JP3301387B2 - プロキシミティ露光におけるマスクとワークのギャップ制御方法およびプロキシミティ露光装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】半導体装置やプリント基板、
ＬＣＤの製造等には、紫外光を含む露光光をマスクを介
してワーク上に照射し、マスクパターンをワーク上に転
写する露光工程が行われる。本発明は、上記した露光工
程に使用されるプロキシミティ露光装置におけるマスク
とワークのギャップ制御方法およびプロキシミティ露光
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般にプロキシミティ露光装置とは、ワ
ークをマスクに対し平行にして、所定の間隔だけ離して
配置し、マスクを介して露光光を照射し、マスクに形成
されたマスクパターンをワークに転写する露光装置であ
る。したがって、露光時には、マスクとワークの間に所
定のギャップを設けること、両者を平行に配置すること
が要求される。

【０００３】図５に本発明の前提となるプロキシミティ
露光装置の基本的な構成を示す。同図において、マスク
パターンを形成したマスクＭは、マスクステージＭＳに
真空吸着等により保持される。マスクステージＭＳの上
方には、ギャップ測定器１が設けられ、ギャップ測定器
１はギャップ測定器駆動機構２により上下方向に駆動さ
れる（ギャップ測定器については、例えば特願平９−７
５５６４号を参照されたい）。ワークステージＷＳは真
空吸着等によりワークＷを保持する。ワークステージＷ
Ｓが設けられるワークステージ部は、以下のような多段
構造を有している。すなわち、ベースプレートＢＰ上に
第１の移動機構Ｄ１（以下Ｚ１移動機構という）を介し
て第１のステージＺＳ（以下、ＺステージＺＳという）
が設けられ、ＺステージＺＳ上に第２の移動機構Ｄ２
（以下Ｚ２移動機構という）を介してワークステージＷ
Ｓが設けられる。Ｚ１移動機構Ｄ１は、上下方向にＺス
テージＺＳを移動させる。

【０００４】ＺステージＺＳの駆動機構は例えば次のよ
うに構成される。図５に示すように、中間移動ステージ
１１を設け、ボール等の転動部材を介してべ一スプレー
トＢＰ上を移動可能に取り付ける。ＺステージＺＳの下
部３個所に設けられた斜面１２（図５ではそのうちの２
個所が見えている）が、中間移動ステージ１１の対応す
る位置３個所に設けられた斜面１３の上に、ボール１４
等の転動部材を介して載せられている。

【０００５】また、ＺステージＺＳは、ベースプレート
ＢＰに垂直に取り付けられたガイド１５にもベアリング
１６等の部材を介して取り付けられている。ガイド１５
は、ＺステージＺＳがＺ方向移動時にＸＹ方向（Ｘは例
えば同図の左右方向、Ｙは同図紙面に対して垂直方向）
に移動しないようにＸ方向、Ｙ方向にそれぞれ移動方向
を規制する。同図のガイド１５はＸ方向の移動を規制す
るもので、これに対し９０°方向にはＹ方向の移動を規
制するガイドが設けられている。中間移動ステージ１１
が中間移動ステージ駆動機構１７によってベースプレー
トＢＰ上を移動すると、ＺステージＺＳは、中間移動ス
テージ１１の斜面に沿ってＺ方向に移動する。このと
き、ＺステージＺＳはガイド１５に沿って移動するの
で、Ｚ方向にのみ移動し、ＸＹ方向に移動しない。ま
た、３個所の斜面の傾斜を同じにしてあるので、水平を
保ったままでＺ方向に移動する。ＺステージＺＳの移動
のストロークは通常５０〜１００ｍｍである。

【０００６】このようにして、Ｚ１移動機構Ｄ１により
ＺステージＺＳをＺ方向に平行移動させることで、マス
クとワークの間に所定のギャップを設定することができ
る。しかし、ＺステージＺＳを垂直移動させただけでは
ワークステージＷＳが露光装置やマスク等に対して傾い
ている可能性がある。Ｚ１移動機構Ｄ１ではこの傾きを
修正することができないので、Ｚ２移動機構Ｄ２が設け
られている。Ｚ２移動機構Ｄ２は、ワークステージＷＳ
をあおり移動、調整する。例えば、図５にあるように、
ワークステージＷＳを、Ｚ方向に移動可能なワークステ
ージ支持部材２０ａを有するワークステージ支持部２０
により３点で支持し、各ワークステージ支持部材２０ａ
を駆動部２０ｂにより独立してＺ方向に移動させる。こ
れにより、ワークステージＷＳがあおられ、Ｚステージ
ＺＳが露光装置、マスク等に対して傾かないようにす
る。各ワークステージ支持部２０のワークステージ支持
部材２０ａは、例えばサーボモータ等を有する駆動部２
０ｂにより駆動され、高精度微少移動が可能である。ま
た、移動速度は遅く、各ワークステージ支持部材２０ａ
の移動ストロークは１〜２ｍｍである。

【０００７】次に、図６、図７により図５に示した装置
の動作を説明する。 (1) ワークＷの搬出・搬入をしやすくするために、ワー
クステージＷＳは下方に移動している。マスクＭとワー
クステージＷＳとの間隔は、ワーク搬送用フィンガー３
の厚みやワークＷのたわみを考慮すると、少なくとも５
０ｍｍ程度必要である。 (2) 図６に示すように、ワークＷが、ワーク搬送用フィ
ンガー３により保持されて、ワークステージＷＳ上に搬
送される。ワークステージ部には、搬送用フィンガー３
とワークステージＷＳとの間におけるワークＷの受け渡
しのために、受け渡しピン４が設けられている（図５に
は不図示）。搬送フィンガー３が下降し、ワークＷが受
け渡しピン４上に受け渡され、搬送フィンガー３は退避
する。

【０００８】(3) 図７に示すように、ワークＷとマスク
Ｍとの間隔が、所定の露光ギャップになるように、Ｚ１
移動機構Ｄ１により、ワークステージＷＳが短時間で上
昇する。ワークステージＷＳが上昇することにより、ワ
ークＷが受け渡しピン４より、ワークステージＷＳに受
け渡される。上記所定の露光ギャップは、プロセス等の
使用条件によって異なるが、通常１００μｍ以下が要求
される。露光ギャップが狭いほど露光精度（解像力）が
良くなるからである。 (4) マスクＭとワークＷの平行を出すために、図５に示
したギャップ測定器１により、マスクＭとワークＷとの
間隔を複数個所（例えば３個所）測定し、該測定値より
マスクＭとワークＷとが平行になるように、Ｚ２移動機
構Ｄ２によりワークステージＷＳをあおり移動させて調
整する。

【０００９】(5) マスクＭとワークＷとが平行になった
ことを、ギャップ測定器１により確認後、露光光を、マ
スクＭを介して照射・露光する。 (6) 露光終了後、ワークステージがＺ１移動機構Ｄ１に
より下降すると、ワークＷが受け渡しピン４に受け渡さ
れる。搬送用フィンガー３がワークステージ部に挿入さ
れ、処理済ワークが受け渡しピン４から撒送用フィンガ
ー３に受け渡され、ワークステージ部より搬出される。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】近年ワークサイズが大
型化する傾向がある。特に液晶基板の分野では、５５０
ｍｍ×６５０ｍｍ〜６５０ｍｍ×８３０ｍｍの大型基板
が主流になりつつある。また、高い精度の露光ができる
ように、５０μｍ以下の露光ギャップが要求されるよう
になってきた。ワークが大型化し、露光ギャップが狭く
なると、ワークステージＷＳを露光ギャップ（例えばマ
スクとワークとの間隔が４０μｍ）まで上昇させてから
ギャップ量を測定し、ワークＷをあおって平行調整を行
うと、ワークＷの端部がマスクＭに衝突することが起き
るようになってきた。マスクＭにワークＷが接触する
と、ゴミが発生したり、高価なマスクが傷つくという問
題が起きる。

【００１１】ワークＷの端部がマスクＭに衝突する理由
は次の通りである。ワークステージＷＳの各部品を組み
つける際、ワークステージＷＳ、Ｚ１移動機構Ｄ１，Ｚ
２移動機構Ｄ２をマスクＭに対して平行になるように、
例えばシムと呼ばれる薄い板部材を取り付け部分にはさ
み、高さ方向の位置を変えるなどして、調整を行う。し
かし、このような機械的な方法による平行調整は、大型
の液晶基板を露光する装置の大型のワークステージの場
合、作業が煩雑で大掛かりになり、５００μｍの範囲で
傾く場合がある。さらに、一般に大型のガラス板の、厚
みの公差は±５０μｍである。したがって、ワークステ
ージＷＳが、機械的な平行調整の精度（５００μｍ）
と、ガラス板の厚みの公差（±５０μｍ）とを加えた範
囲よりも狭いギャップ、例えば５５０μｍ以下にまで一
気に移動すると、ワークＷの端部がマスクＭに衝突する
場合がある。

【００１２】このようなワークＷとマスクＭの接触を防
止するためには、上記ギャップ（５５０μｍ）以上の隙
間を設けた状態で仮の平行出しを行い、その後更に狭い
隙間に設定してから再度平行出しを行うことを繰り返し
て最終の目的とする４０μｍの隙間を平行に形成するこ
とを行うことになる。しかしこれでは、ギャップ測定と
平行調整の測定を何度も繰り返す必要が有り、露光ギャ
ップの設定に時間がかかり、またその測定、調整の作業
には多くの熱練を要する。

【００１３】一方、特開平４−３０７５５０号公報に記
載されるようなギャップ制御方法も提案されている。こ
れは、露光ギャップ位置よりも下の位置で粗い平行調整
を行い、次に露光ギャップ位置で微細な平行調整を行う
というものである。しかしながら、上記特開平４−３０
７５５０号公報に記載されるギャップ制御方法を用いて
も、ワークＷが大型化すると、次のような問題点が生ず
る。 （１）上記特開平４−３０７５５０号公報に記載される
実施例では、粗い平行調整を行う位置を、マスクＭとワ
ークＷとの間隔設定が１００μｍの位置としている。こ
のような粗い平行調整と微細な平行調整の２段階の調整
は、比較的小型の基板を露光する場合であって、１００
μｍ程度の間隔にまで接近して平行調整ができる際には
有効であるが、先に説明したように、大型の基板の場
合、それよりもっと大きな隙間（５５０μｍ）のときの
平行調整から始めないとワークＷの端部がマスクＭに衝
突することがある。

【００１４】（２）したがって、複数回の粗い平行調整
位置でのギャップ測定と平行調整、露光ギャップ位置で
のギャップ測定と平行調整、さらに最後の確認のための
ギャップ測定を行うことになる。このようなギャップ測
定と平行調整の工程を何度も繰り返す必要があり、露光
ギャップの設定に時間がかかる。また、ギャップ測定、
平行調整の作業には熱練を要する。 （３）このため露光処理以外にワークステージを長い時
間使用することになるので、結果的に装置のスループッ
トが悪化する。本発明は上記した事情に鑑みなされたも
のであって、本発明は、露光ギャップ測定と平行調整の
工程が少なく、かつ、ワークが大型化してもワークとマ
スクとが接触することなくマスクとワークのギャップを
制御することができ、さらに、ギャップ調整に熱練を必
要としないプロキシミティ露光装置におけるマスクとワ
ークとのギャップ制御方法およびそのための装置を提供
することを目的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明においては、露光装置製造時、ワークステー
ジの、シム等による機械的な方法による調整のみでは調
整しきれない位置調整を、ワークステージの移動制御に
より行なうようにしたものである。すなわち、ワークス
テージの移動機構を、第１の移動機構と、第１の移動機
構により駆動されるステージ上に配置され、ワークステ
ージを上下方向に移動させその傾きを調整する複数のワ
ークステージ支持部からなる第２の移動機構から構成
し、マスク下面とワークステージ上に配置したワーク上
面とのギャップ量を複数箇所で測定し、該ギャップ量か
ら、ワークステージをマスクに対して平行になるように
上記複数のワークステージ支持部を移動させたときの各
ワークステージ支持部の位置をそれぞれ平行原点として
制御部に登録しておく。そして、装置の使用開始時に、
上記各ワークステージ支持部を上記制御部に登録された
それぞれの平行原点まで移動させた状態で待機させ、ワ
ーク露光時に、ワークステージ上にワークを載せて保持
し、アライメントギャップ位置まで、上記第１の移動機
構で上昇させて、上記第２の移動機構のワーク支持部に
よりマスクとワークとの間に平行な露光ギャップを設け
て露光するように構成したものである。このため、本発
明においては、露光ギャップ測定と平行調整の工程を少
なくすることができ、また、ワークが大型化してもワー
クとマスクとが接触することがない。さらに、熟練を要
することなく簡単にマスクとワークの平行出しをするこ
とができる。

【００１６】

【発明の実施の形態】図１は本発明の実施例を示す図で
ある。ワークステージＷＳの駆動機構は前記図５に示し
たものと同じであり、その動作も基本的には同じであ
る。同図において、前記図５に示したものと同一のもの
には同一の符号が付されており、本実施例においては、
制御部５に記憶部５ｃが設けられており、ここに、ワー
クステージＷＳをマスクＭに対して平行とする各ワーク
ステージ支持部材２０ａの位置（以下これを平行原点と
いう）が記憶される。

【００１７】図２〜図３はマスクＭ、ワークステージＷ
ＳおよびＺ２移動機構Ｄ２の拡大図、図４はワークステ
ージ支持部２０とギャップ測定器１の配置を示す図であ
る。図２〜図３に示すように、各ワークステージ支持部
２０にはワークステージ支持部材２０ａの位置を検出す
るセンサ２０ｃが設けられており、センサ２０ｃの出力
は図１に示した制御部５に送られる。ワークステージ支
持部材２０ａは、例えば、エンコーダ付きサーボモータ
で駆動することができ、該エンコーダ出力を上記センサ
２０ｃの出力として用いることができる。また、図４に
示すように、本実施例においては、ワークステージ支持
部２０がＺステージＺＳ上に３か所に配置されており、
また、ワークステージ支持部２０が取り付けられた位置
の垂直上方にギャップ測定器１が設けられている。

【００１８】以下、図２〜図３、図４を参照しながら、
本実施例におけるギャップの調整について説明する。 （１）露光処理前の調整操作 まず、装置の調整段階で次の(1) 〜(9) の調整を行う。 (1) 最初、各支持部材２０の支持部材２０ａはストロー
クエンド（一番下がった状態）の状態にある。この状態
でシム等によってマスクＭに対するワークステージＷＳ
の機械的な平行調整を行う。 (2) 図２は、上記機械的な平行調整が終わった状態を示
す。このように、装置の各駆動機構の移動部がストロー
クエンドにあり、装置部品の組みつけ段階の位置調整が
終わっている状態を機械原点とする。この段楷での平行
調整の精度は前記したように５００μｍの誤差がある。

【００１９】(3) 続いて、Ｚ２移動機構Ｄ２を駆動する
ことにより平行調整を行う。 (4) まず、ワークステージＷＳに実際のワークＷと同じ
厚みのダミーワークＷｄ（ブランクガラス）を載置す
る。装置が機械原点にある状態で、Ｚ１移動機構Ｄ１を
駆動し、ギャップ測定器１により、マスクＭとダミーワ
ークＷｄとのギャップ間隔が測定可能な位置（例えば間
隔６００μｍ）にまでワークステージＷＳを上昇させ
る。 (5) ギャップ測定器１により、図２のａ，ｂ，ｃの３個
所において、マスクＭとダミーワークＷｄのギャップ間
隔ｌ，ｍ，ｎを測定する（測定を行うａ，ｂ，ｃの３個
所の位置については、図４を参照）。

【００２０】(6) 測定値がｌ＝６５０μｍ、ｍ＝６３０
μｍ、ｎ＝６００μｍであったと仮定する。これより、
ワークステージＷＳが、マスクＭに対して、ａ〜ｃ点に
おいて、５０μｍ傾いていることがわかる。ｌ＝ｍ＝ｎ
の時、ワークステージＷＳがマスクＭに対して平行にな
るので、ａ点のワークステージ支持部材２０ａに対して
は５０μｍ上昇させるように、ｂ点のワークステージ支
持部材２０ａに対しては３０μｍ上昇させるように、各
ワークステージ支持部材２０ａの移動量を制御部５に入
力する。 (7) 制御部５のＺ２移動機構制御手段５ｂは、ワークス
テージ支持部２０のサーボモータに取り付けたエンコー
ダ出力が上記移動量に相当するパルス数になるまで、駆
動部２０ｂのサーボモータを駆動し、ワークステージ支
持部材２０ａを移動させる。移動後、再度ギャップ測定
器１によりマスクＭとワークＷとの間隔を測定する。そ
して、平行度が許容範囲になるまで上記調整・測定を繰
り返す。

【００２１】(8) マスクＭに対するワークステージＷＳ
の平行度の調整が完了した状態を図３に示す。上記の例
の場合、ａ点の支持部材は５０μｍ、ｂ点の支持部材は
３０μｍ、それぞれストロークエンド（すなわち機械原
点）から移動することになる。この状態の各ワークステ
ージ支持部材２０ａの位置を平行原点とする。 (9) 上記の機械原点に対する平行原点の位置、すなわ
ち、ａ点の支持部材に関しては５０μｍを、ｂ点の支持
部材に関しては３０μｍを、ｃ点に関しては０μｍを、
各ワークステージ支持部材の補正値として制御部５の記
憶部５ｃに登録する。ここまでを装置の調整段階で行
う。

【００２２】実際に露光装置を使用する時は、以下(10)
(11)の準備がなされる。 (10)実際に露光装置を使用する時、装置を起動すると、
制御部５はＺ２移動機構Ｄ２の各ワークステージ支持部
２０を駆動し、機械原点をセンサによって検出後、登録
された補正値に基づき平行原点にまで各ワークステージ
支持部材２０ａを移動させる。これにより、マスクＭに
対するワークステージＷの平行度は、微調整が終わった
状態で待機することとなる。 (11)この微調整によって、特に熟練を要することなく、
ワークとマスクの接触を防止しつつ、１００μｍ以下の
間隙のところまで一気に上昇させて平行にするための条
件を整えることができている。その状態で、ワークを待
っている。

【００２３】（２）ワークの露光処理動作 (1) マスクとワークとの設定すべき露光ギャップは、例
えば４０μｍであり、制御部５の記憶部５ｃに予め記憶
されている。 (2) ワークＷがワークステージＷＳに載置される。 (3) 制御部５のＺ１移動機構制御手段５ａにより、Ｚ１
移動機構Ｄ１の中間移動ステージ１１が駆動され、Ｚス
テージＺＳがＺ方向に移動する。その結果、ワークステ
ージＷＳがＺ方向に移動し、ワークステージＷＳは、マ
スクＭとワークＷの位置合わせ（アライメント）の第１
段階である１〜３倍の倍率のアライメント顕微鏡の焦点
深度内であるアライメントギャップ（例えば１００μ
ｍ）にまで速い速度で上昇する。なお、１〜３倍の倍率
とは、被観測物（アライメントマーク）の像がアライメ
ント顕微鏡のＣＣＤカメラ上に１〜３倍に拡大されて投
影されることを指す。

【００２４】(4) 上記したように、ワークステージＷＳ
のマスクＭに対する平行度の微調整は、前記した平行原
点によりなされている。したがって、ここで問題になる
のはワークＷの平行度（厚みのばらつき）である。ワー
クＷの平行度（厚みのばらつき）は約５０μｍであるの
で、ワークＷが載置されたワークステージＷＳを、アラ
イメントギャップ（１００μｍ）にまで上昇させても、
ワークＷがマスクＭに衝突する心配はない。 (5) さらに基板が大型化し、基板のうねりが大きくなる
と、マスクＭとワークＷのアライメントは、まず、マス
クＭとワークＷのギャップ幅が３００μｍにおいて１〜
３倍のアライメント顕微鏡による位置合わせを行い、次
にギャップ幅を１００μｍ〜露光ギャップ（例えば４０
μｍ）において、１０倍のアライメント顕微鏡によって
位置合わせを行う手順となる。

【００２５】(6) マスクＭとワークＷとのＸＹ方向の位
置合わせを行う。マスクＭおよびワークＷにはアライメ
ントマークが設けられており、不図示のアライメント顕
微鏡によりマスクＭとワークＷのアライメントマークを
検出し、マスクＭとワークＷのアライメントマークが重
なるように、マスクステージＭＳまたはワークステージ
ＷＳをＸＹθ方向に移動して、位置合わせを行う。 (6) ギャップ測定器１がギャップ測定器駆動機構２によ
って移動し、マスクＭとワークＷとの間隔が測定され
る。測定位置は、図４に示したようにワークステージ支
持部２０の垂直上方であるａ，ｂ，ｃの３個所である。 (7）ａ，ｂ，ｃの３個所に対応するギャップ間隔ｌ，
ｍ．ｎを測定し、測定値を制御部５に送る。測定値がｌ
＝１３６μｍ、ｍ＝１４６μｍ、ｎ＝１６０μｍであっ
たと仮定する。制御部５は、各ギャップの測定値から、
設定された露光ギャップの数値を引く演算を行う。すな
わち、 ａ点＝１３５μｍ−４０μｍ＝９５μｍ ｂ点＝１４５μｍ−４０μｍ＝１０５μｍ ｃ点＝１６０μｍ−４０μｍ＝１２０μｍ

【００２６】(8) 上記演算結果より、制御部５のＺ２移
動機構制御手段５ｂは、それぞれの個所に対応するワー
クステージ支持部材２０ａが、上記の距離だけ移動する
ように、各駆動部２０ｂに信号を出力する。各点は、ａ
点＝９５μｍ、ｂ点＝１０５μｍ、ｃ点＝１２０μｍ、
それぞれ移動する。ａ点は９５μｍ上昇移動すると、ａ
点に対応するワークステージ支持部材２０ａは移動を停
止する。その時点ではｂ点及びｃ点はまだ移動してい
る。ｂ点及びｃ点はそれぞれの移動量に達した時、それ
ぞれの個所に対応するワークステージ支持部材２０ａが
移動を停止する。

【００２７】(9) ワークステージＷＳは、マスクＭとワ
ークＷとの平行調整を行いながら、露光ギャップに達す
ることになる。 (10)確認のために、ギャップ測定器１により、マスクＭ
とワークＷとの間隔をａ，ｂ，ｃの３個所で測定する。 (11)測定されたギャップ幅の数値が、設定露光ギャップ
に対して許容範囲ならば、露光処理を行う。許容範囲外
ならば、再度、ワークステージ支持部材２０ａを移動さ
せて平行調整を行う。ギャップ間隔が許容範囲に入るま
でこれを繰り返す

【００２８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、装置の調整段階で、ワークステージ移動機構を移動
制御し、マスクに対するワークステージの平行度の微調
整を行い、その微調整位置を平行原点として制御部の記
憶部に登録しておき、装置の使用開始時には、ワークス
テージ駆動機構を平行原点まで移動させ、そこで待機す
るようにしたので、ワークのマスクに対する平行調整の
位置を、ワークの厚みの公差のみを考慮すれば良いよう
にできる。したがって、ワークが大型化してもワークが
マスクに接触することなく、マスクに接近した平行調整
位置にまで、比較的速いスピードでワークステージを上
昇させることができる。このため、平行調整の時間を短
縮することができ、スループットの向上が図ることがで
きる。また、熟練を要することなく、マスクとワークの
平行出しを行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例を示す図である。

【図２】本発明の実施例において機械的な平行調整が終
わった状態を示す図である。

【図３】本発明の実施例においてマスクとワークステー
ジの平行度の調整が完了した状態を示す図である。

【図４】ワークステージ支持部とギャップ測定器の配置
を示す図である。

【図５】本発明の前提となるプロキシミティ露光装置の
基本的な構成を示す図である。

【図６】ワークをワークステージＷＳ上に搬送する様子
を示す図である。

【図７】ワークステージ上昇させた状態を示す図であ
る。

【符号の説明】

１ ギャップ測定器 ２ ギャップ測定器駆動機構 ３ ワーク搬送用フィンガー ４ 受け渡しピン ５ 制御部 ５ａ Ｚ１移動機構制御手段 ５ｂ Ｚ２移動機構制御手段 ５ｃ 記憶部 １１ 中間移動ステージ １２，１３斜面 １４ ボール １５ ガイド １６ ベアリング １７ 中間移動ステージ駆動機構 ２０ ワークステージ支持部 ２０ａ ワークステージ支持部材 ２０ｂ 駆動部 ２０ｃ センサ Ｍ マスク ＭＳ マスクステージ Ｗ ワーク Ｗｄ ダミーワーク ＷＳ ワークステージ ＢＰ ベースプレート Ｄ１ Ｚ１移動機構（第１の移動機構） Ｄ２ Ｚ２移動機構（第２の移動機構） ＺＳ Ｚステージ（第１のステージ）

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 パターンが形成されたマスクをマスクス
   テージによって支持し、 該マスクの下方のワークステージ上にワークを載せて保
   持し、 上記ワークの上面と上記マスクの下面との間に、所定の
   ギャップをあけて、アライメント顕微鏡により、マスク
   に印されたマスクアライメントマークと、ワークに印さ
   れたワークアライメントマークを観察し、マスクとワー
   クの位置合わせをし、 上記マスクの上方から露光光を照射して、該マスクに形
   成されたパターンを、上記ワークに転写するプロキシミ
   ティ露光におけるマスクとワークのギャップ制御方法で
   あって、 ワークステージの移動機構を、第１のステージを上下動
   させる第１の移動機構と、第１の移動機構により駆動さ
   れるステージ上に配置され、上記ワークステージを上下
   方向に移動させその傾きを調整する複数のワークステー
   ジ支持部からなる第２の移動機構から構成し、 上記第１の移動機構によりワークステージをマスク下面
   とワークステージ上に配置したワーク上面とのギャップ
   量が測定可能な位置にまで上昇させ、ギャップ量を複数
   箇所で測定し、 該ギャップ量から、ワークステージをマスクに対して平
   行になるように上記第２の移動機構の上記ワークステー
   ジの複数の支持部を移動させたときの各ワークステージ
   支持部の位置をそれぞれ平行原点として制御部に登録し
   ておき、 装置の使用開始時に、上記各ワークステージ支持部を上
   記制御部に登録されたそれぞれの平行原点まで移動させ
   た状態で待機させ、 ワーク露光時に、ワークステージ上にワークを載せて保
   持し、アライメントギャップ位置まで、ワークステージ
   を上記第１の移動機構で上昇させ、その後、第２の移動
   機構によりワークステージの傾きを調整しつつワークを
   マスクと平行な露光ギャップ位置まで上昇させて露光す
   ることを特徴とするプロキシミティ露光におけるギャッ
   プ制御方法。
2. 【請求項２】 マスクとワークを接近させ、露光光をマ
   スクを介してワーク上に照射しマスクパターンをワーク
   に転写するプロキシミティ露光装置であって、 基台に対して第１のステージを上下方向に移動させる第
   １の移動機構と、 上記第１のステージに対してワークステージを上下方向
   に移動させその傾きを調整する複数のワークステージ支
   持部を備えた第２の移動機構と、 上記第１の移動機構、第２の移動機構の駆動を制御する
   制御部を有し、 上記ワークステージ支持部は、上記ワークステージと一
   体で移動するワークステージ支持部材と該ワークステー
   ジ支持部材を駆動する駆動部と、上記ワークステージ支
   持部材の上下方向の位置を検出する位置検出手段とを備
   え、 また、上記制御部は、ワークステージをマスクに対して
   平行とする各ワークステージ支持部材のそれぞれの平行
   原点位置を登録する記憶手段とを備えており、 上記制御部は、装置の使用開始時に、各ワークステージ
   支持部材を上記記憶手段に登録されたそれぞれの平行原
   点位置まで移動させた状態で待機させ、ワーク露光時
   に、上記第１の移動機構を駆動してワークステージをマ
   スクに接近させ、その後、上記第２の移動機構によりワ
   ークステージの傾きを調整しつつ上昇させることを特徴
   とするプロキシミティ露光装置。