JPH0798798B2 - ４―アセトキシアゼチジノン類の製造方法 - Google Patents
４―アセトキシアゼチジノン類の製造方法Info
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- JPH0798798B2 JPH0798798B2 JP1308642A JP30864289A JPH0798798B2 JP H0798798 B2 JPH0798798 B2 JP H0798798B2 JP 1308642 A JP1308642 A JP 1308642A JP 30864289 A JP30864289 A JP 30864289A JP H0798798 B2 JPH0798798 B2 JP H0798798B2
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はチエナマイシンに代表されるペネム系抗生物質
の合成中間体として有用な次の一般式（Ｉ） 〔式中、Ｚは水素原子、低級アルキル基、保護されてい
てもよいヒドロキシエチル基を示す〕 で表わされる４−アセトキシアゼチジノン類の製造方法
に関する。
の合成中間体として有用な次の一般式（Ｉ） 〔式中、Ｚは水素原子、低級アルキル基、保護されてい
てもよいヒドロキシエチル基を示す〕 で表わされる４−アセトキシアゼチジノン類の製造方法
に関する。
チエナマイシンに代表されるペネム系抗生物質は広範囲
の抗菌スペクトルを有することから、医薬品として注目
をあびている。
の抗菌スペクトルを有することから、医薬品として注目
をあびている。
ペネム系抗生物質の製造方法としては、亀谷〔Heterocy
cles,17,463〜506（1982）〕、渋谷〔「有機合成化学」
41,62（1983）〕らによって種々の方法が報告されてい
るが、その中でも前記一般式（Ｉ）で表わされる４−ア
セトキシアゼチジノン類を中間に経由する方法は、化合
物（Ｉ）が各種求核剤と反応可能なことから、種々のペ
ネム抗生物質を製造できる有利な方法である。
cles,17,463〜506（1982）〕、渋谷〔「有機合成化学」
41,62（1983）〕らによって種々の方法が報告されてい
るが、その中でも前記一般式（Ｉ）で表わされる４−ア
セトキシアゼチジノン類を中間に経由する方法は、化合
物（Ｉ）が各種求核剤と反応可能なことから、種々のペ
ネム抗生物質を製造できる有利な方法である。
従来、４−アセトキシアゼチジノン類（Ｉ）を製造する
方法としては、４−カルボキシアゼチジノン類を四酢酸
鉛で酸化する方法〔Tetrahedron Letters,23,2293（198
2）〕、４−カルボキシアゼチジノン類を電極酸化する
方法〔同、29,1409（1988）〕、４−アセチルアゼチジ
ノン類をメタクロロ過安息香酸により酸化する方法（特
開昭61−50964号）、４−シリルオキシアゼチジノン誘
導体を無水酢酸で処理する方法（ヨーロッパ特許第247,
378号）等が知られている。
方法としては、４−カルボキシアゼチジノン類を四酢酸
鉛で酸化する方法〔Tetrahedron Letters,23,2293（198
2）〕、４−カルボキシアゼチジノン類を電極酸化する
方法〔同、29,1409（1988）〕、４−アセチルアゼチジ
ノン類をメタクロロ過安息香酸により酸化する方法（特
開昭61−50964号）、４−シリルオキシアゼチジノン誘
導体を無水酢酸で処理する方法（ヨーロッパ特許第247,
378号）等が知られている。
しかし、上記方法によりアゼチジノン類の４位にアセト
キシ基を導入するには、４位に特定の置換基をもつアゼ
チジノン類を合成し、この置換基を手掛りとしてアセト
キシ基を導入しなければならない。しかしながら、この
方法は、４位に特定の置換基をもつアゼチジノン類を製
造するのが厄介であると共に、４位置換基をアセトキシ
基に変換するのが困難であるという欠点があり、工業的
方法として不利なるを免れなかった。
キシ基を導入するには、４位に特定の置換基をもつアゼ
チジノン類を合成し、この置換基を手掛りとしてアセト
キシ基を導入しなければならない。しかしながら、この
方法は、４位に特定の置換基をもつアゼチジノン類を製
造するのが厄介であると共に、４位置換基をアセトキシ
基に変換するのが困難であるという欠点があり、工業的
方法として不利なるを免れなかった。
斯かる実情において、本発明者は鋭意研究を行った結
果、ルテニウム化合物を触媒とする酢酸及び酸化剤との
反応により、アゼチジノン類の４位に簡単にアセトキシ
基を導入できることを見出し、本発明を完成した。
果、ルテニウム化合物を触媒とする酢酸及び酸化剤との
反応により、アゼチジノン類の４位に簡単にアセトキシ
基を導入できることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、一般式（II） 〔式中、Ｚは水素原子、低級アルキル基、保護されてい
てもよいヒドロキシエチル基を示し、Ｙは水素原子また
はカルボキシル基を示す〕 で表わされるアゼチジノン類に、ルテニウム化合物を触
媒として、酢酸及び酸化剤を反応せしめて一般式（Ｉ） 〔式中、Ｚは前記と同じものを示す〕 で表わされる４−アセトキシアゼチジノン類を製造する
方法である。
てもよいヒドロキシエチル基を示し、Ｙは水素原子また
はカルボキシル基を示す〕 で表わされるアゼチジノン類に、ルテニウム化合物を触
媒として、酢酸及び酸化剤を反応せしめて一般式（Ｉ） 〔式中、Ｚは前記と同じものを示す〕 で表わされる４−アセトキシアゼチジノン類を製造する
方法である。
本発明の原料のアゼチジノン類（II）としては、アゼチ
ジン−２−オン、３−メチルアゼチジン−２−オン、３
−エチルアゼチジン−２−オン、３−（保護）ヒドロキ
シエチルアゼチジン−２−オン、３−メチル−４−カル
ボキシアゼチジン−２−オン、３−エチル−４−カルボ
キシアゼチジン−２−オン、３−（保護）ヒドロキシエ
チル−４−カルボキシアゼチジン−２−オン等が挙げら
れる。ここにおいて、水酸基の保護基としては、ラクタ
ム系化合物において水酸基の保護に一般に使用されてい
るもの、例えばトリメチルシリル、トリエチルシリル、
tert−ブチルジメチルシリル、ジフェニル・tert−ブチ
ルシリル等のシリル基、ベンジルオキシカルボニル基、
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基、ｏ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル基等が挙げられる。
ジン−２−オン、３−メチルアゼチジン−２−オン、３
−エチルアゼチジン−２−オン、３−（保護）ヒドロキ
シエチルアゼチジン−２−オン、３−メチル−４−カル
ボキシアゼチジン−２−オン、３−エチル−４−カルボ
キシアゼチジン−２−オン、３−（保護）ヒドロキシエ
チル−４−カルボキシアゼチジン−２−オン等が挙げら
れる。ここにおいて、水酸基の保護基としては、ラクタ
ム系化合物において水酸基の保護に一般に使用されてい
るもの、例えばトリメチルシリル、トリエチルシリル、
tert−ブチルジメチルシリル、ジフェニル・tert−ブチ
ルシリル等のシリル基、ベンジルオキシカルボニル基、
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基、ｏ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル基等が挙げられる。
これらアゼチジノン類（II）のうち、Ｚが（保護）ヒド
ロキシエチル基で、Ｙが水素原子の化合物は、例えばア
セト酢酸から誘導される〔Ber.,92,1599（1959）〕次の
（IV）式の化合物から次の反応式に従って製造される。
ロキシエチル基で、Ｙが水素原子の化合物は、例えばア
セト酢酸から誘導される〔Ber.,92,1599（1959）〕次の
（IV）式の化合物から次の反応式に従って製造される。
〔式中、R2はカルボン酸の保護基を、R3は水素原子、低
級アルキル基、低級アルコキシ基または低級アルキル基
若しくは低級アルコキシ基で置換されてもよいフェニ
ル、ベンジルオキシ基を、R4は水酸基の保護基を示す〕 すなわち、化合物（IV）をルテニウム−光学活性ホスフ
ィン錯体を触媒として不斉水素添加して化合物（Ｖ）と
なし、これを希酸等で加水分解して化合物（VI）とな
し、これを中和して化合物（VII）となし、次いでこれ
をラクタム化して化合物（II−１）を得る。更にこれの
水酸基を保護すれば化合物（II−２）が得られる。
級アルキル基、低級アルコキシ基または低級アルキル基
若しくは低級アルコキシ基で置換されてもよいフェニ
ル、ベンジルオキシ基を、R4は水酸基の保護基を示す〕 すなわち、化合物（IV）をルテニウム−光学活性ホスフ
ィン錯体を触媒として不斉水素添加して化合物（Ｖ）と
なし、これを希酸等で加水分解して化合物（VI）とな
し、これを中和して化合物（VII）となし、次いでこれ
をラクタム化して化合物（II−１）を得る。更にこれの
水酸基を保護すれば化合物（II−２）が得られる。
本発明で触媒として使用されるルテニウム化合物として
は次のものが挙げられる。
は次のものが挙げられる。
（１）RuX3 （III） 〔式中、Ｘはハロゲン原子、R1COO（但しR1は低級アル
キル基を示す）で表わされるアシルオキシまたはアセチ
ルアセトナートを示す〕 具体例としては、例えば三塩化ルテニウム、三臭化ルテ
ニウム、三ヨウ化ルテニウム及びこれらの水和物、ルテ
ニウムアセチルアセトナート、酢酸ルテニウム等が挙げ
られる。
キル基を示す）で表わされるアシルオキシまたはアセチ
ルアセトナートを示す〕 具体例としては、例えば三塩化ルテニウム、三臭化ルテ
ニウム、三ヨウ化ルテニウム及びこれらの水和物、ルテ
ニウムアセチルアセトナート、酢酸ルテニウム等が挙げ
られる。
（２）ルテニウム錯体 ルテニウム−ホスフィン錯体 HRuCl(PPh3)3，H2Ru(PPh3)4， Ru2Cl4(BINAP)2(NEt3)， Ru2Cl4(Tol-BINAP)2(NEt3)， Ru(OAc)2(BINAP)，Ru2Cl4(1,4-diphos)2， HRuCl(BINAP)2， 〔Ru(bpy)2(O)(PPh3)〕(ClO4)2， 〔Ru(bpy)2(O)(PEt3)〕(ClO4)2， 〔Ru(H2O)(bpy)2(PPh3)〕(ClO4)2等（但し、上記化合物
中のEtはエチル基を、Phはフェニル基を、Acはアセチル
基を、BINAPは2,2′−ビス（ジフェニルホスフィノ）−
1,1′−ビナフチルを、bpyはビピリジンを、Tol−BINAP
は2,2′−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−1,1′−
ビナフチルを意味し、以下同様に用いる） ルテニウム−アミン錯体 〔Ru(NH3)5Cl〕Cl2，Ru(NH3)6Cl3， 〔Ru(C2H8N2)2(N2)(N3)〕PF6， 〔Ru(NH3)5Br〕Br2，〔Ru(NH3)5I〕Ｉ２， 〔Ru(NH3)5(N2)〕(BF3)， 〔Ru(NH3)5(N2)〕Br2， 〔Ru(NH3)5(N2)〕Cl2，〔Ru(NH3)5(N2)〕Ｉ２， Ru(NH3)6I3，RuCl2(C10H8N2)2・2H2O， RuCl2(C10H8N2)3・6H2O， Ru3O2(NH3)14Cl6， 〔Ru(bpy)2(py)(H2O)〕(ClO4)2， RuO2(py)2(OAc)2等（但し、上記化合物中のpyはピリジ
ンを意味し、以下同様に用いる。） ルテニウム−ニトロシル錯体 Ru(NO)Cl3〕・H2O，Ru(NO)(NO3)3， 〔RuCl(NH3)4(NO)〕Cl2， 〔Ru(NCO)(NH3)4(NO)〕(ClO4)等 ルテニウム−オレフィン錯体 Ru(C5H5)2，Ru〔(CH3)5C5〕2， Ru(C8H12)2，Ru(C8H12)Cl， Ru(C8H12)(C8H10)等 ルテニウム−カルボニル錯体 Ru3(CO)12，〔RuCl2(CO)3〕2， RuCl2(CO)2(PPh3)2等 ルテニウムオキソ錯体 Ｋ〔RuO4〕,Ba〔RuO3(OH)2〕等 （３）粉末状ルテニウム金属；ルテニウム−カーボン、
ルテニウム−グラファイト、ルテニウム−アルミナ、ル
テニウム−シリカ−アルミナ、ルテニウム−ゼオライ
ト、ルテニウム−酸化鉄、ルテニウム−酸化ジルコニウ
ム、ルテニウム−ケイソウ土等のルテニウム−担体等。
中のEtはエチル基を、Phはフェニル基を、Acはアセチル
基を、BINAPは2,2′−ビス（ジフェニルホスフィノ）−
1,1′−ビナフチルを、bpyはビピリジンを、Tol−BINAP
は2,2′−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−1,1′−
ビナフチルを意味し、以下同様に用いる） ルテニウム−アミン錯体 〔Ru(NH3)5Cl〕Cl2，Ru(NH3)6Cl3， 〔Ru(C2H8N2)2(N2)(N3)〕PF6， 〔Ru(NH3)5Br〕Br2，〔Ru(NH3)5I〕Ｉ２， 〔Ru(NH3)5(N2)〕(BF3)， 〔Ru(NH3)5(N2)〕Br2， 〔Ru(NH3)5(N2)〕Cl2，〔Ru(NH3)5(N2)〕Ｉ２， Ru(NH3)6I3，RuCl2(C10H8N2)2・2H2O， RuCl2(C10H8N2)3・6H2O， Ru3O2(NH3)14Cl6， 〔Ru(bpy)2(py)(H2O)〕(ClO4)2， RuO2(py)2(OAc)2等（但し、上記化合物中のpyはピリジ
ンを意味し、以下同様に用いる。） ルテニウム−ニトロシル錯体 Ru(NO)Cl3〕・H2O，Ru(NO)(NO3)3， 〔RuCl(NH3)4(NO)〕Cl2， 〔Ru(NCO)(NH3)4(NO)〕(ClO4)等 ルテニウム−オレフィン錯体 Ru(C5H5)2，Ru〔(CH3)5C5〕2， Ru(C8H12)2，Ru(C8H12)Cl， Ru(C8H12)(C8H10)等 ルテニウム−カルボニル錯体 Ru3(CO)12，〔RuCl2(CO)3〕2， RuCl2(CO)2(PPh3)2等 ルテニウムオキソ錯体 Ｋ〔RuO4〕,Ba〔RuO3(OH)2〕等 （３）粉末状ルテニウム金属；ルテニウム−カーボン、
ルテニウム−グラファイト、ルテニウム−アルミナ、ル
テニウム−シリカ−アルミナ、ルテニウム−ゼオライ
ト、ルテニウム−酸化鉄、ルテニウム−酸化ジルコニウ
ム、ルテニウム−ケイソウ土等のルテニウム−担体等。
また、本発明で用いられる酸化剤としては特に限定され
るものではないが、例えば各種カルボン酸の過酸化物、
パーオキシド類、高濃度サラシ粉、オゾン、シクロヘキ
センオゾニド、過酸化ナトリウム、Ｎ−メチルモルホリ
ン−Ｎ−オキシド、過ホウ酸ナトリウム、ヨードシルベ
ンゼンジアセテート、ヨードシルベンゼン、メタ過ヨウ
素酸ナトリウム、パラ過ヨウ素酸ナトリウム等を挙げる
ことができる。ここでカルボン酸の過酸化物の具体例と
しては、過酢酸、過プロピオン酸、ｍ−クロロロ過安息
香酸等を挙げることができる。これらは通常の市販品を
用いてもよいし、また反応前にカルボン酸と過酸化水素
から別途調製して用いてもよい。更にパーオキシド類の
具体例としては、メチルエチルケトンパーオキシド、メ
チルイソブチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノン
パーオキシド、メチルシクロヘキサノンパーオキシド、
ジアセチルパーオキシド、ジプロピオニルパーオキシ
ド、ジイソブチリルパーオキシド等を挙げることができ
る。ここで、酸化剤として、過酢酸を使用する場合、通
常、過酢酸には酢酸が混入していることから、特に改め
て酢酸を添加する必要がなく、便利である。
るものではないが、例えば各種カルボン酸の過酸化物、
パーオキシド類、高濃度サラシ粉、オゾン、シクロヘキ
センオゾニド、過酸化ナトリウム、Ｎ−メチルモルホリ
ン−Ｎ−オキシド、過ホウ酸ナトリウム、ヨードシルベ
ンゼンジアセテート、ヨードシルベンゼン、メタ過ヨウ
素酸ナトリウム、パラ過ヨウ素酸ナトリウム等を挙げる
ことができる。ここでカルボン酸の過酸化物の具体例と
しては、過酢酸、過プロピオン酸、ｍ−クロロロ過安息
香酸等を挙げることができる。これらは通常の市販品を
用いてもよいし、また反応前にカルボン酸と過酸化水素
から別途調製して用いてもよい。更にパーオキシド類の
具体例としては、メチルエチルケトンパーオキシド、メ
チルイソブチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノン
パーオキシド、メチルシクロヘキサノンパーオキシド、
ジアセチルパーオキシド、ジプロピオニルパーオキシ
ド、ジイソブチリルパーオキシド等を挙げることができ
る。ここで、酸化剤として、過酢酸を使用する場合、通
常、過酢酸には酢酸が混入していることから、特に改め
て酢酸を添加する必要がなく、便利である。
本発明において酢酸を反応させるに際し、酢酸塩を共存
させると収率が向上するので好ましい。かかる酢酸塩と
しては、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム
等が挙げられる。
させると収率が向上するので好ましい。かかる酢酸塩と
しては、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム
等が挙げられる。
本発明を実施するには、化合物（II）、酸化剤、酢酸及
びルテニウム化合物を適当な溶媒に溶解または懸濁せし
め、−10℃〜５℃の温度で、攪拌下に10分〜５時間、好
ましくは約１時間反応させることにより行われる。原料
化合物、触媒等の添加順序・方法は特に限定されない
が、酸化剤は最後に徐々に添加するのが望ましい。
びルテニウム化合物を適当な溶媒に溶解または懸濁せし
め、−10℃〜５℃の温度で、攪拌下に10分〜５時間、好
ましくは約１時間反応させることにより行われる。原料
化合物、触媒等の添加順序・方法は特に限定されない
が、酸化剤は最後に徐々に添加するのが望ましい。
溶媒としては、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロ
ベンゼン等が使用される。酢酸は化合物（II）に対し10
〜60倍モル、特に20〜40倍モル使用するのが好ましく、
酸化剤は化合物（II）に対し１〜８倍モル、特に２〜３
倍モル使用するのが好ましい。また触媒のルテニウム化
合物は化合物（II）に対し0.01〜0.2倍モル、特に0.02
〜0.1倍モル使用するのが好ましい。
ベンゼン等が使用される。酢酸は化合物（II）に対し10
〜60倍モル、特に20〜40倍モル使用するのが好ましく、
酸化剤は化合物（II）に対し１〜８倍モル、特に２〜３
倍モル使用するのが好ましい。また触媒のルテニウム化
合物は化合物（II）に対し0.01〜0.2倍モル、特に0.02
〜0.1倍モル使用するのが好ましい。
反応混合物からの目的物の単離は、自体公知の手段、例
えば再結晶、カラムクロマトグラフィー等により行うこ
とができる。
えば再結晶、カラムクロマトグラフィー等により行うこ
とができる。
叙上の如く、本発明方法は、簡単な操作で、ペネム系抗
生物質の製造中間体として有用な４−アセトキシアゼチ
ジノン類（Ｉ）を製造することのできる工業的に有利な
方法である。
生物質の製造中間体として有用な４−アセトキシアゼチ
ジノン類（Ｉ）を製造することのできる工業的に有利な
方法である。
次に実施例及び参考例を挙げて説明する。
参考例１ RuCl4((+)-BINAP)2(NEt3)（ジ〔2,2′−ビス（ジフェニ
ルホスフィノ）−1,1′−ビナフチル〕テトラクロロ−
ジルテニウムトリエチルアミン）の合成： 〔RuCl2(COD)〕ｎ（但し、CODは1,5−シクロオクタジエ
ンを意味し、以下同様に用いる。）1g（3.56mmol）、
（＋）−BINAP 2.66g（4.27mmol）及びトリエチルアミ
ン1.5gを100mlのトリエン中に窒素雰囲気下に加える。1
0時間加熱還流させた後、溶媒を減圧下留去した。結晶
を塩化メチレンを加えて溶解した後、セライト上でろ過
し、ろ液を濃縮乾固したところ3.7gの濃褐色の固体Ru2C
l4((+)-BINAP)2(NEt3)を得た。
ルホスフィノ）−1,1′−ビナフチル〕テトラクロロ−
ジルテニウムトリエチルアミン）の合成： 〔RuCl2(COD)〕ｎ（但し、CODは1,5−シクロオクタジエ
ンを意味し、以下同様に用いる。）1g（3.56mmol）、
（＋）−BINAP 2.66g（4.27mmol）及びトリエチルアミ
ン1.5gを100mlのトリエン中に窒素雰囲気下に加える。1
0時間加熱還流させた後、溶媒を減圧下留去した。結晶
を塩化メチレンを加えて溶解した後、セライト上でろ過
し、ろ液を濃縮乾固したところ3.7gの濃褐色の固体Ru2C
l4((+)-BINAP)2(NEt3)を得た。
元素分析値：C94H79Cl4NP4Ru2として Ru Ｃ Ｈ Ｐ 理論値（％） 11.96 66.85 4.71 7.33 実測値（％） 11.68 67.62 4.97 6.941 HNMR(CDCl3)δppm: 1.30−1.50（t,6H,NCH2CH3）， 3.05−3.30（q,4H,NCH2CH3）， 6.40−8.60（m,32H,Ar−Ｈ） 参考例２ （2S,3R）−２−（Ｎ−ベンゾイルアミノメチル）−３
−ヒドロキシブタン酸メチルの合成： あらかじめ窒素置換を行った100mlのステンレスオート
クレーブに、２−（Ｎ−ベンゾイルアミノメチル）−３
−オキソブタン酸メチル2.5g（10mmol）と参考例１に準
じて合成したルテニウム−光学活性ホスフィン錯体 Ru2Cl4((+)-BINAP)2(NEt3)84.5mg（0.05mmol）を塩化メ
チレン17.5mlに溶かしたものを加え、50℃、水素圧100k
g/cm2で20時間攪拌持続して反応させた。水添反応物の
溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（溶離液はｎ−ヘキサンと酢酸エチルの混合溶媒を
使用）により触媒を除き、2.25gの（2S,3R）−２−（Ｎ
−ベンゾイルアミノメチル）−３−ヒドロキシブタン酸
メチルを得た。収率90％、光学純度98％ee（（＋）−α
メトキシ−αトリフロロメチル−フェニル酢酸のエステ
ルに誘導した後、下記条件にて高速液体クロマトグラフ
ィーを使用して決定した。カラム:Develosil 100−３
（4.6mm×250mm）（野村化学（株）製）、測定波長UV:2
54nm、展開溶媒：ヘキサン／ジエチルエーテル＝90/1
0、流速:1ml/min）。1 HNMR(CDCl3)δppm: 1.26（d,J＝6.25Hz,3H）， 2.62（m,1H）,3.57−3.62（m,1H）， 3.73（s,3H）,4.60−4.03（m,1H）， 4.07−4.14（m,1H）,7.02（br,s,1H）， 7.41−7.80（m,5H） 参考例３ （2S,3R）−２−アミノメチル−３−ヒドロキシブタン
酸・塩酸塩の合成： （2S,3R）−２−（Ｎ−ベンゾイルアミノメチル）−３
−ヒドロキシブタン酸メチル10.65g（42.43mmol）に10
％HCl水溶液70mlを室温にて加えて溶かし、その後4.5時
間加熱還流し、室温まで放置し、析出する安息香酸をろ
過し、ろ液をトルエン100mlで２回洗浄分液し、水層を
減圧下濃縮することにより、（2S,3R）−２−アミノメ
チル−３−ヒドロキシブタン酸・塩酸塩6.67gを得た。
収率93％。1 HNMR(CD3OD)δppm: 1.32（3H,d,J＝6.54Hz）,2,85（1H,m）， 3.37（2H,m）,4.33（1H,dq,J＝6.54,4.99Hz） 参考例４ （2S,3R）−２−アミノメチル−３−ヒドロキシブタン
酸の合成： （2S,3R）−２−アミノメチル−３−ヒドロキシブタン
酸・塩酸塩6.14g（36.22mmol）にアセトニトリル150ml
を加え、氷冷下、トリエチルアミン5.05ml（36.22mmo
l）を加えて、２日間室温にて激しく攪拌した。析出し
たパウダー状の結晶をろ過して、残渣を集め、これにア
セトニトリル100mlを加えて洗浄後ろ過して結晶の（2S,
3R）−２−アミノメチル−３−ヒドロキシブタン酸4.07
gを得た。収率84％。1 HNMR(CD3OD)δppm: 1.27（3H,d,J＝6.39Hz）， 2.49（1H,dt,J＝6.21,6.36Hz）， 3.26（2H,d,J＝6.36Hz）， 4.10（1H,dq,J＝6.21,6.39Hz） 参考例５ （１′R,3S）−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−
オンの合成： （2S,3R）−２−アミノメチル−３−ヒドロキシブタン
酸2.28g（17.14mmol）に無水アセトニトリル342mlを加
え懸濁させ、トリフェニルホスフィン5.49g（20.93mmo
l）及びジピリジルジスルフィド4.54g（20.61mmol）を
加えて、55〜60℃にて20時間反応させ、減圧下濃縮し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより塩化メチレ
ン−酢酸エチル−メタノール（8:8:1）を用いて分離精
製し、（１′R,3S）−３−ヒドロキシエチルアゼチジン
−２−オン1.64gを得た。収率83％。1 HNMR(CDCl3)δppm: 1.28（3H,d,J＝6.3Hz）,2.10（1H,−OH）， 3.31（1H,ddd,J＝5.4,5.2,2.7Hz）， 3.36（2H,ddd,J＝5.2,5.2,2.7Hz）， 4.21（1H,dq,J＝6.3,5.4Hz）,5.82（1H,−NH） 参考例６ （１′R,3S）−３−（１′−tert−ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル）アゼチジン−２−オンの合成： （１′R,3S）−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−
オン3.88g（33.74mmol）に無水DMF（但し、DMFはジメチ
ルホルムアミドを意味する）15mlを加えて溶かし、イミ
ダゾール2.41g（35.43mmol）、tert−ブチルジメチルシ
リルクロライド5.34g（35.43mmol）を加えて、室温にて
20時間反応させ、これを100mlの冷水に注ぎ、析出した
結晶をろ取することにより、（１′R,3S）−３−（１′
−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジ
ン−２−オン6.5gを得た。収率84％。
−ヒドロキシブタン酸メチルの合成： あらかじめ窒素置換を行った100mlのステンレスオート
クレーブに、２−（Ｎ−ベンゾイルアミノメチル）−３
−オキソブタン酸メチル2.5g（10mmol）と参考例１に準
じて合成したルテニウム−光学活性ホスフィン錯体 Ru2Cl4((+)-BINAP)2(NEt3)84.5mg（0.05mmol）を塩化メ
チレン17.5mlに溶かしたものを加え、50℃、水素圧100k
g/cm2で20時間攪拌持続して反応させた。水添反応物の
溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（溶離液はｎ−ヘキサンと酢酸エチルの混合溶媒を
使用）により触媒を除き、2.25gの（2S,3R）−２−（Ｎ
−ベンゾイルアミノメチル）−３−ヒドロキシブタン酸
メチルを得た。収率90％、光学純度98％ee（（＋）−α
メトキシ−αトリフロロメチル−フェニル酢酸のエステ
ルに誘導した後、下記条件にて高速液体クロマトグラフ
ィーを使用して決定した。カラム:Develosil 100−３
（4.6mm×250mm）（野村化学（株）製）、測定波長UV:2
54nm、展開溶媒：ヘキサン／ジエチルエーテル＝90/1
0、流速:1ml/min）。1 HNMR(CDCl3)δppm: 1.26（d,J＝6.25Hz,3H）， 2.62（m,1H）,3.57−3.62（m,1H）， 3.73（s,3H）,4.60−4.03（m,1H）， 4.07−4.14（m,1H）,7.02（br,s,1H）， 7.41−7.80（m,5H） 参考例３ （2S,3R）−２−アミノメチル−３−ヒドロキシブタン
酸・塩酸塩の合成： （2S,3R）−２−（Ｎ−ベンゾイルアミノメチル）−３
−ヒドロキシブタン酸メチル10.65g（42.43mmol）に10
％HCl水溶液70mlを室温にて加えて溶かし、その後4.5時
間加熱還流し、室温まで放置し、析出する安息香酸をろ
過し、ろ液をトルエン100mlで２回洗浄分液し、水層を
減圧下濃縮することにより、（2S,3R）−２−アミノメ
チル−３−ヒドロキシブタン酸・塩酸塩6.67gを得た。
収率93％。1 HNMR(CD3OD)δppm: 1.32（3H,d,J＝6.54Hz）,2,85（1H,m）， 3.37（2H,m）,4.33（1H,dq,J＝6.54,4.99Hz） 参考例４ （2S,3R）−２−アミノメチル−３−ヒドロキシブタン
酸の合成： （2S,3R）−２−アミノメチル−３−ヒドロキシブタン
酸・塩酸塩6.14g（36.22mmol）にアセトニトリル150ml
を加え、氷冷下、トリエチルアミン5.05ml（36.22mmo
l）を加えて、２日間室温にて激しく攪拌した。析出し
たパウダー状の結晶をろ過して、残渣を集め、これにア
セトニトリル100mlを加えて洗浄後ろ過して結晶の（2S,
3R）−２−アミノメチル−３−ヒドロキシブタン酸4.07
gを得た。収率84％。1 HNMR(CD3OD)δppm: 1.27（3H,d,J＝6.39Hz）， 2.49（1H,dt,J＝6.21,6.36Hz）， 3.26（2H,d,J＝6.36Hz）， 4.10（1H,dq,J＝6.21,6.39Hz） 参考例５ （１′R,3S）−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−
オンの合成： （2S,3R）−２−アミノメチル−３−ヒドロキシブタン
酸2.28g（17.14mmol）に無水アセトニトリル342mlを加
え懸濁させ、トリフェニルホスフィン5.49g（20.93mmo
l）及びジピリジルジスルフィド4.54g（20.61mmol）を
加えて、55〜60℃にて20時間反応させ、減圧下濃縮し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより塩化メチレ
ン−酢酸エチル−メタノール（8:8:1）を用いて分離精
製し、（１′R,3S）−３−ヒドロキシエチルアゼチジン
−２−オン1.64gを得た。収率83％。1 HNMR(CDCl3)δppm: 1.28（3H,d,J＝6.3Hz）,2.10（1H,−OH）， 3.31（1H,ddd,J＝5.4,5.2,2.7Hz）， 3.36（2H,ddd,J＝5.2,5.2,2.7Hz）， 4.21（1H,dq,J＝6.3,5.4Hz）,5.82（1H,−NH） 参考例６ （１′R,3S）−３−（１′−tert−ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル）アゼチジン−２−オンの合成： （１′R,3S）−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−
オン3.88g（33.74mmol）に無水DMF（但し、DMFはジメチ
ルホルムアミドを意味する）15mlを加えて溶かし、イミ
ダゾール2.41g（35.43mmol）、tert−ブチルジメチルシ
リルクロライド5.34g（35.43mmol）を加えて、室温にて
20時間反応させ、これを100mlの冷水に注ぎ、析出した
結晶をろ取することにより、（１′R,3S）−３−（１′
−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジ
ン−２−オン6.5gを得た。収率84％。
▲〔α〕25 D▼−69.8°（ｃ＝1.02 CHCl3） 光学純度94％ee m.p. 66−68℃1 HNMR(CDCl3)δppm: 0.09（6H,s）,0.88（9H,s）， 1.21（3H,d,J＝6.21Hz）,3.21（1H,m）， 3.30（1H,dd,J＝5.08,5.26Hz）,3.37（1H,m）， 4.20（1H,dq,J＝5.26,6.21Hz）,5.63（1H,−NH） 実施例１ （１′R,3R,4R）−４−アセトキシ−３−（１′−tert
−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジン−２
−オンの合成： （１′R,3S）−３−（１′−tert−ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル）アゼチジン−２−オン0.50g（2.18mmo
l）に、窒素気流下で無水アセトニトリル20mlを加えて
溶かし、次いで酢酸ナトリウム0.18g（2.18mmol）を加
えた。この溶液に、三塩化ルテニウム45mg（0.22mmol）
の無水アセトニトリル20ml溶液を加え、−５℃に冷却し
た。更に、注意深く、40％過酢酸の酢酸溶液3mlを滴下
した。その後溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにより分離精製することにより（１′R,
3R,4R）−４−アセトキシ−３−（１′−tert−ブチル
ジメチルシリルオキシエチル）アゼチジン−２−オン0.
5gを得た。収率80％。
−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジン−２
−オンの合成： （１′R,3S）−３−（１′−tert−ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル）アゼチジン−２−オン0.50g（2.18mmo
l）に、窒素気流下で無水アセトニトリル20mlを加えて
溶かし、次いで酢酸ナトリウム0.18g（2.18mmol）を加
えた。この溶液に、三塩化ルテニウム45mg（0.22mmol）
の無水アセトニトリル20ml溶液を加え、−５℃に冷却し
た。更に、注意深く、40％過酢酸の酢酸溶液3mlを滴下
した。その後溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにより分離精製することにより（１′R,
3R,4R）−４−アセトキシ−３−（１′−tert−ブチル
ジメチルシリルオキシエチル）アゼチジン−２−オン0.
5gを得た。収率80％。
▲〔α〕25 D▼＋47.8°（ｃ＝0.98CHCl3） 光学純度99.2％ee1 HNMR(CDCl3)δppm: 0.08（3H,s）,0.09（3H,s）,0.88（9H,s）， 1.27（3H,d,J＝6.35Hz）,2.11（3H,s）， 3.19（1H,dd,J＝3.50,1.27Hz）， 4.23（1H,dq,J＝3.50,6.35Hz）， 5.84（1H,d,J＝1.27Hz）,6.40（1H,−NH） 実施例２ ４−アセトキシアゼチジン−２−オンの合成： アゼチジン−２−オン0.71g及び無水酢酸ナトリウム0.8
2gを20mlのアセトニトリルに懸濁せしめた後、−５℃に
冷却し、これに三塩化ルテニウム・三水和物0.26gのア
セトニトリル10ml溶液を加え、更に、反応温度を０℃以
下に保つように、注意深く40％過酢酸の酢酸溶液3.8ml
を滴下した。その後、30分間０℃にて攪拌を続けた。次
いで、40℃以下、減圧にて溶媒を留去した後、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン、酢酸エチ
ル1:1の溶離液）にて精製を行い、0.92gの４−アセトキ
シアゼチジン−２−オンを得た。収率71％。1 HNMR(CDCl3)δppm: 2.13（3H,s）,3.00（1H,ddd,J＝15.26,1.40,0.45Hz）,
3.26（1H,ddd,J＝15.26,4.05,2.58Hz）,5.84（1H,dd,J
＝4.05,1.40Hz）,7.02（1H,bs,−NH） 実施例３ ４−アセトキシ−３−エチルアゼチジン−２−オンの合
成： ３−エチルアゼチジン−２−オン1.0g及び無水酢酸ナト
リウム0.83gに塩化メチレン20mlを加えて懸濁せしめた
後、−５℃に冷却し、これにルテニウムアセチルアセト
ナート錯体0.35gを加えた。次いで、反応温度を０℃以
下に保つよう注意深く40％過酢酸の酢酸溶液3.8mlを滴
下した。
2gを20mlのアセトニトリルに懸濁せしめた後、−５℃に
冷却し、これに三塩化ルテニウム・三水和物0.26gのア
セトニトリル10ml溶液を加え、更に、反応温度を０℃以
下に保つように、注意深く40％過酢酸の酢酸溶液3.8ml
を滴下した。その後、30分間０℃にて攪拌を続けた。次
いで、40℃以下、減圧にて溶媒を留去した後、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン、酢酸エチ
ル1:1の溶離液）にて精製を行い、0.92gの４−アセトキ
シアゼチジン−２−オンを得た。収率71％。1 HNMR(CDCl3)δppm: 2.13（3H,s）,3.00（1H,ddd,J＝15.26,1.40,0.45Hz）,
3.26（1H,ddd,J＝15.26,4.05,2.58Hz）,5.84（1H,dd,J
＝4.05,1.40Hz）,7.02（1H,bs,−NH） 実施例３ ４−アセトキシ−３−エチルアゼチジン−２−オンの合
成： ３−エチルアゼチジン−２−オン1.0g及び無水酢酸ナト
リウム0.83gに塩化メチレン20mlを加えて懸濁せしめた
後、−５℃に冷却し、これにルテニウムアセチルアセト
ナート錯体0.35gを加えた。次いで、反応温度を０℃以
下に保つよう注意深く40％過酢酸の酢酸溶液3.8mlを滴
下した。
以後実施例２と同様に処理し、1.17gの４−アセトキシ
−３−エチルアゼチジン−２−オンを得た。収率74.5
％。1 HNMR(CDCl3)δppm: 0.99（3H,t,J＝7.4Hz）,1.75（2H,m）,2.10（3H,s）,3.
08（1H,m）,5.78（1H,d,J＝1.25Hz）， 6.55（1H,bs,−NH） 実施例４ （１′R,3R,4R）−４−アセトキシ−３−（１′−ヒド
ロキシエチル）アゼチジン−２−オンの合成： （１′R,3S）−３−（１′−ヒドロキシエチル）アゼチ
ジン−２−オン0.3g及び無水酢酸ナトリウム0.21gに塩
化メチレン12mlを加えて懸濁せしめた後、−５℃に冷却
し、これに三塩化ルテニウム三水和物68mgの酢酸（2m
l）溶液を加えた。
−３−エチルアゼチジン−２−オンを得た。収率74.5
％。1 HNMR(CDCl3)δppm: 0.99（3H,t,J＝7.4Hz）,1.75（2H,m）,2.10（3H,s）,3.
08（1H,m）,5.78（1H,d,J＝1.25Hz）， 6.55（1H,bs,−NH） 実施例４ （１′R,3R,4R）−４−アセトキシ−３−（１′−ヒド
ロキシエチル）アゼチジン−２−オンの合成： （１′R,3S）−３−（１′−ヒドロキシエチル）アゼチ
ジン−２−オン0.3g及び無水酢酸ナトリウム0.21gに塩
化メチレン12mlを加えて懸濁せしめた後、−５℃に冷却
し、これに三塩化ルテニウム三水和物68mgの酢酸（2m
l）溶液を加えた。
以下実施例２と同様に処理し155mgの（１′R,3R,4R）−
４−アセトキシ−３−（１′−ヒドロキシエチル）アゼ
チジン−２−オンを得た。収率12％。ただし、精製に用
いたカラムクロマトグラフィーの溶離液は、塩化メチレ
ン−酢酸エチル−メタノール（20:20:1）の混合溶液で
ある。1 HNMR(CDCl3)δppm: 1.25（3H,d,J＝6.7Hz）,2.08（3H,s）,3.17（1H,m）,4.
16（1H,m）,5.81（1H,m）,7.09（1H,bs,−NH） 実施例５ （１′R,3R,4R）−４−アセトキシ−３−（１′−tert
−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジン−２
−オンの合成： （１′R,3S）−３−（１′−tert−ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル）アゼチジン−２−オン10.53g及び無水
酢酸ナトリウム3.58gを400mlのアセトニトリルに懸濁せ
しめた後、０℃に冷却し、三塩化ルテニウム三水和物1.
14gのアセトニトリル200ml溶液を加えた。以後実施例２
と同様に処理し、10.5gの（１′R,3R,4R）−４−アセト
キシ−３−（１′−tert−ブチルジメチルシリルオキシ
エチル）アゼチジン−２−オンを得た。収率80％。ただ
し、精製に用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィー
の溶離液はｎ−ヘキサン−酢酸エチル（4:1）の混合溶
媒である。1 HNMR(CDCl3)δppm: 0.08（3H,s）,0.09（3H,s）,0.88（9H,s）， 1.27（3H,d,J＝6.35Hz）,2.11（3H,s）， 3.19（1H,dd,J＝3.50,1.27Hz）， 4.23（1H,dq,J＝3.50,6.35Hz）， 5.84（1H,d,J＝1.27Hz）,6.40（1H,NH） 実施例６ ４−アセトキシアゼチジン−２−オンの合成： ４−カルボキシアゼチジン−２−オン0.3g、無水酢酸ナ
トリウム0.43g及び５％ルテニウム−カーボン100mgを塩
化メチレン12ml及び酢酸4mlの混合液に懸濁せしめた
後、−３℃に冷却した。これに反応温度を０℃以下に保
つよう注意深く40％過酢酸の酢酸溶液1.1ml滴下し、次
いで、１時間０℃にて攪拌した。吸引ろ過により触媒を
分離した後、溶媒を減圧留去した。これにｎ−ヘキサン
20mlを加え、不溶物をろ過で除き、ろ液を減圧濃縮する
ことにより４−アセトキシアゼチジン−２−オン0.37g
を得た。収率82％。
４−アセトキシ−３−（１′−ヒドロキシエチル）アゼ
チジン−２−オンを得た。収率12％。ただし、精製に用
いたカラムクロマトグラフィーの溶離液は、塩化メチレ
ン−酢酸エチル−メタノール（20:20:1）の混合溶液で
ある。1 HNMR(CDCl3)δppm: 1.25（3H,d,J＝6.7Hz）,2.08（3H,s）,3.17（1H,m）,4.
16（1H,m）,5.81（1H,m）,7.09（1H,bs,−NH） 実施例５ （１′R,3R,4R）−４−アセトキシ−３−（１′−tert
−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジン−２
−オンの合成： （１′R,3S）−３−（１′−tert−ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル）アゼチジン−２−オン10.53g及び無水
酢酸ナトリウム3.58gを400mlのアセトニトリルに懸濁せ
しめた後、０℃に冷却し、三塩化ルテニウム三水和物1.
14gのアセトニトリル200ml溶液を加えた。以後実施例２
と同様に処理し、10.5gの（１′R,3R,4R）−４−アセト
キシ−３−（１′−tert−ブチルジメチルシリルオキシ
エチル）アゼチジン−２−オンを得た。収率80％。ただ
し、精製に用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィー
の溶離液はｎ−ヘキサン−酢酸エチル（4:1）の混合溶
媒である。1 HNMR(CDCl3)δppm: 0.08（3H,s）,0.09（3H,s）,0.88（9H,s）， 1.27（3H,d,J＝6.35Hz）,2.11（3H,s）， 3.19（1H,dd,J＝3.50,1.27Hz）， 4.23（1H,dq,J＝3.50,6.35Hz）， 5.84（1H,d,J＝1.27Hz）,6.40（1H,NH） 実施例６ ４−アセトキシアゼチジン−２−オンの合成： ４−カルボキシアゼチジン−２−オン0.3g、無水酢酸ナ
トリウム0.43g及び５％ルテニウム−カーボン100mgを塩
化メチレン12ml及び酢酸4mlの混合液に懸濁せしめた
後、−３℃に冷却した。これに反応温度を０℃以下に保
つよう注意深く40％過酢酸の酢酸溶液1.1ml滴下し、次
いで、１時間０℃にて攪拌した。吸引ろ過により触媒を
分離した後、溶媒を減圧留去した。これにｎ−ヘキサン
20mlを加え、不溶物をろ過で除き、ろ液を減圧濃縮する
ことにより４−アセトキシアゼチジン−２−オン0.37g
を得た。収率82％。
実施例７ （１′R,3R,4R）−４−アセトキシ−３−（１′−tert
−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジン−２
−オンの合成： （１′R,3S,4R）−３−（１′−tert−ブチルジメチル
シリルオキシエチル）４−カルボキシアゼチジン−２−
オン0.3g、無水酢酸ナトリウム0.18g及び５％ルテニウ
ム−カーボン30mgを塩化メチレン10ml及び酢酸3mlの混
合液に懸濁せしめた後、−３℃に冷却した。以後実施例
６と同様に処理し、ｎ−ヘキサン5mlより再結晶し、0.2
1gの（１′R,3R,4R）−４−アセトキシ−３−（１′−t
ert−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジン
−２−オンを得た。収率66％。
−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジン−２
−オンの合成： （１′R,3S,4R）−３−（１′−tert−ブチルジメチル
シリルオキシエチル）４−カルボキシアゼチジン−２−
オン0.3g、無水酢酸ナトリウム0.18g及び５％ルテニウ
ム−カーボン30mgを塩化メチレン10ml及び酢酸3mlの混
合液に懸濁せしめた後、−３℃に冷却した。以後実施例
６と同様に処理し、ｎ−ヘキサン5mlより再結晶し、0.2
1gの（１′R,3R,4R）−４−アセトキシ−３−（１′−t
ert−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジン
−２−オンを得た。収率66％。
実施例８〜18 （１′R,3R,4R）−４−アセトキシ−３−（１′−tert
−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジン−２
−オンの合成： 触媒、反応条件を下記第１表に示す如く変えた以外は実
施例１に準じた反応を行った。その結果を第１表に示
す。
−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジン−２
−オンの合成： 触媒、反応条件を下記第１表に示す如く変えた以外は実
施例１に準じた反応を行った。その結果を第１表に示
す。
実施例19〜34 ４−アセトキシアゼチジン−２−オンの合成： 触媒、反応条件を下記第２表に示す如く変えた他は実施
例19〜30は実施例２に準じて、実施例31〜34は実施例６
に準じて反応を行った。その結果を第２表に示す。
例19〜30は実施例２に準じて、実施例31〜34は実施例６
に準じて反応を行った。その結果を第２表に示す。
実施例35 （１′R,3R,4R）−４−アセトキシ−３−（１′−tert
−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジン−２
−オンの合成： （１′R,3S）−３−（１′−tert−ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル）アゼチジン−２−オン100mg（0.44mmo
l）、無水酢酸ナトリウム36mg（0.44mmol）及び三塩化
ルテニウム三水和物12mg（0.04mmol）を1mlの酢酸に加
えて溶解した。これに、室温でｍ−クロロ過安息香酸16
7mg（0.97mmol）を固体のまま少量ずつ１時間の間に加
えた。その後４時間攪拌を続けた後反応液を10mlの水に
注ぎ、これを50mlのｎ−ヘキサンで２回抽出した。合わ
せたｎ−ヘキサン層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液10
ml、飽和食塩水10mlの順で洗浄し、次いで無水硫酸マグ
ネシウムを加え乾燥し、ろ過後減圧にて溶媒を留去し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーによりｎ−ヘキサ
ン−酢酸エチル（4:1）の混合溶媒にて精製を行い、86m
gの（（１′R,3R,4R）−４−アセトキシ−３−（１′−
tert−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジン
−２−オンを得た。収率68％。
−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジン−２
−オンの合成： （１′R,3S）−３−（１′−tert−ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル）アゼチジン−２−オン100mg（0.44mmo
l）、無水酢酸ナトリウム36mg（0.44mmol）及び三塩化
ルテニウム三水和物12mg（0.04mmol）を1mlの酢酸に加
えて溶解した。これに、室温でｍ−クロロ過安息香酸16
7mg（0.97mmol）を固体のまま少量ずつ１時間の間に加
えた。その後４時間攪拌を続けた後反応液を10mlの水に
注ぎ、これを50mlのｎ−ヘキサンで２回抽出した。合わ
せたｎ−ヘキサン層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液10
ml、飽和食塩水10mlの順で洗浄し、次いで無水硫酸マグ
ネシウムを加え乾燥し、ろ過後減圧にて溶媒を留去し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーによりｎ−ヘキサ
ン−酢酸エチル（4:1）の混合溶媒にて精製を行い、86m
gの（（１′R,3R,4R）−４−アセトキシ−３−（１′−
tert−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジン
−２−オンを得た。収率68％。
実施例36〜45 （１′R,3R,4R）−４−アセトキシ−３−（１′−tert
−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジン−２
−オンの合成： 実施例35と同じ原料を用い、酸化剤の種類を変え同様な
操作で（１′R,3R,4R）−４−アセトキシ−３−（１′
−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジ
ン−２−オンを合成した。その結果を第３表に示す。
−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジン−２
−オンの合成： 実施例35と同じ原料を用い、酸化剤の種類を変え同様な
操作で（１′R,3R,4R）−４−アセトキシ−３−（１′
−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジ
ン−２−オンを合成した。その結果を第３表に示す。
実施例46 （１′R,3R,4R）−４−アセトキシ−３−（１′−ヒロ
ドキシエチル）アゼチジン−２−オンの合成： （１′R,3S）−３−（１′−ヒドロキシエチル）アゼチ
ジン−２−オン1.0g（8.7mmol）、無水酢酸ナトリウム
0.649g（7.91mmol）を40mlの塩化メチレン中に窒素雰囲
気下に加える。−５℃に冷却し、K[RuO4]65.64mg（0.32
2mmol）及び酢酸12.0mlを加えた後、40％過酢酸3.34g
（17.58mmol）を液温が２℃以上にならないように５〜1
0分で滴下した。その後、−５〜０℃で２時間攪拌し
た。反応液を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより塩化メチレン−酢酸エチル−メタノール（8:
8:1）にて目的物質0.687gを得た。収率45.6％。
ドキシエチル）アゼチジン−２−オンの合成： （１′R,3S）−３−（１′−ヒドロキシエチル）アゼチ
ジン−２−オン1.0g（8.7mmol）、無水酢酸ナトリウム
0.649g（7.91mmol）を40mlの塩化メチレン中に窒素雰囲
気下に加える。−５℃に冷却し、K[RuO4]65.64mg（0.32
2mmol）及び酢酸12.0mlを加えた後、40％過酢酸3.34g
（17.58mmol）を液温が２℃以上にならないように５〜1
0分で滴下した。その後、−５〜０℃で２時間攪拌し
た。反応液を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより塩化メチレン−酢酸エチル−メタノール（8:
8:1）にて目的物質0.687gを得た。収率45.6％。
実施例47 （１′R,3R,4R）−４−アセトキシ−３−（１′−ヒロ
ドキシエチル）アゼチジン−２−オンの合成： 触媒をK[RuO4]からBa[RuO3(OH)2]に変えた以外は実施例
46に準じて反応を行った。目的物質を102.95mg（0.32mm
ol）得た。収率19.75％。
ドキシエチル）アゼチジン−２−オンの合成： 触媒をK[RuO4]からBa[RuO3(OH)2]に変えた以外は実施例
46に準じて反応を行った。目的物質を102.95mg（0.32mm
ol）得た。収率19.75％。
実施例48 （１′R,3R,4R）−４−アセトキシ−３−（１′−tert
−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジン−２
−オンの合成： （１′R,3S）−３−（１′−tert−ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル）アゼチジン−２−オン1.02g（4.367mm
ol）及び無水酢酸ナトリウム0.34g（4.146mmol）を40ml
の塩化メチレン中に窒素雰囲気下に加える。−５℃に冷
却し、K[RuO4]32.96mg（0.1615mmol）及び酢酸12.0mlを
加えた後、40％過酢酸1.7g（8.95mmol）を液温が２℃以
上にならないように５〜10分で滴下した。その後、−５
〜０℃で１時間攪拌した。反応液を濃縮し、酢酸エチル
20mlを加え、重ソウ水20mlを加えアルカリ性とし分液し
た。更に水層を酢酸エチルで２回抽出を行い、先の分液
した酢酸エチルと合わせた。酢酸エチル溶液を無水硫酸
マグネシウムを加えて乾燥し、濃縮して粗目的物質1.08
gを得た。収率38.86％。
−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジン−２
−オンの合成： （１′R,3S）−３−（１′−tert−ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル）アゼチジン−２−オン1.02g（4.367mm
ol）及び無水酢酸ナトリウム0.34g（4.146mmol）を40ml
の塩化メチレン中に窒素雰囲気下に加える。−５℃に冷
却し、K[RuO4]32.96mg（0.1615mmol）及び酢酸12.0mlを
加えた後、40％過酢酸1.7g（8.95mmol）を液温が２℃以
上にならないように５〜10分で滴下した。その後、−５
〜０℃で１時間攪拌した。反応液を濃縮し、酢酸エチル
20mlを加え、重ソウ水20mlを加えアルカリ性とし分液し
た。更に水層を酢酸エチルで２回抽出を行い、先の分液
した酢酸エチルと合わせた。酢酸エチル溶液を無水硫酸
マグネシウムを加えて乾燥し、濃縮して粗目的物質1.08
gを得た。収率38.86％。
実施例49 （１′R,3R,4R）−４−アセトキシ−３−（１′−tert
−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジン−２
−オンの合成： 触媒をK[RuO4]からBa[RuO3(OH)2]に変えた以外は実施例
48に準じて反応を行った。粗目的物質51.7mg（0.162mmo
l）を得た。収率58.8％。
−ブチルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジン−２
−オンの合成： 触媒をK[RuO4]からBa[RuO3(OH)2]に変えた以外は実施例
48に準じて反応を行った。粗目的物質51.7mg（0.162mmo
l）を得た。収率58.8％。
実施例50 （1R,3R,4R）−４−アセトキシ−３−（１′−tert−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジン−２−オ
ンの合成： （１′R,3S）−３−（１′−tert−ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル）アゼチジン−２−オン2.0g（8.73mmo
l）、無水酢酸ナトリウム0.72g（8.78mmol）、Ru3(CO)
1293mg（0.145mmol）及び酢酸100mlを加え，室温で、酸
素90l/hrにてオゾン発生器によりオゾンを3.15g/hrで３
時間反応させた。その後ろ過し、濃縮し、酢酸エチル10
0mlを加え、５％重ソウ水50mlで中和の後分液した。更
に、水層を塩化メチレンで２回抽出し、先に分液した酢
酸エチル100mlと合わせ、濃縮し、粗目的物質1.15gを得
た。シリカゲルクロマトグラフィーによりｎ−ヘキサン
−酢酸エチル（8:1）で未反応な（１′R,3S）−３−
（１′−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチル）ア
ゼチジン−２−オン0.21gと目的物質0.05gを得た。収率
1.79％。
チルジメチルシリルオキシエチル）アゼチジン−２−オ
ンの合成： （１′R,3S）−３−（１′−tert−ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル）アゼチジン−２−オン2.0g（8.73mmo
l）、無水酢酸ナトリウム0.72g（8.78mmol）、Ru3(CO)
1293mg（0.145mmol）及び酢酸100mlを加え，室温で、酸
素90l/hrにてオゾン発生器によりオゾンを3.15g/hrで３
時間反応させた。その後ろ過し、濃縮し、酢酸エチル10
0mlを加え、５％重ソウ水50mlで中和の後分液した。更
に、水層を塩化メチレンで２回抽出し、先に分液した酢
酸エチル100mlと合わせ、濃縮し、粗目的物質1.15gを得
た。シリカゲルクロマトグラフィーによりｎ−ヘキサン
−酢酸エチル（8:1）で未反応な（１′R,3S）−３−
（１′−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチル）ア
ゼチジン−２−オン0.21gと目的物質0.05gを得た。収率
1.79％。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｊ 31/24 Ｘ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (4)
- 【請求項１】次の一般式（II） 〔式中、Ｚは水素原子、低級アルキル基、保護されてい
てもよいヒドロキシエチル基を示し、Ｙは水素原子また
はカルボキシル基を示す〕 で表わされるアゼチジノン類に、ルテニウム化合物を触
媒として酢酸及び酸化剤を反応せしめることを特徴とす
る一般式（Ｉ） 〔式中、Ｚは前記と同じものを示す〕 で表わされる４−アセトキシアゼチジノン類の製造方
法。 - 【請求項２】ルテニウム化合物が次の一般式（III） RuX3 （III） 〔式中、Ｘはハロゲン原子、R1COO（但しR1は低級アル
キル基を示す）で表わされるアシルオキシまたはアセチ
ルアセトナートを示す〕 で表わされる化合物である請求項１記載の４−アセトキ
シアゼチジノン類の製造方法。 - 【請求項３】ルテニウム化合物が、ルテニウム−ホスフ
ィン錯体、ルテニウム−アミン錯体、ルテニウム−ニト
ロシル錯体、ルテニウム−オレフィン錯体及びルテニウ
ム−カルボニル錯体及びルテニウムオキソ錯体から選ば
れるルテニウム錯体である請求項１記載の４−アセトキ
シアゼチジノン類の製造方法。 - 【請求項４】ルテニウム化合物が、ルテニウム金属また
はルテニウム−担体である請求項１記載の４−アセトキ
シアゼチジノン類の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1308642A JPH0798798B2 (ja) | 1988-11-29 | 1989-11-28 | ４―アセトキシアゼチジノン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63-301706 | 1988-11-29 | ||
| JP30170688 | 1988-11-29 | ||
| JP1308642A JPH0798798B2 (ja) | 1988-11-29 | 1989-11-28 | ４―アセトキシアゼチジノン類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02231471A JPH02231471A (ja) | 1990-09-13 |
| JPH0798798B2 true JPH0798798B2 (ja) | 1995-10-25 |
Family
ID=26562833
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1308642A Expired - Lifetime JPH0798798B2 (ja) | 1988-11-29 | 1989-11-28 | ４―アセトキシアゼチジノン類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0798798B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2969387B2 (ja) * | 1991-04-18 | 1999-11-02 | 高砂香料工業株式会社 | 置換アセトキシアゼチジノン類及び４−アシルオキシアゼチジノン類の製造方法 |
-
1989
- 1989-11-28 JP JP1308642A patent/JPH0798798B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02231471A (ja) | 1990-09-13 |
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