JPH04307550A - ガラス基板露光装置におけるギャップ制御方法 - Google Patents
ガラス基板露光装置におけるギャップ制御方法Info
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- JPH04307550A JPH04307550A JP3098008A JP9800891A JPH04307550A JP H04307550 A JPH04307550 A JP H04307550A JP 3098008 A JP3098008 A JP 3098008A JP 9800891 A JP9800891 A JP 9800891A JP H04307550 A JPH04307550 A JP H04307550A
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 79
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 14
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 101100269850 Caenorhabditis elegans mask-1 gene Proteins 0.000 abstract description 30
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 11
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
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- Projection-Type Copiers In General (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ガラス基板にマスクに
形成された配線パターンを焼き付けるガラス基板露光装
置において上記マスクとガラス基板との間のギャップを
設定するギャップ制御方法に関し、特に大型サイズのガ
ラス基板であってもマスクとの不意の接触を防止するこ
とができるギャップ制御方法に関する。
形成された配線パターンを焼き付けるガラス基板露光装
置において上記マスクとガラス基板との間のギャップを
設定するギャップ制御方法に関し、特に大型サイズのガ
ラス基板であってもマスクとの不意の接触を防止するこ
とができるギャップ制御方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ガラス基板露光装置は、図２に示すよう
に、配線パターンが形成されたマスク１をマスクベース
２で支持し、このマスク１の下方にはガラス基板３をチ
ャック４の上面に載せて保持すると共に、そのチャック
４を上昇させて上記ガラス基板３の上面とマスク１下面
との間に所定のギャップｇをあけて位置合わせをし、上
記マスク１の上方から露光用の光を照射して該マスク１
に形成された配線パターンを上記ガラス基板３に焼き付
けるようになっている。なお、図２において、符号５ａ
，５ｂ，５ｃは上記チャック４の傾きを調整するチルト
機構を示し、符号６は上記チルト機構５ａ〜５ｃを支持
して上昇下降する支持部材を示している。
に、配線パターンが形成されたマスク１をマスクベース
２で支持し、このマスク１の下方にはガラス基板３をチ
ャック４の上面に載せて保持すると共に、そのチャック
４を上昇させて上記ガラス基板３の上面とマスク１下面
との間に所定のギャップｇをあけて位置合わせをし、上
記マスク１の上方から露光用の光を照射して該マスク１
に形成された配線パターンを上記ガラス基板３に焼き付
けるようになっている。なお、図２において、符号５ａ
，５ｂ，５ｃは上記チャック４の傾きを調整するチルト
機構を示し、符号６は上記チルト機構５ａ〜５ｃを支持
して上昇下降する支持部材を示している。
【０００３】そして、このようなガラス基板露光装置に
おいて、上記マスク１とガラス基板３との間のギャップ
ｇを所定の値に設定する（このギャップを「プロキシミ
ティギャップ」という）には、ガラス基板３の位置合わ
せ用の光学系でマスク１の上方から見ていて、まず、上
記マスク１の下面にピントを合わせる。いま、このマス
ク１の下面から例えば４０μｍのギャップｇをあけてガ
ラス基板３をセットするとする。次に、上記マスク１の
下面から４０μｍの位置にピントを合わせる。この状態
で、ガラス基板３の上面に平行出し用の縞パターンを照
射して、チャック４を３本のチルト機構５ａ〜５ｃで上
昇させる。そして、上記３本のチルト機構５ａ〜５ｃの
上昇量を加減しながら、上記縞パターンが正しい形に見
えるように調節することにより、ガラス基板３のマスク
１に対する平行出しをすると共に、ギャップｇを例えば
４０μｍに設定していた。
おいて、上記マスク１とガラス基板３との間のギャップ
ｇを所定の値に設定する（このギャップを「プロキシミ
ティギャップ」という）には、ガラス基板３の位置合わ
せ用の光学系でマスク１の上方から見ていて、まず、上
記マスク１の下面にピントを合わせる。いま、このマス
ク１の下面から例えば４０μｍのギャップｇをあけてガ
ラス基板３をセットするとする。次に、上記マスク１の
下面から４０μｍの位置にピントを合わせる。この状態
で、ガラス基板３の上面に平行出し用の縞パターンを照
射して、チャック４を３本のチルト機構５ａ〜５ｃで上
昇させる。そして、上記３本のチルト機構５ａ〜５ｃの
上昇量を加減しながら、上記縞パターンが正しい形に見
えるように調節することにより、ガラス基板３のマスク
１に対する平行出しをすると共に、ギャップｇを例えば
４０μｍに設定していた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
従来のギャップ制御の方法においては、いきなりマスク
１の下面の適当な位置に最終的なガラス基板３の平行出
しの面を設定し、この位置を目標として上記ガラス基板
３の全体を上昇させてギャップｇを所定の値に設定して
いたので、ガラス基板３が大型サイズ（例えば４００ｍ
ｍ×４００ｍｍ）の場合は、上昇させて平行出しの途中
でそのガラス基板３の周辺部の端部がマスク１の下面に
不意に衝突することがあった。すなわち、３本のチルト
機構５ａ〜５ｃによる上昇は、開始時点においては持ち
上げ量が多く、ガラス基板３が傾斜していると、平行出
し用の縞パターンがはっきり見えるようになる前に、大
型サイズのガラス基板３の傾斜上方の端部がマスク１の
下面に衝突してしまうことがあった。すると、ガラス基
板３のレジスト又は基材がマスク１の下面に付着し、何
回か繰り返しているうちにこれらが積もってゴミとなり
、例えば４０μｍという小さいギャップｇの設定が困難
となったり、次に搬送されてきた他のガラス基板３の上
面に落下して異物となるものであった。
従来のギャップ制御の方法においては、いきなりマスク
１の下面の適当な位置に最終的なガラス基板３の平行出
しの面を設定し、この位置を目標として上記ガラス基板
３の全体を上昇させてギャップｇを所定の値に設定して
いたので、ガラス基板３が大型サイズ（例えば４００ｍ
ｍ×４００ｍｍ）の場合は、上昇させて平行出しの途中
でそのガラス基板３の周辺部の端部がマスク１の下面に
不意に衝突することがあった。すなわち、３本のチルト
機構５ａ〜５ｃによる上昇は、開始時点においては持ち
上げ量が多く、ガラス基板３が傾斜していると、平行出
し用の縞パターンがはっきり見えるようになる前に、大
型サイズのガラス基板３の傾斜上方の端部がマスク１の
下面に衝突してしまうことがあった。すると、ガラス基
板３のレジスト又は基材がマスク１の下面に付着し、何
回か繰り返しているうちにこれらが積もってゴミとなり
、例えば４０μｍという小さいギャップｇの設定が困難
となったり、次に搬送されてきた他のガラス基板３の上
面に落下して異物となるものであった。
【０００５】そこで、本発明は、このような問題点に対
処して、大型サイズのガラス基板であってもマスクとの
不意の接触を防止することができるガラス基板露光装置
におけるギャップ制御方法を提供することを目的とする
。
処して、大型サイズのガラス基板であってもマスクとの
不意の接触を防止することができるガラス基板露光装置
におけるギャップ制御方法を提供することを目的とする
。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明によるガラス基板露光装置におけるギャップ
制御方法は、配線パターンが形成されたマスクをマスク
ベースで支持し、このマスクの下方にはガラス基板をチ
ャックに載せて保持すると共に、そのチャックを上昇さ
せて上記ガラス基板の上面とマスク下面との間に所定の
ギャップをあけて位置合わせをし、上記マスクの上方か
ら露光用の光を照射して該マスクに形成された配線パタ
ーンを上記ガラス基板に焼き付けるガラス基板露光装置
において、上記マスクの下面から上記設定すべき所定の
ギャップよりさらに下方位置に概略合わせ用の面を設定
し、まずこの面に対してガラス基板を上昇して概略合わ
せし、その後上記概略合わせ用の間隔分だけガラス基板
の全体を上昇させ、この位置でマスクとガラス基板との
間隔を微細合わせすることにより、２段階で所定のギャ
ップを設定するものである。
に、本発明によるガラス基板露光装置におけるギャップ
制御方法は、配線パターンが形成されたマスクをマスク
ベースで支持し、このマスクの下方にはガラス基板をチ
ャックに載せて保持すると共に、そのチャックを上昇さ
せて上記ガラス基板の上面とマスク下面との間に所定の
ギャップをあけて位置合わせをし、上記マスクの上方か
ら露光用の光を照射して該マスクに形成された配線パタ
ーンを上記ガラス基板に焼き付けるガラス基板露光装置
において、上記マスクの下面から上記設定すべき所定の
ギャップよりさらに下方位置に概略合わせ用の面を設定
し、まずこの面に対してガラス基板を上昇して概略合わ
せし、その後上記概略合わせ用の間隔分だけガラス基板
の全体を上昇させ、この位置でマスクとガラス基板との
間隔を微細合わせすることにより、２段階で所定のギャ
ップを設定するものである。
【０００７】
【作用】このように構成されたギャップ制御方法は、マ
スクの下面とガラス基板の上面との間に設定すべき所定
のギャップよりさらに下方位置に概略合わせ用の面を設
定して、まずこの面に対してガラス基板を上昇して概略
合わせし、その後さらに上記ガラス基板を上昇させて微
細合わせすることにより、２段階で所定のギャップを設
定する。これにより、概略合わせの段階でガラス基板を
マスクに対して略平行とし、その後微細合わせをして所
定のギャップに設定するので、マスクとの不意の接触を
防止できる。
スクの下面とガラス基板の上面との間に設定すべき所定
のギャップよりさらに下方位置に概略合わせ用の面を設
定して、まずこの面に対してガラス基板を上昇して概略
合わせし、その後さらに上記ガラス基板を上昇させて微
細合わせすることにより、２段階で所定のギャップを設
定する。これにより、概略合わせの段階でガラス基板を
マスクに対して略平行とし、その後微細合わせをして所
定のギャップに設定するので、マスクとの不意の接触を
防止できる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面を参照して
詳細に説明する。図１は本発明によるガラス基板露光装
置におけるギャップ制御方法を示す説明図であり、図２
は本発明のギャップ制御方法が適用されるガラス基板露
光装置を示す断面説明図である。
詳細に説明する。図１は本発明によるガラス基板露光装
置におけるギャップ制御方法を示す説明図であり、図２
は本発明のギャップ制御方法が適用されるガラス基板露
光装置を示す断面説明図である。
【０００９】まず、ガラス基板露光装置は、図２に示す
ように構成されており、図において、チャック４は、そ
の上面に大型（例えば４００ｍｍ×４００ｍｍ程度）の
ガラス基板３を載せて保持するもので、上昇下降可能と
された支持部材６の上面に設けられた例えば３本のチル
ト機構５ａ，５ｂ，５ｃによって傾きが調整されるよう
になっている。そして、このチャック４の上面には、例
えば電子回路の回路基板を構成する大型のガラス基板３
が真空吸着等により保持される。
ように構成されており、図において、チャック４は、そ
の上面に大型（例えば４００ｍｍ×４００ｍｍ程度）の
ガラス基板３を載せて保持するもので、上昇下降可能と
された支持部材６の上面に設けられた例えば３本のチル
ト機構５ａ，５ｂ，５ｃによって傾きが調整されるよう
になっている。そして、このチャック４の上面には、例
えば電子回路の回路基板を構成する大型のガラス基板３
が真空吸着等により保持される。
【００１０】上記チャック４の上方には、マスクベース
２が設けられている。このマスクベース２は、その上面
に大型（例えば４００ｍｍ×４００ｍｍ以上）のマスク
１を支持するもので、例えば矩形状に形成されると共に
、その中央部のマスク支持部には光透過用の例えば矩形
状の切欠窓７が穿設されている。そして、このマスクベ
ース２の上面には、上記ガラス基板３に焼き付ける配線
パターンが形成された大型のマスク１が、上記切欠窓７
の縁部にその外周縁を載せて支持される。
２が設けられている。このマスクベース２は、その上面
に大型（例えば４００ｍｍ×４００ｍｍ以上）のマスク
１を支持するもので、例えば矩形状に形成されると共に
、その中央部のマスク支持部には光透過用の例えば矩形
状の切欠窓７が穿設されている。そして、このマスクベ
ース２の上面には、上記ガラス基板３に焼き付ける配線
パターンが形成された大型のマスク１が、上記切欠窓７
の縁部にその外周縁を載せて支持される。
【００１１】次に、このようなガラス基板露光装置にお
けるギャップ制御方法について、図１を参照して説明す
る。いま、マスク１の下面とガラス基板３の上面との間
に設定すべき所定のギャップｇを例えば４０μｍとし、
そのときのガラス基板３の位置を図１で二点鎖線で示す
。 この状態では、実際のガラス基板３は、図１で実線で示
すようにまだ下方にある。そして、上記ガラス基板３の
位置合わせ用の光学系でマスク１の上方から見て、まず
、上記マスク１の下面にピントを合わせる。ここで、上
記マスク１の下面から上記設定すべき所定のギャップｇ
よりさらに下方位置、例えばｄ＝６０μｍ下がった位置
に、一点鎖線で示すように概略合わせ用の面８を設定す
る。このとき、ｇ＋ｄ＝１００μｍ程度が望ましい。そ
して、上記位置合わせ用の光学系のピントを、マスク１
の下面側にてｇ＋ｄ＝１００μｍのところの概略合わせ
用の面８に合わせる。
けるギャップ制御方法について、図１を参照して説明す
る。いま、マスク１の下面とガラス基板３の上面との間
に設定すべき所定のギャップｇを例えば４０μｍとし、
そのときのガラス基板３の位置を図１で二点鎖線で示す
。 この状態では、実際のガラス基板３は、図１で実線で示
すようにまだ下方にある。そして、上記ガラス基板３の
位置合わせ用の光学系でマスク１の上方から見て、まず
、上記マスク１の下面にピントを合わせる。ここで、上
記マスク１の下面から上記設定すべき所定のギャップｇ
よりさらに下方位置、例えばｄ＝６０μｍ下がった位置
に、一点鎖線で示すように概略合わせ用の面８を設定す
る。このとき、ｇ＋ｄ＝１００μｍ程度が望ましい。そ
して、上記位置合わせ用の光学系のピントを、マスク１
の下面側にてｇ＋ｄ＝１００μｍのところの概略合わせ
用の面８に合わせる。
【００１２】次に、この状態で、ガラス基板３の上面に
平行出し用の縞パターンを照射して、チャック４を３本
のチルト機構５ａ〜５ｃで矢印Ａのように上昇させ、前
記概略合わせ用の面８にガラス基板３の上面を合わせる
。このとき、上記３本のチルト機構５ａ〜５ｃの上昇量
を加減しながら、上記縞パターンが正しい形に見えるよ
うに調節することにより、ガラス基板３を略平行とする
。
平行出し用の縞パターンを照射して、チャック４を３本
のチルト機構５ａ〜５ｃで矢印Ａのように上昇させ、前
記概略合わせ用の面８にガラス基板３の上面を合わせる
。このとき、上記３本のチルト機構５ａ〜５ｃの上昇量
を加減しながら、上記縞パターンが正しい形に見えるよ
うに調節することにより、ガラス基板３を略平行とする
。
【００１３】次に、上記位置合わせ用の光学系のピント
を、マスク１の下面側にてｇ＝４０μｍの所定のギャッ
プ位置に合わせる。すなわち、フォーカスを６０μｍだ
け戻す。そして、上記チルト機構５ａ〜５ｃの動作によ
りチャック４を矢印Ｂのようにさらに上昇させ、ガラス
基板３の全体を上記概略合わせ用の間隔ｄ＝６０μｍだ
け一気に上昇させる。その後、この位置で上記ガラス基
板３の上面に平行出し用の縞パターンを照射して、３本
のチルト機構５ａ〜５ｃを微調整し、上記縞パターンが
正しい形に見えるように調節する。これにより、マスク
１とガラス基板３との間隔を微細合わせし、所定のギャ
ップｇに正しく設定して平行出しが完了する。すなわち
、２段階の動作により所定のギャップｇを設定すること
ができる。
を、マスク１の下面側にてｇ＝４０μｍの所定のギャッ
プ位置に合わせる。すなわち、フォーカスを６０μｍだ
け戻す。そして、上記チルト機構５ａ〜５ｃの動作によ
りチャック４を矢印Ｂのようにさらに上昇させ、ガラス
基板３の全体を上記概略合わせ用の間隔ｄ＝６０μｍだ
け一気に上昇させる。その後、この位置で上記ガラス基
板３の上面に平行出し用の縞パターンを照射して、３本
のチルト機構５ａ〜５ｃを微調整し、上記縞パターンが
正しい形に見えるように調節する。これにより、マスク
１とガラス基板３との間隔を微細合わせし、所定のギャ
ップｇに正しく設定して平行出しが完了する。すなわち
、２段階の動作により所定のギャップｇを設定すること
ができる。
【００１４】
【発明の効果】本発明は以上のように構成されたので、
マスク１の下面とガラス基板３の上面との間に設定すべ
き所定のギャップｇよりさらに下方位置に概略合わせ用
の面８を設定して、まずこの面８に対してガラス基板３
を上昇して概略合わせし、その後さらに上記ガラス基板
３を上昇させて微細合わせすることにより、２段階で所
定のギャップｇを設定することができる。これにより、
概略合わせの段階でガラス基板３をマスク１に対して略
平行とし、その後微細合わせをして所定のギャップｇに
設定するので、大型サイズのガラス基板３であってもマ
スク１との不意の接触を防止することができる。従って
、ガラス基板３のレジスト又は基材がマスク１の下面に
付着したり、ゴミとなって積もることを無くし、所定の
ギャップ（プロキシミティギャップ）ｇを正しく設定す
ることができる。また、他のガラス基板３の上面に異物
を落下させることを無くし、製品の歩留まりを向上する
ことができる。
マスク１の下面とガラス基板３の上面との間に設定すべ
き所定のギャップｇよりさらに下方位置に概略合わせ用
の面８を設定して、まずこの面８に対してガラス基板３
を上昇して概略合わせし、その後さらに上記ガラス基板
３を上昇させて微細合わせすることにより、２段階で所
定のギャップｇを設定することができる。これにより、
概略合わせの段階でガラス基板３をマスク１に対して略
平行とし、その後微細合わせをして所定のギャップｇに
設定するので、大型サイズのガラス基板３であってもマ
スク１との不意の接触を防止することができる。従って
、ガラス基板３のレジスト又は基材がマスク１の下面に
付着したり、ゴミとなって積もることを無くし、所定の
ギャップ（プロキシミティギャップ）ｇを正しく設定す
ることができる。また、他のガラス基板３の上面に異物
を落下させることを無くし、製品の歩留まりを向上する
ことができる。
【図１】 本発明によるガラス基板露光装置における
ギャップ制御方法を示す説明図、
ギャップ制御方法を示す説明図、
【図２】 本発明のギャップ制御方法が適用されるガ
ラス基板露光装置を示す断面説明図。
ラス基板露光装置を示す断面説明図。
１…マスク、 ２…マスクベース、 ３…ガラス基
板、 ４…チャック、５ａ〜５ｃ…チルト機構、
６…支持部材、 ７…切欠窓、 ８…概略合わせ面
、 ｇ…所定のギャップ。
板、 ４…チャック、５ａ〜５ｃ…チルト機構、
６…支持部材、 ７…切欠窓、 ８…概略合わせ面
、 ｇ…所定のギャップ。
Claims (1)
- 【請求項１】 配線パターンが形成されたマスクをマ
スクベースで支持し、このマスクの下方にはガラス基板
をチャックに載せて保持すると共に、そのチャックを上
昇させて上記ガラス基板の上面とマスク下面との間に所
定のギャップをあけて位置合わせをし、上記マスクの上
方から露光用の光を照射して該マスクに形成された配線
パターンを上記ガラス基板に焼き付けるガラス基板露光
装置において、上記マスクの下面から上記設定すべき所
定のギャップよりさらに下方位置に概略合わせ用の面を
設定し、まずこの面に対してガラス基板を上昇して概略
合わせし、その後上記概略合わせ用の間隔分だけガラス
基板の全体を上昇させ、この位置でマスクとガラス基板
との間隔を微細合わせすることにより、２段階で所定の
ギャップを設定することを特徴とするガラス基板露光装
置におけるギャップ制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3098008A JP2676278B2 (ja) | 1991-04-04 | 1991-04-04 | ガラス基板露光装置におけるギャップ制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3098008A JP2676278B2 (ja) | 1991-04-04 | 1991-04-04 | ガラス基板露光装置におけるギャップ制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04307550A true JPH04307550A (ja) | 1992-10-29 |
| JP2676278B2 JP2676278B2 (ja) | 1997-11-12 |
Family
ID=14207714
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3098008A Expired - Lifetime JP2676278B2 (ja) | 1991-04-04 | 1991-04-04 | ガラス基板露光装置におけるギャップ制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2676278B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6381002B1 (en) | 1998-07-09 | 2002-04-30 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Process for controlling a gap between a mask and a workpiece in proximity exposure and a proximity exposure device |
| JP2003015310A (ja) * | 2001-07-02 | 2003-01-17 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | プロキシミティ露光装置及びその装置におけるフォトマスク変形補正方法 |
-
1991
- 1991-04-04 JP JP3098008A patent/JP2676278B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6381002B1 (en) | 1998-07-09 | 2002-04-30 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Process for controlling a gap between a mask and a workpiece in proximity exposure and a proximity exposure device |
| JP2003015310A (ja) * | 2001-07-02 | 2003-01-17 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | プロキシミティ露光装置及びその装置におけるフォトマスク変形補正方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2676278B2 (ja) | 1997-11-12 |
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