JPH04150012A

JPH04150012A - 露光方法及び装置

Info

Publication number: JPH04150012A
Application number: JP2275605A
Authority: JP
Inventors: Yoshimi Yamashita; 良美山下
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 1990-10-15
Filing date: 1990-10-15
Publication date: 1992-05-22

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔概要〕半導体装置等の製造に用いられるリソグラフィ技術にお
ける露光方法及び装置に関し、マスクと露光試料間のギ
ャップ及びパターン位置調整の作業性がよく、しかもメ
ンブレン破壊の危険性を無くすことを目的とし、マスクと露光試料とをギャップを介して重ね合わせ、光
源からの電荷ビームを上記マスクを通して上記露光試料
に照射する露光方法において、高さ検出器により、上記
光源の光軸方向における上記マスクの位置を測定し、パ
ターン位置検出器により、上記光軸に対し垂直な面方向
における上記マスクの位置を測定し、夫々の測定データ
を制御手段に記憶させるマスク測定工程と、上記高さ検
出器により、上記光軸方向における上記露光試料の位置
を測定し、上記パターン位置検出器により、上記面方向
における上記露光試料の位置を測定し、夫々の測定デー
タを上記制御手段に記憶させる露光試料測定工程と、上
記マスク測定工程と上記露光試料測定工程によって得ら
れた上記測定データに基づいた信号により、上記マスク
と上記露光試料とを、所定のギャップを有するような高
さ位置と、上記面方向において位置合わせがなされるよ
うな上記面方向の位置とに位置決めする重ね合わせ工程
とより構成する。

〔産業上の利用分野〕

本発明は露光方法及び装置に係り、特に半導体装置等の
製造に用いられるリソグラフィ技術における露光方法及
び装置に関する。

近年、半導体装置の高集積化及び高密度化に伴いリソグ
ラフィ工程で扱うパターンがますます微細化され、Ｘ線
露光等によるパターン転写技術が注目されている。そし
て、その開発分野の一つとしてＸ線露光によって生産さ
れる半導体の量産化があり、生産性の良い露光方法及び
露光装置の開発か急かれている。

〔従来の技術〕

第５図に従来のＸ線露光装置の一例の構成図を示す。

同図に示すＸ線露光装置ｌでは、パターンが形成されて
いるＸ線マスク（以下マスクという）２かギャップＧを
挟んて露光試料３の上方に配置され、マスク２の上方の
Ｘ線光源４から放射されたＸ線５がマスク２のパターン
を露光試料３上に転写するという作用を基本的にする。

図中、６はマスク２を支持するＸ線マスクステージであ
り、Ｘ線の光軸方向（図中Ｚ方向）にマスク２の端部を
上下動させるマスクＺ値補正モータ７．８を設けこれに
よりマスク２が支持されている。

露光試料３は試料台９上に真空チャックｌＯにより吸引
され固定されており、更に試料台９か試料ステージｌｌ
上に固定されている。この試料ステージ１１は試料ステ
ージ駆動モータ１２により露光試料３の面方向において
移動自在であり、試料ステージ位置測定器１３によって
試料ステージ１１の位置か測定される。

更に、１４は高さ測定用光源であり、ここから放射され
た光の一部かマスク２の上面にて反射して高さ検出器１
５に到達し、残りの一部がマスク２を透過して露光試料
３の上面にて反射し、同様に高さ検圧器１５に到達する
。高さ検出器１５はマスク２上での反射光と露光試料３
上での反射光との間の位相差を測定することにより上記
ギャップＧの寸法を測定する。

１６はパターン位置検出器であり、位置検出用光源１７
、ハーフミラ−１８、集光ミラー１９ａ、反射ミラー１
９ｂによって構成された部分と共に光学系の装置を構成
し、マスク２と露光試料３の面方向における位置（以下
パターン位置という）関係を検出する。具体的には同図
に示すように、マスク位置合わせパターン２ａと試料上
位置合わせパターン３ａとの位置関係を検出する。

上記構成のＸ線露光装置ｌでは、パターン転写される前
の露光試料３を載置して試料ステージ１１がマスク２の
下方に移動し、その後、高さ検出器１５とマスクＺ値補
正モータ７．８とによるマスク２と露光試料３との間の
ギャップＧ（マスク２の露光試料３に対する傾きを含む
）の測定及び調整作業、また、パターン位置検出器１６
と試料ステージ駆動モータ１２とによるパターン位置の
測定及び調整作業が夫々行われる。そしてギャップＧと
パターン位置が夫々許容範囲内に入ったところでＸ線に
よる露光が行われる。

このように従来においては、マスク２と露光試料３との
間のギャップＧは、１回の露光ごとにパターン位置を粗
合わせした状態で測定されるもので、パターン位置の調
整作業はギャップＧの調整作業を行った後、そのギャッ
プＧを維持した状態て行われていた。

〔発明か解決しようとする課題〕

しかるに、上記構成のＸ線露光装置１においては、１回
の露光作業ごとにマスク２を上下動させてギャップＧの
調整か必要であり、この作業に時間を要していた。従っ
て、多数の露光を行う場合は特にギャップＧの調整にか
かる時間が露光作業全体の作業時間を増大させていた。

また、上記調整作業中に行われるマスク２の上下動によ
りマスク２と露光試料３の間のガス圧か大きく変動し、
マスク２のメンブレン破壊の危険性を招いていた。よっ
てこのメンブレン破壊を避けるために上記マスク２の上
下動は時間をかけて行わなければならず、ギャップ調整
の時間を更に膨張させる原因にもなっていた。

そこで本発明は上記課題に鑑みなされたもので、マスク
と露光試料間のギャップ及びパターン位置調整の作業性
がよく、しかもメンブレン破壊の危険性の無い露光方法
及び装置を提供することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するために本発明は、マスクと露光試料とをギャップを介して重ね合わせ、光
源からの電荷ビームを上記マスクを通して上記露光試料
に照射する露光方法において、高さ検出器により、上記
光源の光軸方向における上記マスクの位置を測定し、パ
ターン位置検出器により、上記光軸に対し垂直な面方向
における上記マスクの位置を測定し、夫々の測定データ
を制御手段に記憶させるマスク測定工程と、上記高さ検
出器により、上記光軸方向における上記露光試料の位置
を測定し、上記パターン位置検出器により、上記面方向
における上記露光試料の位置を測定し、夫々の測定デー
タを上記制御手段に記憶させる露光試料測定工程と、上記マスク測定工程と上記露光試料測定工程によって得
られた上記測定データに基づいた信号により、上記マス
クと上記露光試料とを、所定のギャップを有するような
高さ位置と、上記面方向において位置合わせがなされる
ような上記面方向の位置とに位置決めする重ね合わせ工
程とよりなる。

そして、上記露光方法を実施するための装置として、マスクと露光試料とをギャップを介して重ね合わせて設
け、電荷ビームを上記マスクを通して上記露光試料に照
射する光源を設けた露光装置において、装置本体に固定され、マスクステージに支持された上記
マスクと、試料ステージに支持された上記露光試料に対
して上記光源の光軸方向及び上記光軸に対し垂直な面方
向における装置本体との位置関係を夫々測定する位置測
定手段と、上記マスクステージと上記試料ステージの少
なくともいずれかに設けられ、上記マスクと上記露光試
料との間の上記光軸方向の位置関係を調整するＺ値補正
手段と、上記マスクステージと上記試料ステージの少なくともい
ずれかに設けられ、上記マスクと上記露光試料との間の
上記光軸を軸とした回転方向の位置関係を調整する回転
補正手段と、上記マスクステージと上記試料ステージの少なくともい
ずれかに設けられ、上記マスクと上記露光試料との間の
、上記面方向における位置関係を調整するパターン位置
補正手段と、上記位置測定手段によって測定された測定データを記憶
して処理し、上記マスクと上記露光試料とを所定のギャ
ップを維持しながら上記露光試料を移動し、上記面方向
の位置合わせがなされる位置に位置決めするように、上
記Ｚ値補正手段と、上記回転補正手段と、上記パターン
位置補正手段とに、夫々独立させて駆動させる補正信号
を出力する制御手段とを具備してなる構成とした。

また、上記位置測定手段の構成をより簡単にするために
、上記位置測定手段を露光が行われる露光位置とは異なる
場所に設け、上記位置測定手段が測定しつる場所と上記露光位置との
間を、上記マスクステージと上記試料ステージとを夫々
移動させる移動手段を更に有する構成である。

〔作用〕

露光装置に装着されたマスクと露光試料の露光装置に対
する位置が、位置測定手段により測定され測定データと
して予め制御手段に記憶されることにより、マスクと露
光試料とを重ね合わせる過程において、実際にギャップ
及びパターン位置を確認することなく制置手段内で上記
測定データを電気的に処理するだけで、マスクと露光試
料との間のギャップとパターン位置を許容範囲内に収め
るための現位置からの補正距離を計算することができる
。従って、−回の重ね合わせ工程だけでマスクと露光試
料とを所定の位置にセットすることかできる。

測定データを処理してマスクと露光試料の重ね合わせ工
程を一回で済ませることにより、マスクを上下動させる
必要か無くなり、マスクのメンブレン膜の破壊の危険性
か減る。

また、前記位置測定手段を露光位置とは異なる場所に設
けることにより、位置測定手段は平面配置上光源と重な
り合わない配置となり、位置測定手段が光軸と同心状と
されていた従来に比べて、ハーフミラ−１反射ミラー等
の光学系機器か不要となる。

〔実施例〕

第１図に本発明になるＸ線露光装置の一実施例の構成図
を示す。

同図におけるＸ線露光装置２０の基本的作用はは従来と
同一であり、パターンか形成されているＸ線マスク（以
下マスクと（・う）２２かギャップＧを挟んで露光試料
２３の上方に配置され、マスク２２の上方のＸ線光源２
４から放射されたＸ線２５かマスク２２のパターンを露
光試料２３上に転写する構成である。

マスク２２はマスクＺ値補正モータ２６，２７を介して
Ｘ線マスクステージ２８に支持されている。Ｘ線光源２
４の光軸方向（図中Ｚ方向）に上下動する夫々の可動部
かマスク２２の周囲部に設けられ、固定部がＸ線マスク
ステージ２８に設けられている。マスクＺ値補正モータ
２６，２７は実際にはＸ線マスクステージ２８上の３箇
所に三角形をなして設けられており、このためマスク２
２はＸ線マスクステージ２８に対する高さ調整、及び全
ての方向の傾きの調整が可能とされている。

Ｘ線マスクステージ２８の外部てあり、平面上上記光軸
を中心として夫々か９０°をなした２箇所には、マスク
ステージ駆動モータ２９か配設されている。この２つの
マスクステージ駆動モータ２９によりＸ線マスクステー
ジ２８は光軸に対し垂直な面方向に移動自在とされ、更
に同様に外部に配設されたレーザ測長器であるマスクス
テージ位置測定器３０によってＸ線マスクステージ２８
の位置か測定される。

尚、第１図において上記マスクＺ値補正モータ２６．２
７とマスクステージ駆動モータ２９は、説明の便宜上上
述した実際の個数とは異なる個数で図示されている。

更に、Ｘ線マスクステージ２８とマスク２２との間には
Ｘ線マスク回転補正モータ３１か設けられており、これ
によりマスク２２は上記光軸を中心として回転自在とさ
れる。

上記マスクＺ値補正モータ２６，２７、マスクステージ
駆動モータ２９、Ｘ線マスク回転補正モータ３１は夫々
独立して駆動可能とされ、マスク２２は夫々のモータに
よって位置調整可能とされる構成である。

露光試料２３は従来のＸ線露光装置ｌと同様に試料台３
２上に真空チャック３３によって吸引されて固定され、
更にこの試料台３２は試料ステージ３４に支持されてい
る。

試料台３２と試料ステージ３４の間には、上記マスク２
２とＸ線マスクステージ２８との間と同様に、露光試料
２３が載置された試料台３２をＺ方向に移動させる試料
Ｚ値補正モータ３５，３６、及び試料台３２を回転させ
る試料回転補正モータ３７か夫々設けられており、更に
試料ステージ３４の外部にも、試料ステージ駆動モータ
３８が平面上夫々９０°をなして２箇所設けられ、更に
レーザ測長器である試料ステージ位置測定器３９か設け
られている。

試料ステージ３４はＸ線マスクステージ２８と同様に試
料ステージ駆動モータ３８により光軸に対し垂直な面方
向へ移動可能な構成であり、Ｘ線マスクステージ２８と
試料ステージ３４との間隔寸法は、上記両ステージ２８
．３４のあらゆる移動状態においても一定に保たれてい
る。

図中、４０はマスク２２及び露光試料２３の面方向にお
ける位置（以下パターン位置という）を測定するパター
ン位置検出器、４１はマスク２２及び露光試料２３の光
軸方向の高さ位置を測定する高さ測定器、４２は上記高
さ測定器４１用の高さ測定光源である。パターン位置検
出器４０、高さ測定器４１、高さ測定光源４２が位置測
定装置４３を構成する。

位置測定装置４３は第１図に示すように、Ｘ線マスクス
テージ２８及び試料ステージ゛３４か露光を行う所定の
位置にある状慇て、Ｘ線マスクステージ２８の外側てあ
り、マスク２２の上方とされる位置に配設されている。

５０はＸ線露光装置２０の制御装置であり、各測定器か
らの位置情報を記憶し、これを処理して上記各補正モー
タに駆動信号を出力する。即ち、図中、５１はマスク回
転補正信号、５２．５３はマスクＺ値補正信号、５４は
マスクステージ駆動信号、５５はマスクステージ位置情
報、５６は試料ステージ位置情報、５７は試料ステージ
駆動信号、５８．５９は試料Ｚ値補正信号、６０は試料
回転補正信号、６１は高さ情報、６２はパターン位置情
報である。

上記構成のＸ線露光装置２０においては、各測定器から
の位置情報に基づいた上記補正信号により上記各補正モ
ータかマスク２２と露光試料２３を変位させ、上述した
マスク２２と露光試料２３の間のギャップＧとパターン
位置を調整してＸ線露光を行う構成である。

次に本実施例のＸ線露光装置２０の使用方法について説
明する。

先ず第１にマスク２２をＸ線マスクステージ２８に装着
しマスク２２の位置調整を行う。第２図にマスク２２の
位置調整が行われている状態を示す。

マスク２２の位置調整を行う場合には、マスクステージ
駆動モータ２９を駆動して、Ｘ線マスクステージ２８を
第１図に示す状態から第２図に示すように位置測定装置
４３の下方となる位置に移動する。

マスク２２のメンブレン膜２２ａにはマスク吸収体パタ
ーン７０とマスク位置合わせパターン７１とか所定位置
に複数形成されている。そしてマスクステージ駆動モー
タ２９を再度駆動させてＸ線マスクステージ２８をマス
ク２２の面方向に移動させることにより、位置測定装置
４３の走査点Ｐかメンブレン膜２２ａ上を全面に渡り走
査するようにし、メンブレン膜２２ａのパターン位置と
高さ位置を測定する。即ち、上記マスク位置合わせパタ
ーン７１が上記走査点Ｐ下にある時の、マスクステージ
位置測定器３０か測定したＸ線マスクステージ２８の位
置をパターン位置情報として制御装置５０に出力しく情
報５５．６２）、また、メンブレン膜２２ａの複数箇所
における高さ位置をマスク高さ測定器４１により測定し
、この高さ位置情報６１を制御装置５０に出力する。

そして制御コンピュータ５０は入力された情報のうちの
高さ位置情報を基に、マスク２２のＸ線マスクステージ
２８に対する高さ、傾き、捩じれを検出し、これらを許
容範囲内へ収めるへくマスクＺ軸補正モータ２６，２７
にマスクＺ軸補正信号５２．５３を出力する。また、入
力されたパターン位置情報を基にマスク２２の平面上の
回転（θ値）を検出し、これらを許容範囲内へ収めるべ
くＸ線マスク回転補正モータ３１にマスク回転補正信号
５１を出力する。

そして上記補正か完了したマスク２２の最終的なパター
ン位置情報及び高さ位置情報か、次の工程て行われる露
光試料２３の位置調整及びＸ線露光時に使用されるため
、制御装置５０内に記憶される。

次に露光試料２３の位置調整を行う。第３図に露光試料
２３の位置調整が行われている状態を示す。

同図に示すように露光試料２３の位置調整を行う場合に
は、先に位置調整を行った側のＸ線マスクステージ２８
かＸ線光源２４の下方に戻され、反対に露光試料２３を
設けた試料ステージ３４か位置測定装置４３の下方とな
るように移動される。

尚この時、露光試料２３か高さ調整されたマスク２２と
接触しないように露光試料２３は試料ステージ３４に対
して最も下方とされた位置で移動される。

第３図中７２は露光試料２３上に設けられた試料上デバ
イスパターンであり、７３は試料上位置合わせパターン
である。露光試料２３の位置調整も上述したマスク２２
の位置調整と同様に行われ、露光試料２３の複数位置に
おける高さ位置と、上記試料上位置合わせパターン７３
を基準としたパターン位置が測定される。そして露光試
料２３の試料ステージ３４に対する傾き、捩じれ、回転
（θ値）か、制御装置５０より出力された試料Ｚ値補正
信号５８．５９、試料回転補正信号６０により試料Ｚ値
補正モータ３５，３６、試料回転補正モータ３７が駆動
されて適正状態へ補正される。

そして上記補正か完了した露光試料２３のパターン位置
情報及び高さ位置情報が露光時に使用されるために制御
装置５０に記憶される。

ここで露光試料２３の高さ位置は、最終的な高さ位置の
情報か得られているマスク２２との間に、Ｘ線露光を行
う時の所定寸法のギャップＧを形成する高さ位置に調整
される。

次に第４図に示すように、上記補正か行われ、また位置
情報か得られた露光試料２３をマスク２２との間に上記
ギャップＧを保持したままＸ線光源２４の光軸上に移動
する。マスク２２と露光試料２３のパターン位置の整合
は、制御装置５０に記憶されているマスク２２及び露光
試料２３の夫々のパターン位置情報に基づいて出力され
る補正信号５４．５７によりマスクステージ駆動モータ
２９と試料ステージ駆動モータ３８とが夫々の上記位置
合わせパターン７１と７３を合わせるように作動し、容
易に行われる。

マスク２２及び露光試料２３の回転ずれによるパターン
位置の不一致、また傾きや捩じれによるギャップＧの精
度低下は、上述したマスク２２及び露光試料２３に対し
て別々に行った位置調整により、重ね合わせの前段階で
排除されているため、マスク２２と露光試料２３の位置
関係はパターン位置、高さ位置ともに正確に許容範囲内
に入り、Ｘ線露光をすぐに実施しうる状態とすることか
できる。

上記のようにＸｐＡ露光装置２０によりＸ線露光を行う
場合、マスク２２と露光試料２３に対して別々にパター
ン位置と高さ位置とを測定し、これらの位置情報をデー
タとして制御装置５０に記憶させ、マスク２２と露光試
料２３とをＸ線の光軸下に重ねる時に再びこれらのデー
タを使用する構成としたため、マスク２２と露光試料２
３とを一回ずつ測定し位置調整を行うだけでマスク２２
と露光試料２３を一回て正規な重ね合わせ状態とするこ
とかてきる。従って、２枚目以降の露光試料に対するＸ
線露光では、最初にマスクに対して行った位置測定及び
調整工程か省略でき、露光試料のみに対して行えばよい
ため、露光ごとに何回もマスクを上下動させてギャップ
及びパターン位置の調整を行っていた従来の方法に比べ
て位置調整の作業性か改善される。従って、本発明によ
る位置調整の作業時間の短縮は、複数の露光試料に対し
てＸ線露光を連続的に行う場合に特にその効果か発揮さ
れる。

また従来においてメンブレン膜の破壊を防止するため時
間をかけて行っていたマスクの上下動か無くなるため、
上記位置調整にかかる時間を更に短縮することができる
。

更に、上記の如くマスク２２の上下動が無くなるためマ
スク２２と露光試料２３間のガス圧の変化によるメンブ
レン膜２２ａ破壊の危険性は無くなる。

尚、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、Ｘ
ｐＪ以外の光により露光試料に露光を行う構成の露光方
法及び装置にも適用される。

〔発明の効果〕

以上のように本発明によれば、マスク測定工程と露光試
料測定工程で予め得た測定データを電気的に処理し、マ
スクと露光試料とを一回の重ね合わせ工程で所定位置に
位置決めすることかできるため、マスクと露光試料の位
置調整の作業性か良くなり、露光作業にかかる時間か従
来に比へて格段に短縮される。

これにより露光試料の２枚目以降の露光では、マスクに
ついては最初の測定データか制御手段に記憶されている
ためマスク測定工程か省略でき、新たに装着された露光
試料の測定工程だけを行えばよい。従って本発明は、多
数の露光試料に対して露光を連続して行う場合に更に大
きな時間短縮か期待でき、半導体の量産化に寄与すると
ころか大きい。

また、マスクの上下動か不要となるため、マスク上のメ
ンブレン膜か破壊される可能性か無くなり、露光装置の
可動率の安定、向上か期待てきる。

更に本発明の露光装置では、マスク及び露光試料の面方
向の位置と高さ位置を測定する位置測定手段か光源の光
軸から離れた位置に配置されるため、これらの手段か露
光を行う装置内に複雑に組み込まれた従来の露光装置に
比べて、露光装置の構造が簡略化され、露光装置の製造
コストまたは装置のメンテナンス上有利である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明になるＸ線露光装置の一実施例の構成図
、第２図は第１図に示すＸｔｌＡ露光装置においてマスク
の位置調整が行われている状態を示す図、第３図は第１
図に示すＸ線露光装置において露光試料の位置調整か行
われている状態を示す図、第４図は第１図に示すＸ線露
光装置において試料ステージか光軸上に移動する状態を
示す図、第５図は従来のＸ線露光装置の一例の構成図で
ある。図こおいて、よＸ線露光装置、まＸ線マスク、よ露光試料、よＸ線光源、よＸ線、２６．２７はマスクＺ値補正モータ、２８はＸ線マスクステージ、２９はマスクステージ駆動モータ、３０はマスクステージ位置測定器、３１はＸ線マスク回転補正モータ、３４は試料ステージ、３５．３６は試料Ｚ値補正モータ、３７は試料回転補正モータ、３８は試料ステージ駆動モータ、３９は試料ステージ位置測定器、４０はパターン位置検出器、４１は高さ検出器、４２は高さ測定用光源、４３は位置測定装置、５０は開園装置、を示す。

Claims

【特許請求の範囲】（１）マスク（２２）と露光試料（２３）とをギャップ
（Ｇ）を介して重ね合わせ、光源（２４）からの荷電ビ
ーム（２５）を該マスク（２２）を通して該露光試料（
２３）に照射する露光方法において、高さ検出器（４１）により、前記光源（２４）の光軸方
向における前記マスク（２２）の位置を測定し、パター
ン位置検出器（４０）により、前記光軸に対し垂直な面
方向における前記マスク（２２）の位置を測定し、夫々
の測定データを制御手段（５０）に記憶させるマスク測
定工程と、前記高さ検出器（４１）により、前記光軸方
向における前記露光試料（２３）の位置を測定し、前記
パターン位置検出器（４０）により、前記面方向におけ
る前記露光試料（２３）の位置を測定し、夫々の測定デ
ータを前記制御手段（５０）に記憶させる露光試料測定
工程と、前記マスク測定工程と前記露光試料測定工程によって得
られた前記測定データに基づいた信号により、前記マス
ク（２２）と前記露光試料（２３）とを、所定のギャップ（Ｇ）を有するような高
さ位置と、前記面方向において位置合わせがなされるよ
うな前記面方向の位置とに位置決めする重ね合わせ工程
とよりなることを特徴とする露光方法。（２）マスク（２２）と露光試料（２３）とをギャップ
（Ｇ）を介して重ね合わせて設け、荷電ビーム（２５）
を該マスク（２２）を通して該露光試料（２３）に照射
する光源（２４）を設けた露光装置において、装置本体に固定され、マスクステージ（２８）に支持さ
れた前記マスク（２２）と、試料ステージ（３４）に支
持された前記露光試料（２３）に対して前記光源（２４
）の光軸方向及び該光軸に対し垂直な面方向における装
置本体との位置関係を夫々測定する位置測定手段（４３
）と、前記マスクステージ（２８）と前記試料ステージ（３４
）の少なくともいずれかに設けられ、前記マスク（２２
）と前記露光試料（２３）との間の前記光軸方向の位置
関係を調整するＺ値補正手段（２６、２７、３５、３６
）と、前記マスクステージ（２８）と前記試料ステージ（３４
）の少なくともいずれかに設けられ、前記マスク（２２
）と前記露光試料（２３）との間の前記光軸を軸とした
回転方向の位置関係を調整する回転補正手段（３１、３
７）と、前記マスクステージ（２８）と前記試料ステージ（３４
）の少なくともいずれかに設けられ、前記マスク（２２
）と前記露光試料（２３）との間の、前記面方向におけ
る位置関係を調整するパターン位置補正手段（２９、３
８）と、前記位置測定手段（４３）によって測定された測定デー
タを記憶して処理し、前記マスク（２２）と前記露光試
料（２３）とを、所定のギャップ（Ｇ）を有し且つ前記
面方向の位置合わせがなされる位置に位置決めするよう
に、前記Ｚ値補正手段（２６、２７、３５、３６）と、
前記回転補正手段（３１、３７）と、前記パターン位置
補正手段（２９、３８）とに、夫々独立させて駆動させ
る補正信号を出力する制御手段（５０）とを具備してな
る構成としたことを特徴とする露光装置。（３）前記位置測定手段（４３）を露光が行われる露光
位置とは異なる場所に設け、前記位置測定手段（４３）が測定しうる場所と前記露光
位置との間を、前記マスクステージ（２８）と前記試料
ステージ（３４）とを夫々移動させる移動手段（２９、
３８）を更に有する構成であることを特徴とする請求項
２記載の露光装置。