノン類のデータを示す。

【００６７】実施例２３ｍｐ　１０９℃ １Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３　）　δｐｐ
ｍ；０．０７（ｓ，３Ｈ），　０．０８（ｓ，３Ｈ），
　０．８７（ｓ，９Ｈ），１．２７（ｄ，Ｊ＝６．３，
３Ｈ），　３．２４（ｄｄ，Ｊ＝３．３，１．２，１Ｈ
），４．１０（ｓ，２Ｈ），　４．２４（ｄｑ，Ｊ＝３
．３，６．３，１Ｈ），５．９４（ｄ，Ｊ＝１．２，１
Ｈ），　６．４４（ｂ，１Ｈ，ＮＨ）

【００６８】実施
例２４ｍｐ　１１８℃ １Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３　）　δｐｐ
ｍ；０．０７（ｓ，３Ｈ），　０．０８（ｓ，３Ｈ），
　０．８７（ｓ，９Ｈ），１．２８（ｄ，Ｊ＝６．４，
３Ｈ），　３．３２（ｄｄ，Ｊ＝３．３，１．２，１Ｈ
），４．２５（ｄｑ，Ｊ＝３．３，６．３，１Ｈ），　
５．９６（ｓ，１Ｈ），６．００（ｄ，Ｊ＝１．２，１
Ｈ），　６．５０（ｂ，１Ｈ，ＮＨ）

【００６９】実施
例２５ｍｐ　１０７℃ １Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３　）　δｐｐ
ｍ；０．０６（ｓ，３Ｈ），　０．０８（ｓ，３Ｈ），
　０．８７（ｓ，９Ｈ），１．２６（ｄ，Ｊ＝６．３，
３Ｈ），　３．２４（ｄｄ，Ｊ＝３．４，１．２，１Ｈ
），３．８６（ｓ，２Ｈ），　４．２３（ｄｑ，Ｊ＝３
．４，６．３，１Ｈ），５．９２（ｄ，Ｊ＝１．２，１
Ｈ），　６．４９（ｂ，１Ｈ，ＮＨ）

【００７０】実施
例２６ｍｐ　１０５．５℃ １Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３　）　δｐｐ
ｍ；０．０７（ｓ，３Ｈ），　０．０９（ｓ，３Ｈ），
　０．８７（ｓ，９Ｈ），１．２８（ｄ，Ｊ＝６．４，
３Ｈ），　３．２８（ｄｄ，Ｊ＝３．４，１．２，１Ｈ
），４．２５（ｄｑ，Ｊ＝３．４，６．４，１Ｈ），　
５．８２（ｓ，１Ｈ），５．９９（ｄ，Ｊ＝１．２，１
Ｈ），　６．４９（ｂ，１Ｈ，ＮＨ）

【００７１】実施
例２７ｍｐ　８０　℃ １Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３　）　δｐｐ
ｍ；０．０７（ｓ，３Ｈ），　０．０９（ｓ，３Ｈ），
　０．８７（ｓ，９Ｈ），１．２６（ｄ，Ｊ＝６．４，
３Ｈ），　３．２２（ｄｄ，Ｊ＝３．４，１．２，１Ｈ
），４．０７（ｓ，２Ｈ），　４．２２（ｄｑ，Ｊ＝６
．４，３．４，１Ｈ），５．９４（ｄ，Ｊ＝１．２，１
Ｈ），　６．４７（ｂ，１Ｈ，ＮＨ）

【００７２】実施
例２８ｍｐ　６１　℃ １Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３　）　δｐｐ
ｍ；０．０４（ｓ，３Ｈ），　０．０６（ｓ，３Ｈ），
　０．８５（ｓ，９Ｈ），１．２３（ｄ，Ｊ＝６．４，
３Ｈ），　３．１８（ｄｄ，Ｊ＝３．６，１．２，１Ｈ
），３．６６（ｓ，２Ｈ），　４．２０（ｄｑ，Ｊ＝３
．６，６．４，１Ｈ），　５．８６（ｄ，Ｊ＝１．２，
１Ｈ），６．４８（ｂ，１Ｈ，ＮＨ），　７．２４〜７
．３６（ｍ，５Ｈ，アロマテッィク）

【００７３】実施例２９ｍｐ　１４８℃ １Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３　）　δｐｐ
ｍ；０．０９（ｓ，３Ｈ），　０．１０（ｓ，３Ｈ），
　０．９０（ｓ，９Ｈ），１．３０（ｄ，Ｊ＝６．３，
３Ｈ），３．２９（ｄｄ，Ｊ＝２．９，１．２，１Ｈ）
，　４．２８（ｄｑ，Ｊ＝２．９，６．３，１Ｈ），６
．２０（ｄ，Ｊ＝１．２，１Ｈ），　６．５３（ｂ，１
Ｈ，ＮＨ），７．９４（ｄ，Ｊ＝８．６，１Ｈ），　８
．５７（ｄｄ，Ｊ＝８．６，２．２，１Ｈ），８．８４
（ｄ，Ｊ＝２．２，１Ｈ）

【００７４】実施例３０ｍｐ　１１７℃ １Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３　）　δｐｐ
ｍ；０．０６（ｓ，３Ｈ），　０．０８（ｓ，３Ｈ），
　０．８７（ｓ，９Ｈ），１．２７（ｄ，Ｊ＝６．４，
３Ｈ），　３．２７（ｄｄ，Ｊ＝３．２，１．２，１Ｈ
），３．５２（ｓ，２Ｈ），　４．２４（ｄｑ，Ｊ＝３
．２，６．４，１Ｈ），５．９６（ｄ，Ｊ＝１．２，１
Ｈ），　６．５３（ｂ，１Ｈ，ＮＨ）

【００７５】実施
例３１ｍｐ　６０　℃

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】　　次の一般式（１）【化１】〔式中、ｔ−Ｂｕはｔｅｒｔ−ブチル基を示し、Ｍｅは
メチル基を示し、Ｄは塩素原子、臭素原子又はシアノ基
を示し、ａが１のときはｂは２を、ａが２のときはｂは
１を示す〕で表わされる置換アセトキシアゼチジノン類
。
【請求項２】　　次の一般式（２）【化２】〔式中、Ｒ１　は水素原子、低級アルキル基又は保護さ
れていてもよいヒドロキシエチル基を示し、Ｒ２　は水
素原子、低級アルキル基、低級アルキルオキシカルボニ
ル基又はカルボキシル基を示す〕で表わされるアゼチジ
ノン類と次の一般式（３）Ｒ３ＣＯＯＨ　　　　（３）〔式中、Ｒ３　はハロゲン原子、シアノ基、低級アルキ
ルオキシ基もしくはフェニル基で置換されていてもよい
炭素数１〜１０のアルキル基（ただし、α−位の炭素原
子に置換するハロゲン原子は２個までである）又は置換
基を有していてもよいフェニル基を示す〕で表わされる
カルボン酸類を、ルテニウム化合物、オスミウム化合物
及びコバルト化合物から選ばれる遷移金属化合物、炭素
数２以上のアルデヒド類（ただし、α−位の炭素原子に
置換するハロゲン原子は２個までである）並びに酸素の
存在下に反応させることを特徴とする、次の一般式（４
）【化３】〔式中、Ｒ１　及びＲ３　は前記と同じものを示し、Ｒ
４　は水素原子、低級アルキル基又は低級アルキルオキ
シカルボニル基を示す〕で表わされる４−アシルオキシ
アゼチジノン類の製造方法。
【請求項３】　　ルテニウム化合物が、次の（ａ）〜（
ｊ）（ａ）次の一般式（５）ＲｕＡ３　　　　　　　（５）〔式中、Ａはハロゲン原子、低級アルカノイルオキシ基
又はアセチルアセトナートを示す〕で表わされる化合物
（ｂ）ルテニウム金属又はルテニウム−担体（ｃ）次の
一般式（６）［ＲｕｒＣｌｍＨｎ（Ｎ２）ｊＢｐ］ｑ　　　（６）〔
式中、ＢはＰＲ５３（ここでＲ５　は低級アルキル基も
しくは低級アルキルオキシ基で置換されていてもよいフ
ェニル基又は低級アルキル基を示す）を示し、Ｒ５　が
低級アルキル基又は低級アルキルオキシ基で置換されて
いてもよいフェニル基のとき、ｍ　、ｎ　、ｊ、ｐ　、
ｑ　及びｒ　は１）ｍ＝０，ｎ＝２，ｊ＝０，ｐ＝４，
ｑ＝１，ｒ＝１２）ｍ＝０，ｎ＝２，ｊ＝１，ｐ＝３，
ｑ＝１，ｒ＝１３）ｍ＝１，ｎ＝１，ｊ＝０，ｐ＝３，
ｑ＝１，ｒ＝１又は４）ｍ＝２，ｎ＝０，ｊ＝０，ｐ＝３，ｑ＝１，ｒ＝１
を示し、Ｒ５　が低級アルキル基のときｍ、ｎ、ｊ、ｐ
、ｑ　及びｒ　は、１）ｍ＝３，ｎ＝０，ｊ＝０，ｐ＝２，ｑ＝２，ｒ＝１
又は２）ｍ＝５，ｎ＝０，ｊ＝０，ｐ＝３，ｑ＝１，ｒ＝２
を示す〕で表わされる化合物（ｄ）次の一般式（７）［ＲｕＹ２Ｌ］ｍ　　　　　　　（７）〔式中、Ｙは塩
素原子、臭素原子又はヨウ素原子を示し、ｍは正の整数
を示し、Ｌは１，５−シクロオクタジエン、ノルボルナ
ジエン、シクロオクタテトラエン、シクロヘプタトリエ
ン又は低級アルキル基が置換していてもよいベンゼンを
示す〕で表わされる化合物（ｅ）次の一般式（８）ＲｕｘＨｙＣｌｚ（Ｒ−ＢＩＮＡＰ）２（Ｓ）ｐ　　　
（８）〔式中、Ｒ−ＢＩＮＡＰ　は次の一般式（９）【
化４】（ここでＲは水素原子、メチル基又はｔｅｒｔ−ブチル
基を示す）で示される三級ホスフィンを示し、Ｓは三級
アミンを示し、ｙが０のときｘは２、ｚは４、ｐは１を
示し、ｙが１のときｘは１、ｚは１、ｐは０を示す〕で
表わされる化合物（ｆ）次の一般式（１０）【化５】〔式中、Ｘは水素原子、アミノ基、アセチルアミノ基又
はスルホン基を示し、Ｒ６　は水素原子又は低級アルキ
ル基を示し、Ｒ７　及びＲ８　は低級アルキル基、ハロ
ゲン化低級アルキル基、低級アルキル基で置換されてい
てもよいフェニル基、α−アミノアルキル基又はα−ア
ミノフェニルアルキル基を示すか、あるいはＲ７　とＲ
８　が一緒になってアルキレン基を形成し、ｎは１又は
２を示す〕で表わされる化合物（ｇ）次の一般式（１１）［ＲｕＨｌ（Ｒ−ＢＩＮＡＰ）ｍ］Ｚｎ　　　　　　（
１１）〔式中、Ｒ−ＢＩＮＡＰ　は前記と同様の意味を
示し、ＺはＣｌＯ４　、ＢＦ４　又はＰＦ６　を示し、
ｌが０のときｍは１、ｎは２を示し、ｌが１のときｍは
２、ｎは１を示す〕で表わされる化合物（ｈ）次の一般式（１２）［ＲｕＴｌＭｍ（Ｒ−ＢＩＮＡＰ）］Ｋｎ　　　　　　
　　　（１２）〔式中、Ｒ−ＢＩＮＡＰ　は前記と同様
の意味を示し、Ｔはハロゲン原子を示し、Ｍは置換され
ていてもよいベンゼン又はアセトニトリルを示し、Ｋは
ハロゲン原子、ＣｌＯ４　、ＰＦ６　、ＢＰｈ４　（式
中、Ｐｈはフェニル基を示す）又はＢＦ４　を示し、Ｍ
が置換基を有していてもよいベンゼンの場合、ｌは１、
ｍは１、ｎは１を示し、Ｍがアセトニトリルの場合、ｌ
が１のときはｍは２、ｎは１を示し、ｌが０のときはｍ
は４、ｎは２を示す〕で表わされる化合物（ｉ）Ｒｕ３
（ＣＯ）１２、Ｒｕｌ２（ＣＯ）２　、Ｒｕ２Ｃｌ４（
ＣＯ）６　、Ｒｕ（ＣＯ）５　又はＲｕ（ＴＰＰ）（Ｃ
Ｏ）−ＴＨＦ〔式中、ＴＰＰ　はテトラフェニルポルフ
ィンを示し、ＴＨＦ　はテトラヒドロフランを示す〕（
ｊ）Ｒｕ（ＮＯ）Ｃｌ３・Ｈ２Ｏ　、Ｒｕ（ＮＯ）Ｂｒ
３・Ｈ２Ｏ　、Ｋ（ＲｕＯ４）　又はＢａ（ＲｕＯ３（
ＯＨ）２）の中から選ばれる化合物である請求項２記載
の製造方法。
【請求項４】　　オスミウム化合物が、次の一般式（１
３）ＯｓＹ３　　　　　　　（１３）〔式中、Ｙは塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を示す
〕で表わされる化合物である請求項２記載の製造方法。
【請求項５】　　コバルト化合物が、次の一般式（１４
）ＣｏＷ２　　　　　　　（１４）〔式中、Ｗは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はアセ
トキシ基を示す〕で表わされる化合物である請求項２記
載の製造方法。