JPH07242608A - 3−アミノペンタノアート誘導体及びその製造方法 - Google Patents
3−アミノペンタノアート誘導体及びその製造方法Info
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- JPH07242608A JPH07242608A JP6060084A JP6008494A JPH07242608A JP H07242608 A JPH07242608 A JP H07242608A JP 6060084 A JP6060084 A JP 6060084A JP 6008494 A JP6008494 A JP 6008494A JP H07242608 A JPH07242608 A JP H07242608A
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- Japan
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- formula
- compound
- lower alkyl
- tert
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 一般式〔I〕
【化1】
(式中、R1 は低級アルキル基を、R2 は水素原子、低
級アルキル基又はアラルキル基を、R3 は低級アルキル
基又はアラルキル基を、R4 は低級アルキル基を、R5
は水素原子又は水酸基の保護基を示す。)で表わされる
化合物及びその製造方法。 【効果】 原料の1つに適当な光学活性体を選ぶことに
より目的の本発明光学活性体が選択的に得られる。さら
に本発明化合物を使用することにより、特別の操作を行
なうことなく、光学活性が維持され、1β−メチルカル
バペネム抗生物質の中間体として有用なアゼチジノン化
合物が選択的に得られる。
級アルキル基又はアラルキル基を、R3 は低級アルキル
基又はアラルキル基を、R4 は低級アルキル基を、R5
は水素原子又は水酸基の保護基を示す。)で表わされる
化合物及びその製造方法。 【効果】 原料の1つに適当な光学活性体を選ぶことに
より目的の本発明光学活性体が選択的に得られる。さら
に本発明化合物を使用することにより、特別の操作を行
なうことなく、光学活性が維持され、1β−メチルカル
バペネム抗生物質の中間体として有用なアゼチジノン化
合物が選択的に得られる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は医薬中間体、特にβ−ラ
クタム系抗生物質の中間体として有用な3−アミノペン
タノアート誘導体及びその製造方法に関する。
クタム系抗生物質の中間体として有用な3−アミノペン
タノアート誘導体及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】β−ラクタム系抗生物質の中で1β−メ
チルカルバペネム系抗生物質は強い抗菌活性と広い抗菌
スペクトルを持つことから種々開発されており、その製
造方法もいくつか提案されているが工程数が多い、光学
純度が低い等の問題があり、いまだ決定的な方法が確立
していない。
チルカルバペネム系抗生物質は強い抗菌活性と広い抗菌
スペクトルを持つことから種々開発されており、その製
造方法もいくつか提案されているが工程数が多い、光学
純度が低い等の問題があり、いまだ決定的な方法が確立
していない。
【0003】
【課題を解決するための手段】本発明者等はβ−ラクタ
ムの種々の合成法を鋭意研究した結果、α,β−不飽和
カルボン酸エステルに光学活性なリチウムアミド化合物
を反応させた後、アセトアルデヒドと反応、水酸基の保
護、閉環反応させることにより、アゼチジノン環が立体
選択的に合成できることを見い出し、本発明を完成し
た。
ムの種々の合成法を鋭意研究した結果、α,β−不飽和
カルボン酸エステルに光学活性なリチウムアミド化合物
を反応させた後、アセトアルデヒドと反応、水酸基の保
護、閉環反応させることにより、アゼチジノン環が立体
選択的に合成できることを見い出し、本発明を完成し
た。
【0004】即ち、本発明は一般式[I]
【化5】 (式中、R1 は低級アルキル基を、R2 は水素原子、低
級アルキル基又はアラルキル基を、R3 は低級アルキル
基又はアラルキル基を、R4 は低級アルキル基を、R5
は水素原子又は水酸基の保護基を示す。)で表わされる
化合物及びその製造方法である。
級アルキル基又はアラルキル基を、R3 は低級アルキル
基又はアラルキル基を、R4 は低級アルキル基を、R5
は水素原子又は水酸基の保護基を示す。)で表わされる
化合物及びその製造方法である。
【0005】本発明化合物を製造するには一般式〔II〕
【化6】 (式中、R1 ,R4 及びR5 は前記と同じ意味を示
す。)で表わされるα,β−不飽和カルボン酸エステル
と一般式
す。)で表わされるα,β−不飽和カルボン酸エステル
と一般式
【化7】 (式中、R2 及びR3 は前記と同じ意味を示す。)で表
わされるリチウムアミドとを反応させる。反応は好まし
くはアルゴン雰囲気下、テトラヒドロフラン(THF)
等の有機溶媒中、n−ブチルリチウム等の塩基の存在下
に行なわれる。反応モル数は一般式〔II〕で表わされる
エステル1モルに対して一般式〔III〕で表わされるリ
チウムアミド及び塩基はそれぞれ1〜3モル、好ましく
は1.5〜2.5モル、更に好ましくは2モル前後であ
る。反応温度は−100°〜0℃、好ましくは−80°
〜−50℃である。反応終了後は通常の後処理を行なう
ことにより目的物を得ることができる。
わされるリチウムアミドとを反応させる。反応は好まし
くはアルゴン雰囲気下、テトラヒドロフラン(THF)
等の有機溶媒中、n−ブチルリチウム等の塩基の存在下
に行なわれる。反応モル数は一般式〔II〕で表わされる
エステル1モルに対して一般式〔III〕で表わされるリ
チウムアミド及び塩基はそれぞれ1〜3モル、好ましく
は1.5〜2.5モル、更に好ましくは2モル前後であ
る。反応温度は−100°〜0℃、好ましくは−80°
〜−50℃である。反応終了後は通常の後処理を行なう
ことにより目的物を得ることができる。
【0006】本発明の製造方法は一般式〔III 〕で表わ
されるリチウムアミドに光学活性体を使用することによ
り、一般式〔II〕で表わされるα,β−不飽和カルボン
酸エステルのZ−体、E−体に関係なく目的の光学活性
体が得られる。R4 の低級アルキル基としてはメチル
基、特に1β−メチルカルバペネムの原料となるR体が
特に有用である。R5 の水酸基の保護基としてはペネム
系抗生物質の製造方法で使用される保護基が使用できる
が、後に除去することを考慮してシリル化合物、特にt
ert−ブチルジメチルシリル基(TBDMS)が好ま
しい。一般式〔III 〕で表わされる化合物としてはリチ
ウムN,N−ジベンジルアミド、リチウムN−ベンジル
−N−(1−フェニルエチル)アミド等が使用できるが
リチウムN−ベンジル−N((R)−1−フェニルエチ
ル)アミド等の光学活性なリチウムアミドが有用であ
る。
されるリチウムアミドに光学活性体を使用することによ
り、一般式〔II〕で表わされるα,β−不飽和カルボン
酸エステルのZ−体、E−体に関係なく目的の光学活性
体が得られる。R4 の低級アルキル基としてはメチル
基、特に1β−メチルカルバペネムの原料となるR体が
特に有用である。R5 の水酸基の保護基としてはペネム
系抗生物質の製造方法で使用される保護基が使用できる
が、後に除去することを考慮してシリル化合物、特にt
ert−ブチルジメチルシリル基(TBDMS)が好ま
しい。一般式〔III 〕で表わされる化合物としてはリチ
ウムN,N−ジベンジルアミド、リチウムN−ベンジル
−N−(1−フェニルエチル)アミド等が使用できるが
リチウムN−ベンジル−N((R)−1−フェニルエチ
ル)アミド等の光学活性なリチウムアミドが有用であ
る。
【0007】一般式〔II〕で表わされる原料化合物は例
えば下記反応式に従って製造することができる。
えば下記反応式に従って製造することができる。
【化8】
【0008】さらに一般式〔I〕で表わされる化合物の
うち、R4 がR体のメチル基である化合物は下記反応式
に従って1β−メチルアゼチジノン誘導体に導くことが
できる。
うち、R4 がR体のメチル基である化合物は下記反応式
に従って1β−メチルアゼチジノン誘導体に導くことが
できる。
【化9】
【0009】
【実施例】次に実施例を挙げ本発明を更に詳細に説明す
る。 参考例1 (R)−tert−ブチル=5−((ter
t−ブチルジメチルシリル)オキシ)−4−メチル−2
−ペンテノアートの製造
る。 参考例1 (R)−tert−ブチル=5−((ter
t−ブチルジメチルシリル)オキシ)−4−メチル−2
−ペンテノアートの製造
【化10】 200mlナス型フラスコ中、市販のR−3−ヒドロキ
シ−2−メチルプロピオン酸メチル5.54ml(50
mmol)の塩化メチレン(50ml)溶液に、0℃
で、イミダゾール4.08g(60mmol)、TBD
MSCl 9.04g(60mmol)を加え、室温で
一晩撹拌した。水50mlを加え、塩化メチレンで抽出
した。飽和食塩水で洗浄、硫酸ナトリウムで乾燥した
後、溶媒を減圧下で留去した。得られた油状物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒;n−ヘキサン/
酢酸エチル=20/1)により分離、精製すると、無色
の油状物のTBDMS保護体が得られた(11.31
g;97%)。次に200ml二口フラスコ中、この得
られたTBDMS保護体3.02g(13mmol)の
塩化メチレン(50ml)溶液に、窒素雰囲気下−78
℃で、水素化ジブチルアルミニウムの1.0M n−ヘ
キサン溶液16.0ml(16.0mmol)を30分
間で滴下した。1時間撹拌した後、水8.6ml(48
0mmol)をゆっくり滴下し一晩撹拌した。硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後濾過し、減圧下で溶媒を留去し
た。得られた油状物をそのまま次の反応に用いた。10
0ml二口フラスコ中、ジイソプロピルアミン1.82
ml(13.0mmol)のTHF(30ml)溶液
に、アルゴン雰囲気下0℃で、n−ブチルリチウムの
1.63Mn−ヘキサン溶液7.98ml(13.0m
mol)をゆっくり滴下した。30分間撹拌した後、−
78℃に冷却しトリメチルシリル酢酸tert−ブチル
を2.45ml(13.0mmol)を滴下した。20
分間撹拌した後、前の反応で得られた油状物をゆっくり
滴下した。室温に昇温しながら3時間撹拌した後、3N
塩酸20mlを加え、エーテルで抽出した。飽和食塩水
で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧下
で留去した。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(溶媒;n−ヘキサン/塩化メチレン=3
/1)により単離、精製すると、無色の油状物Z体(9
34mg;25%)及びE体(1.59g;43%)が
得られた。 E体: 1H NMR(CDCl3 )δ6.82(dd,
J=15.7Hz,7.2Hz,1H,CH=CHC=
O),5.75(dd,J=15.7,1.5Hz,1
H,CH=CHC=O),3.54(dd,J=9.
5,6.5Hz,1H,CHH),3.49(dd,J
=9.5,6.5Hz,CHH),2.47(m,1
H,β−MeCH),1.48(s,9H,CO2 Bu
−t),1.04(d,J=6.5Hz,3H,β−m
ethyl),0.89(s,9H,SiBu−t),
0.04(s,6H,SiMe2 );IR(neat)
3050−2800,1725,1660,1370,
1260,1150,1100,845,785c
m-1.Anal.Calcd for C16H32O3 S
i(300.51):C,63.94;H,10.7
4.Found:C,63.758;H,10.62
0. Z体: 1H NMR(CDCl3 )δ5.99(dd,
J=11.5,9.0Hz,1H,CH=CHC=
O),5.67(dd,J=11.5,1.0Hz,1
H,CH=CHC=O),3.64−3.49(m,3
H,β−MeCH and CH2 ),1.48(s,
9H,CO2 Bu−t),1.02(d,J=6.5H
z,3H,β−methyl),0.88(s,9H,
SiBu−t),0.04,0.03(2s,each
3H,SiMe2 );IR(neat)3050,1
730,1645,1420,1375,1260,1
220,1160,1100,840,785cm-1.
シ−2−メチルプロピオン酸メチル5.54ml(50
mmol)の塩化メチレン(50ml)溶液に、0℃
で、イミダゾール4.08g(60mmol)、TBD
MSCl 9.04g(60mmol)を加え、室温で
一晩撹拌した。水50mlを加え、塩化メチレンで抽出
した。飽和食塩水で洗浄、硫酸ナトリウムで乾燥した
後、溶媒を減圧下で留去した。得られた油状物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒;n−ヘキサン/
酢酸エチル=20/1)により分離、精製すると、無色
の油状物のTBDMS保護体が得られた(11.31
g;97%)。次に200ml二口フラスコ中、この得
られたTBDMS保護体3.02g(13mmol)の
塩化メチレン(50ml)溶液に、窒素雰囲気下−78
℃で、水素化ジブチルアルミニウムの1.0M n−ヘ
キサン溶液16.0ml(16.0mmol)を30分
間で滴下した。1時間撹拌した後、水8.6ml(48
0mmol)をゆっくり滴下し一晩撹拌した。硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後濾過し、減圧下で溶媒を留去し
た。得られた油状物をそのまま次の反応に用いた。10
0ml二口フラスコ中、ジイソプロピルアミン1.82
ml(13.0mmol)のTHF(30ml)溶液
に、アルゴン雰囲気下0℃で、n−ブチルリチウムの
1.63Mn−ヘキサン溶液7.98ml(13.0m
mol)をゆっくり滴下した。30分間撹拌した後、−
78℃に冷却しトリメチルシリル酢酸tert−ブチル
を2.45ml(13.0mmol)を滴下した。20
分間撹拌した後、前の反応で得られた油状物をゆっくり
滴下した。室温に昇温しながら3時間撹拌した後、3N
塩酸20mlを加え、エーテルで抽出した。飽和食塩水
で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧下
で留去した。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(溶媒;n−ヘキサン/塩化メチレン=3
/1)により単離、精製すると、無色の油状物Z体(9
34mg;25%)及びE体(1.59g;43%)が
得られた。 E体: 1H NMR(CDCl3 )δ6.82(dd,
J=15.7Hz,7.2Hz,1H,CH=CHC=
O),5.75(dd,J=15.7,1.5Hz,1
H,CH=CHC=O),3.54(dd,J=9.
5,6.5Hz,1H,CHH),3.49(dd,J
=9.5,6.5Hz,CHH),2.47(m,1
H,β−MeCH),1.48(s,9H,CO2 Bu
−t),1.04(d,J=6.5Hz,3H,β−m
ethyl),0.89(s,9H,SiBu−t),
0.04(s,6H,SiMe2 );IR(neat)
3050−2800,1725,1660,1370,
1260,1150,1100,845,785c
m-1.Anal.Calcd for C16H32O3 S
i(300.51):C,63.94;H,10.7
4.Found:C,63.758;H,10.62
0. Z体: 1H NMR(CDCl3 )δ5.99(dd,
J=11.5,9.0Hz,1H,CH=CHC=
O),5.67(dd,J=11.5,1.0Hz,1
H,CH=CHC=O),3.64−3.49(m,3
H,β−MeCH and CH2 ),1.48(s,
9H,CO2 Bu−t),1.02(d,J=6.5H
z,3H,β−methyl),0.88(s,9H,
SiBu−t),0.04,0.03(2s,each
3H,SiMe2 );IR(neat)3050,1
730,1645,1420,1375,1260,1
220,1160,1100,840,785cm-1.
【0010】実施例1 (3S,4R)−tert−ブ
チル=3−〔N−ベンジル−N−((R)−1−フェニ
ルエチル)アミノ〕−5−((tert−ブチルジメチ
ルシリル)オキシ)−4−メチルペンタノアート(化合
物1)の製造
チル=3−〔N−ベンジル−N−((R)−1−フェニ
ルエチル)アミノ〕−5−((tert−ブチルジメチ
ルシリル)オキシ)−4−メチルペンタノアート(化合
物1)の製造
【化11】 30ml二口フラスコ中、N−ベンジル−N−((R)
−1−フェニルエチル)アミン(0.19ml,1.0
mmol)のTHF(6ml)溶液に、アルゴン雰囲気
下0℃で、n−ブチルリチウムの1.64M n−ヘキ
サン溶液0.61ml(1.0mmol)をゆっくり滴
下した。30分間撹拌した後、−78℃に冷却し、
(R)−(E)−tert−ブチル=5−((tert
−ブチルジメチルシリル)オキシ)−4−メチル−2−
ペンテノアート(E体)(150mg,0.5mmo
l)のTHF(2ml)溶液をゆっくり滴下した。2時
間撹拌した後、過剰の飽和塩化アンモニウム水溶液を加
え、エーテルで抽出した。飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナ
トリウムで乾燥した後、溶媒を減圧下で留去した。得ら
れた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶
媒;n−ヘキサン/酢酸エチル=40/1)により分
離、精製すると、目的物が無色の油状物として得られた
(214mg;88%)。1 H NMR(CDCl3 )δ7.48−7.21
(m,10H,phenyl),3.77(d,J=1
5.0Hz,1H,PhCHH),3.73(q,J=
7.0Hz,1H,PhCHMe),3.63(dd,
J=9.7,5.5Hz,1H,SiOCHH),3.
51(d,J=15.0Hz,1H,PhCHH),
3.49(ddd,J=9.7,7.0,2.2Hz,
1H,β−MeCCHN),3.40(dd,J=9.
7,7.6Hz,1H,SiOCHH),2.11(d
d,J=15.5,9.7Hz,1H,CHHC=
O),1.76−1.63(m,2H,β−MeCH
and CHHC=O),1.40(s,9H,CO2
Bu−t),1.39(d,J=7.0Hz,3H,P
hCHMe),1.06(d,J=6.5Hz,3H,
β−methyl),0.90(s,9H,SiBu−
t),0.04(2s,each 3H,SiM
e2 );IR(neat)3100−2800,174
0,1615,1385,1270,1160,111
0,850,790,720cm-1.
−1−フェニルエチル)アミン(0.19ml,1.0
mmol)のTHF(6ml)溶液に、アルゴン雰囲気
下0℃で、n−ブチルリチウムの1.64M n−ヘキ
サン溶液0.61ml(1.0mmol)をゆっくり滴
下した。30分間撹拌した後、−78℃に冷却し、
(R)−(E)−tert−ブチル=5−((tert
−ブチルジメチルシリル)オキシ)−4−メチル−2−
ペンテノアート(E体)(150mg,0.5mmo
l)のTHF(2ml)溶液をゆっくり滴下した。2時
間撹拌した後、過剰の飽和塩化アンモニウム水溶液を加
え、エーテルで抽出した。飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナ
トリウムで乾燥した後、溶媒を減圧下で留去した。得ら
れた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶
媒;n−ヘキサン/酢酸エチル=40/1)により分
離、精製すると、目的物が無色の油状物として得られた
(214mg;88%)。1 H NMR(CDCl3 )δ7.48−7.21
(m,10H,phenyl),3.77(d,J=1
5.0Hz,1H,PhCHH),3.73(q,J=
7.0Hz,1H,PhCHMe),3.63(dd,
J=9.7,5.5Hz,1H,SiOCHH),3.
51(d,J=15.0Hz,1H,PhCHH),
3.49(ddd,J=9.7,7.0,2.2Hz,
1H,β−MeCCHN),3.40(dd,J=9.
7,7.6Hz,1H,SiOCHH),2.11(d
d,J=15.5,9.7Hz,1H,CHHC=
O),1.76−1.63(m,2H,β−MeCH
and CHHC=O),1.40(s,9H,CO2
Bu−t),1.39(d,J=7.0Hz,3H,P
hCHMe),1.06(d,J=6.5Hz,3H,
β−methyl),0.90(s,9H,SiBu−
t),0.04(2s,each 3H,SiM
e2 );IR(neat)3100−2800,174
0,1615,1385,1270,1160,111
0,850,790,720cm-1.
【0011】実施例2 化合物1の製造
【化12】 実施例1のE体のかわりに(R)−(Z)−tert−
ブチル=5−((tert−ブチルジメチルシリル)オ
キシ)−4−メチル−2−ペンテノアート(Z体)を用
い同様の反応を行ない収率77%で目的物を得た。
ブチル=5−((tert−ブチルジメチルシリル)オ
キシ)−4−メチル−2−ペンテノアート(Z体)を用
い同様の反応を行ない収率77%で目的物を得た。
【0012】実施例3及び実施例4 (3R,4R)−
tert−ブチル=3−〔N−ベンジル−N−((S)
−1−フェニルエチル)アミノ〕−5−((tert−
ブチルジメチルシリル)オキシ)−4−メチルペンタノ
アート(化合物2)の製造
tert−ブチル=3−〔N−ベンジル−N−((S)
−1−フェニルエチル)アミノ〕−5−((tert−
ブチルジメチルシリル)オキシ)−4−メチルペンタノ
アート(化合物2)の製造
【化13】 実施例1のN−ベンジル−N−((S)−1−フェニル
エチル)アミンを用いE体(実施例3)及びZ体(実施
例4)と反応させ、それぞれ収率95%、84%で化合
物2を得た。1 H NMR(CDCl3 )δ7.44−7.21
(m,10H,phenyl),3.99(dd,J=
9.5,4.2Hz,1H,SiOCHH),3.77
(d,15.0Hz,1H,PhCHH),3.76
(q,7.0Hz,1H,PhCHMe),3.52−
3.40(m,3H),2.07(dd,16.0,
9.5Hz,1H,CHHC=O),1.81−1.7
0(m,2H,CHHC=O and β−MeC
H),1.41(s,9H,CO2 Bu−t),1.3
8(d,J=7.0Hz,3H,PhCHMe),0.
91(s,9H,SiBu−t),0.88(d,J=
6.7Hz,3H,β−methyl),0.05,
0.03(2s,each 3H,SiMe2 );IR
(neat)3100−2800,1740,161
0,1380,1270,1150,1100,85
0,780,755,710cm-1.Anal.Cal
cd for C31H49NO3 Si(511.79):
C,72.75;H,9.65;N,2.74.Fou
nd:C,72.449;H,9.552;N,2.6
88.
エチル)アミンを用いE体(実施例3)及びZ体(実施
例4)と反応させ、それぞれ収率95%、84%で化合
物2を得た。1 H NMR(CDCl3 )δ7.44−7.21
(m,10H,phenyl),3.99(dd,J=
9.5,4.2Hz,1H,SiOCHH),3.77
(d,15.0Hz,1H,PhCHH),3.76
(q,7.0Hz,1H,PhCHMe),3.52−
3.40(m,3H),2.07(dd,16.0,
9.5Hz,1H,CHHC=O),1.81−1.7
0(m,2H,CHHC=O and β−MeC
H),1.41(s,9H,CO2 Bu−t),1.3
8(d,J=7.0Hz,3H,PhCHMe),0.
91(s,9H,SiBu−t),0.88(d,J=
6.7Hz,3H,β−methyl),0.05,
0.03(2s,each 3H,SiMe2 );IR
(neat)3100−2800,1740,161
0,1380,1270,1150,1100,85
0,780,755,710cm-1.Anal.Cal
cd for C31H49NO3 Si(511.79):
C,72.75;H,9.65;N,2.74.Fou
nd:C,72.449;H,9.552;N,2.6
88.
【0013】参考例2 (2S,3R,4R)−ter
t−ブチル=3−〔N−ベンジル−N((R)−1−フ
ェニルエチル)アミノ〕−5−((tert−ブチルジ
メチルシリル)オキシ)−2−((R)−1−ヒドロキ
シエチル)−4−メチルペンタノアート(化合物3)の
製造
t−ブチル=3−〔N−ベンジル−N((R)−1−フ
ェニルエチル)アミノ〕−5−((tert−ブチルジ
メチルシリル)オキシ)−2−((R)−1−ヒドロキ
シエチル)−4−メチルペンタノアート(化合物3)の
製造
【化14】 50ml二口フラスコ中、ジイソプロピルアミン0.2
8ml(2.0mmol)のTHF(8ml)溶液に、
アルゴン雰囲気下0℃で、n−ブチルリチウムの1.6
1M n−ヘキサン溶液1.24ml(2.0mmo
l)をゆっくり滴下し、20分間撹拌した。−78℃に
冷却した後化合物1(100mg,0.20mmol)
のTHF(2ml)溶液を滴下し、1時間かけ0℃まで
昇温させた。再び−78℃に冷却し、二塩化メチルアル
ミニウムの1.0M n−ヘキサン溶液2.0ml
(2.0mmol)を滴下した。30分間撹拌した後、
アセトアルデヒドの5M THF溶液0.80ml
(4.0mmol)を加えた。10分間撹拌した後、過
剰の飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、エーテルで抽
出した。飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し
た後、溶媒を減圧下で留去した。得られた油状物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒;n−ヘキサン
/酢酸エチル=10/1)により分離、精製すると、目
的物(70mg;63%)及びその他三つのジアステレ
オマーの混合物(18mg;16%)が得られた。1 H NMR(CDCl3 )δ7.46−7.17
(m,10H,phenyl),4.20(q,J=
7.0Hz,1H,PhCHMe),4.06,3.9
8(2d,J=15.0Hz,each 1H,PhC
H2 ),3.87(q,J=6.0Hz,1H,β−M
eCCHN),3.61(dd,J=10.0,8.0
Hz,1H,SiOCHH),3.42(dd,J=1
0.0,3.5Hz,1H,SiOCHH),3.28
(dd,J=6.0,5.7Hz,1H,MeCHO
H),2.58(dd,J=7.3,5.7Hz,1
H,CHC=O),1.94(m,1H,β−MeC
H),1.48(s,9H,CO2 Bu−t),1.2
6(d,J=7.0Hz,3H,PhCHMe),1.
13(d,J=6.0Hz,3H,MeCHOH),
1.06(d,J=7.0Hz,3H,β−methy
l),0.88(s,9H,SiBu−t),0.0
3,0.02(2s,each 3H,SiMe2 );
IR(neat)3450,3100−2800,17
30,1605,1380,1260,1145,10
85,850,780,700cm-1.
8ml(2.0mmol)のTHF(8ml)溶液に、
アルゴン雰囲気下0℃で、n−ブチルリチウムの1.6
1M n−ヘキサン溶液1.24ml(2.0mmo
l)をゆっくり滴下し、20分間撹拌した。−78℃に
冷却した後化合物1(100mg,0.20mmol)
のTHF(2ml)溶液を滴下し、1時間かけ0℃まで
昇温させた。再び−78℃に冷却し、二塩化メチルアル
ミニウムの1.0M n−ヘキサン溶液2.0ml
(2.0mmol)を滴下した。30分間撹拌した後、
アセトアルデヒドの5M THF溶液0.80ml
(4.0mmol)を加えた。10分間撹拌した後、過
剰の飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、エーテルで抽
出した。飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し
た後、溶媒を減圧下で留去した。得られた油状物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒;n−ヘキサン
/酢酸エチル=10/1)により分離、精製すると、目
的物(70mg;63%)及びその他三つのジアステレ
オマーの混合物(18mg;16%)が得られた。1 H NMR(CDCl3 )δ7.46−7.17
(m,10H,phenyl),4.20(q,J=
7.0Hz,1H,PhCHMe),4.06,3.9
8(2d,J=15.0Hz,each 1H,PhC
H2 ),3.87(q,J=6.0Hz,1H,β−M
eCCHN),3.61(dd,J=10.0,8.0
Hz,1H,SiOCHH),3.42(dd,J=1
0.0,3.5Hz,1H,SiOCHH),3.28
(dd,J=6.0,5.7Hz,1H,MeCHO
H),2.58(dd,J=7.3,5.7Hz,1
H,CHC=O),1.94(m,1H,β−MeC
H),1.48(s,9H,CO2 Bu−t),1.2
6(d,J=7.0Hz,3H,PhCHMe),1.
13(d,J=6.0Hz,3H,MeCHOH),
1.06(d,J=7.0Hz,3H,β−methy
l),0.88(s,9H,SiBu−t),0.0
3,0.02(2s,each 3H,SiMe2 );
IR(neat)3450,3100−2800,17
30,1605,1380,1260,1145,10
85,850,780,700cm-1.
【0014】参考例3 (2S,3R,4R)−ter
t−ブチル=3−〔N−ベンジル−N−((R)−1−
フェニルエチル)アミノ〕−5−((tert−ブチル
ジメチルシリル)オキシ)−2−〔(R)−1−((t
ert−ブチルジメチルシリル)オキシ)エチル〕−4
−メチルペンタノアート(化合物4)の製造
t−ブチル=3−〔N−ベンジル−N−((R)−1−
フェニルエチル)アミノ〕−5−((tert−ブチル
ジメチルシリル)オキシ)−2−〔(R)−1−((t
ert−ブチルジメチルシリル)オキシ)エチル〕−4
−メチルペンタノアート(化合物4)の製造
【化15】 50mlナス型フラスコ中、化合物3(891mg,
1.60mmol)のDMF(10ml)に、イミダゾ
ール408mg(3.0mmol)、TBDMSCl
452mg(6.0mmol)を加え、50℃で24時
間撹拌した。水15mlを加え塩化メチレンで抽出し
た。飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した
後、溶媒を減圧下で留去した。得られた油状物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒;n−ヘキサン/
酢酸エチル=40/1)により分離、精製すると、目的
物が無色の油状物として得られた(1.06g;99
%)。
1.60mmol)のDMF(10ml)に、イミダゾ
ール408mg(3.0mmol)、TBDMSCl
452mg(6.0mmol)を加え、50℃で24時
間撹拌した。水15mlを加え塩化メチレンで抽出し
た。飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した
後、溶媒を減圧下で留去した。得られた油状物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒;n−ヘキサン/
酢酸エチル=40/1)により分離、精製すると、目的
物が無色の油状物として得られた(1.06g;99
%)。
【0015】参考例4 (2S,3R,4R)−ter
t−ブチル=3−アミノ−5−((tert−ブチルジ
メチルシリル)オキシ)−2−〔(R)−1−((te
rt−ブチルジメチルシリル)オキシ)エチル〕−4−
メチルペンタノアート(化合物5)の製造
t−ブチル=3−アミノ−5−((tert−ブチルジ
メチルシリル)オキシ)−2−〔(R)−1−((te
rt−ブチルジメチルシリル)オキシ)エチル〕−4−
メチルペンタノアート(化合物5)の製造
【化16】 100ml二口フラスコ中、化合物4(1.06g,
1.58mmol)の酢酸エチル(15ml)溶液に、
Pearlman触媒300mgを加え、水素雰囲気下
5日間激しく撹拌した。セライトにより触媒を濾過し、
溶媒を減圧下で留去した。得られた油状物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶媒;n−ヘキサン/酢酸
エチル=10/1)により分離、精製すると、目的物が
無色の油状物として得られた(499mg;66%)。1 H NMR(CDCl3 )δ4.08(dq,J=
7.0,6.0Hz,1H,MeCHOSi),3.6
0(dd,J=9.5,6.0Hz,1H,CHH),
3.53(dd,J=9.5,5.5Hz,1H,CH
H),3.15(dd,J=6.5,5.0Hz,1
H,N−CH),2.46(dd,J=7.0,6.5
Hz,1H,CHC=O),1.61(m,1H,β−
MeCH),1.46(s,9H,CO2 Bu−t),
1.20(d,J=6.0Hz,3H,MeCHOS
i),0.91(d,J=7.0Hz,3H,β−me
thyl),0.89,0.88(2s,each 9
H,2SiBu−t),0.08,0.07(2s,e
ach 3H,SiMe2 ),0.04(s,6H,S
iMe2 );IR(neat)3400,3050−2
800,1720,1610,1370,1260,1
150,1100,1000,840,780cm-1.
1.58mmol)の酢酸エチル(15ml)溶液に、
Pearlman触媒300mgを加え、水素雰囲気下
5日間激しく撹拌した。セライトにより触媒を濾過し、
溶媒を減圧下で留去した。得られた油状物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶媒;n−ヘキサン/酢酸
エチル=10/1)により分離、精製すると、目的物が
無色の油状物として得られた(499mg;66%)。1 H NMR(CDCl3 )δ4.08(dq,J=
7.0,6.0Hz,1H,MeCHOSi),3.6
0(dd,J=9.5,6.0Hz,1H,CHH),
3.53(dd,J=9.5,5.5Hz,1H,CH
H),3.15(dd,J=6.5,5.0Hz,1
H,N−CH),2.46(dd,J=7.0,6.5
Hz,1H,CHC=O),1.61(m,1H,β−
MeCH),1.46(s,9H,CO2 Bu−t),
1.20(d,J=6.0Hz,3H,MeCHOS
i),0.91(d,J=7.0Hz,3H,β−me
thyl),0.89,0.88(2s,each 9
H,2SiBu−t),0.08,0.07(2s,e
ach 3H,SiMe2 ),0.04(s,6H,S
iMe2 );IR(neat)3400,3050−2
800,1720,1610,1370,1260,1
150,1100,1000,840,780cm-1.
【0016】参考例5 (3S,4R)−3−〔(R)
−1−((tert−ブチルジメチルシリル)オキシ)
エチル〕−4−〔(R)−2−((tert−ブチルジ
メチルシリル)オキシ)−1−メチルエチル〕−2−ア
ゼチジノン(化合物6)の製造
−1−((tert−ブチルジメチルシリル)オキシ)
エチル〕−4−〔(R)−2−((tert−ブチルジ
メチルシリル)オキシ)−1−メチルエチル〕−2−ア
ゼチジノン(化合物6)の製造
【化17】 20mlナス型フラスコ中、化合物5(94mg,0.
20mmol)のTHF(2ml)溶液に、アルゴン雰
囲気下0℃で、臭化エチルマグネシウムの0.90M
THF溶液0.66ml(0.60mmol)を加え
た。2時間撹拌した後、過剰の飽和塩化アンモニウムア
水溶液を加え、エーテルで抽出した。飽和食塩水で洗浄
し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧下で留去
した。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(溶媒;n−ヘキサン/酢酸エチル=5/1)に
より分離、精製すると、目的物が無色の油状物として得
られた(81mg;100%)。1 H NMR(CDCl3 )δ5.69(brs,1
H,NHC=O),4.18(dq,J=6.0,5.
0Hz,1H,MeCHOSi),3.72(dd,J
=5.5,2.3Hz,1H,N−CH),3.59
(dd,J=10.0,5.0Hz,1H,CHH),
3.54(dd,J=10.0,5.0Hz,1H,C
HH),2.89(ddd,J=5.0,2.3,1.
0Hz,1H,CHC=O),1.80(m,1H,β
−MeCH),1.22(d,J=6.0Hz,3H,
MeCHOSi),0.97(d,J=6.5Hz,3
H,β−methyl),0.89,0.88(2s,
each 9H,2SiBu−t),0.07,0.0
4(2s,each 6H,2SiMe2 );IR(K
Br)3170,3100,3000−2800,17
70,1720,1260,1140,1100,85
0,780cm-1.
20mmol)のTHF(2ml)溶液に、アルゴン雰
囲気下0℃で、臭化エチルマグネシウムの0.90M
THF溶液0.66ml(0.60mmol)を加え
た。2時間撹拌した後、過剰の飽和塩化アンモニウムア
水溶液を加え、エーテルで抽出した。飽和食塩水で洗浄
し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧下で留去
した。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(溶媒;n−ヘキサン/酢酸エチル=5/1)に
より分離、精製すると、目的物が無色の油状物として得
られた(81mg;100%)。1 H NMR(CDCl3 )δ5.69(brs,1
H,NHC=O),4.18(dq,J=6.0,5.
0Hz,1H,MeCHOSi),3.72(dd,J
=5.5,2.3Hz,1H,N−CH),3.59
(dd,J=10.0,5.0Hz,1H,CHH),
3.54(dd,J=10.0,5.0Hz,1H,C
HH),2.89(ddd,J=5.0,2.3,1.
0Hz,1H,CHC=O),1.80(m,1H,β
−MeCH),1.22(d,J=6.0Hz,3H,
MeCHOSi),0.97(d,J=6.5Hz,3
H,β−methyl),0.89,0.88(2s,
each 9H,2SiBu−t),0.07,0.0
4(2s,each 6H,2SiMe2 );IR(K
Br)3170,3100,3000−2800,17
70,1720,1260,1140,1100,85
0,780cm-1.
【0017】参考例6 (3S,4R)−3−〔(R)
−1−((tert−ブチルジメチルシリル)オキシ)
エチル〕−4−〔(R)−2−ヒドロキシ−1−メチル
エチル)−2−アゼチジノン(化合物7)の製造
−1−((tert−ブチルジメチルシリル)オキシ)
エチル〕−4−〔(R)−2−ヒドロキシ−1−メチル
エチル)−2−アゼチジノン(化合物7)の製造
【化18】 20ml二口フラスコに、化合物6(192mg,0.
48mmol)、ジメチルスルホキシド3ml、水0.
1ml、N−ブロモこはく酸イミド85mg(0.48
mmol)を入れ、アルゴン雰囲気下30℃で一晩撹拌
した。エーテルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した後、硫
酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去して得ら
れた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
り分離、精製すると、目的物が白色の粉末として得られ
た(101mg;73%)。1 H NMRδ6.37(brs,1H,NHC=
O),4.13(dq,J=9.0,6.0Hz,1
H,MeCHOSi),3.57(dd,J=11.
5,4.5Hz,1H,CHH),3.47(dd,J
=11.5,8.5Hz,1H,CHH),3.28
(dd,J=8.5,2.0Hz,1H,N−CH),
3.17(m,1H,CHC=O),1.86(m,1
H,β−MeCH),1.35(d,J=6.0Hz,
3H,MeCHOSi),0.92(s,9H,SiB
u−t),0.90(d,J=3H,β−methy
l),0.14,0.13(2s,each 3H,S
iMe2 ).
48mmol)、ジメチルスルホキシド3ml、水0.
1ml、N−ブロモこはく酸イミド85mg(0.48
mmol)を入れ、アルゴン雰囲気下30℃で一晩撹拌
した。エーテルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した後、硫
酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去して得ら
れた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
り分離、精製すると、目的物が白色の粉末として得られ
た(101mg;73%)。1 H NMRδ6.37(brs,1H,NHC=
O),4.13(dq,J=9.0,6.0Hz,1
H,MeCHOSi),3.57(dd,J=11.
5,4.5Hz,1H,CHH),3.47(dd,J
=11.5,8.5Hz,1H,CHH),3.28
(dd,J=8.5,2.0Hz,1H,N−CH),
3.17(m,1H,CHC=O),1.86(m,1
H,β−MeCH),1.35(d,J=6.0Hz,
3H,MeCHOSi),0.92(s,9H,SiB
u−t),0.90(d,J=3H,β−methy
l),0.14,0.13(2s,each 3H,S
iMe2 ).
【0018】
【発明の効果】一般式〔III 〕で表わされるリチウムア
ミドを適当な光学活性体を選ぶことにより、一般式〔I
I〕で表わされるα,β−不飽和カルボン酸エステルの
E体、Z体に関係なく目的の本発明光学活性体が選択的
に得られる。さらに本発明化合物を使用することによ
り、参考例からも明らかなように特別の操作を行なうこ
となく、光学活性が維持され、1β−メチルカルバペネ
ム抗生物質の中間体として有用な化合物7が選択的に得
られる。
ミドを適当な光学活性体を選ぶことにより、一般式〔I
I〕で表わされるα,β−不飽和カルボン酸エステルの
E体、Z体に関係なく目的の本発明光学活性体が選択的
に得られる。さらに本発明化合物を使用することによ
り、参考例からも明らかなように特別の操作を行なうこ
となく、光学活性が維持され、1β−メチルカルバペネ
ム抗生物質の中間体として有用な化合物7が選択的に得
られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // C07M 7:00
Claims (4)
- 【請求項1】 一般式〔I〕 【化1】 (式中、R1 は低級アルキル基を、R2 は水素原子、低
級アルキル基又はアラルキル基を、R3 は低級アルキル
基又はアラルキル基を、R4 は低級アルキル基を、R5
は水素原子又は水酸基の保護基を示す。)で表わされる
化合物。 - 【請求項2】 R4 がメチル基でR5 がtert−ブチ
ルジメチルシリル基である請求項1記載の化合物。 - 【請求項3】 一般式〔II〕 【化2】 (式中、R1 ,R4 及びR5 は前記と同じ意味を示
す。)で表わされるα,β−不飽和カルボン酸エステル
と一般式〔III 〕 【化3】 (式中、R2 及びR3 は前記と同じ意味を示す。)で表
わされるリチウムアミドとを反応させることを特徴とす
る一般式〔I〕 【化4】 (式中、R1 ,R2 ,R3 ,R4 及びR5 は前記と同じ
意味を示す。)で表わされる化合物の製造方法。 - 【請求項4】 一般式〔III 〕で表わされるリチウムア
ミド化合物が光学活性体である請求項3記載の製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6060084A JPH07242608A (ja) | 1994-03-04 | 1994-03-04 | 3−アミノペンタノアート誘導体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6060084A JPH07242608A (ja) | 1994-03-04 | 1994-03-04 | 3−アミノペンタノアート誘導体及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07242608A true JPH07242608A (ja) | 1995-09-19 |
Family
ID=13131873
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6060084A Pending JPH07242608A (ja) | 1994-03-04 | 1994-03-04 | 3−アミノペンタノアート誘導体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07242608A (ja) |
-
1994
- 1994-03-04 JP JP6060084A patent/JPH07242608A/ja active Pending
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