JP2003076029A - 露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 移動ベースの移動中においてガイドにうねり
などが生じても、パターン形成用のマスクと露光対象基
板とのギャップや重ね合わせにズレが生じないようにす
る。 【解決手段】 パターン形成用のマスクＭと露光対象基
板Ｐとを露光光Ｌに対して走査することによって露光処
理を行う露光装置において、マスクを複数の支柱を介し
て保持するマスクホルダ１と、露光対象基板を保持し、
該露光対象基板と該マスクとの間に所定のギャップを形
成すると共に該露光対象基板と該マスクとの位置合わせ
を行うアライメントステージ２とを搭載する移動ベース
３と、前記マスクと前記露光対象基板とを露光光に対し
て走査するように前記移動ベースを案内する一対のガイ
ド６ａ，６ｂとを備える。前記一対のガイドには当該一
対のガイドの長手方向の異なる３箇所で前記移動ベース
が支持部材７ａ〜７ｃによって移動自在に支持される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、液晶ディスプレ
イやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプ
レイの製造工程において露光対象基板であるガラス基板
やカラーフィルタ等の面上にパターンを形成する露光装
置に係り、特に、フォトマスクと露光対象基板とを露光
光に対して走査することによって当該露光対象基板の面
上にパターンを形成するスキャンタイプの露光装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイ（ＬＣＤ：Liqud Crys
tal Display ）は、ＣＲＴ（CathodeRay Tube）に比べ
て薄型化、軽量化が可能であるため、ＣＴＶ（Color Te
levision）やＯＡ機器等のディスプレイ装置として採用
され、画面サイズも１０型以上の大型化が図られ、より
一層の高精細化及びカラー化が押し進められている。

【０００３】液晶ディスプレイは、フォトリソグラフィ
技術によりガラス基板の表面に微細なパターンを描画し
て作られる。露光装置は、フォトマスクの微細パターン
をガラス基板上に投影・転写するものである。露光装置
としては、マスクパターンをレンズまたはミラーを用い
てガラス基板上に投影するプロジェクション方式と、フ
ォトマスクとガラス基板との間に微小なギャップを設け
てマスクパターンをガラス基板上に転写するプロキシミ
ティ方式とがある。プロキシミティ方式の露光装置は、
プロジェクション方式に比べてパターン解像性能が劣る
ものの、照射光学系が非常にシンプルであり、スループ
ットが高く、装置コストから見たコストパフォーマンス
も優れており、生産性の高い量産用装置に適したもので
ある。

【０００４】プロキシミティ方式の露光装置では、フォ
トマスクとガラス基板との間隔を所定の微小ギャップ
（セパレーションギャップ）に設定するようにガラス基
板の位置決め制御いわゆるプロキシミティギャップ制御
が行われる。プロキシミティギャップ制御では、ギャッ
プが高精度に設定されない場合、露光ぼけなどが生じる
ので、ギャップの高精度化がマスクパターン転写時の微
細条件を決定する重要な要因となる。また、プロキシミ
ティ方式の露光装置では、フォトマスクとガラス基板と
を高精度に重ね合わせるアライメント制御が行われる。
通常、ガラス基板面上にマスクパターンを転写する露光
工程では、フォトマスクを複数枚用いてガラス基板に所
定のマスクパターンを順次転写するため、アライメント
制御によるフォトマスクとガラス基板との重ね合わせ精
度が露光性能の重要な位置を占めることになる。

【０００５】近年、液晶ディスプレイのサイズがますま
す大版化する傾向にある。液晶ディスプレイのサイズが
大版化するに伴い、ガラス基板のサイズが大版化し、こ
れに伴いフォトマスクのサイズも大版化される。そこ
で、大版のフォトマスクを用いて大版のガラス基板にマ
スクパターンを転写する露光装置として、フォトマスク
とガラス基板とをプロキシミティギャップ制御及びアラ
イメント制御を完了した状態に保持し、該フォトマスク
とガラス基板とを露光光に対して走査することによっ
て、マスクパターンをガラス基板面上に露光するスキャ
ンタイプの露光装置が採用されるようになってきた。

【０００６】図３に、従来のスキャンタイプの露光装置
の一例を示す。図３（ａ）において、フォトマスクＭ
は、移動ベース２１上に複数の支柱（図示例では、４つ
の支柱）２２ａ〜２２ｄを介して配置されたマスクホル
ダ２３によってほぼ水平に吸着保持される。各支柱２２
ａ〜２２ｄは、移動ベース２１の上面に平行に立設さ
れ、マスクホルダ２３の四隅を支持する。一方、ガラス
基板Ｐは、移動ベース２１上に設けられたアライメント
ステージ２４の露光チャック２４ａ上にほぼ水平に吸着
保持される。アライメントステージ２４は、ガラス基板
Ｐを吸着保持する露光チャック２４ａと、プロキシミテ
ィギャップ制御用のＺ軸テーブル２４ｂと、アライメン
ト用のＸＹθテーブル２４ｃなどを含んで構成される。
移動ベース２１は、図３（ａ）〜（ｃ）に示されるよう
に、床Ｆに設置された装置基台２５上の一対の平行なガ
イドレール２６ａ及び２６ｂのそれぞれに複数の支持ブ
ロック（図示例では、各ガイドレール２６ａ，２６ｂに
対して３つの支持ブロック）２７ａ〜２７ｃ，２７ｄ〜
２７ｆを介して移動自在に載置されている。

【０００７】上記のスキャン露光装置では、図３（ａ）
に示されるように、移動ベース２１を露光光Ｌの照射位
置から退避させ、その退避位置でアライメントステージ
２４によってフォトマスクＭとガラス基板Ｐとのプロキ
シミティギャップ制御やアライメント制御などが行われ
る。すなわち、Ｚ軸テーブル２４ｂによって露光チャッ
ク２４ａを上昇させることにより、ガラス基板Ｐとフォ
トマスクＭとの間に所定のプロキシミティギャップを設
定する。また、ＸＹθテーブル２４ｃによって露光チャ
ック２４ａをＸＹθ方向にそれぞれ位置決めすることに
より、ガラス基板ＰとフォトマスクＭとを高精度に重ね
合わせる。そして、プロキシミティギャップ制御やアラ
イメント制御などが完了した後に、移動ベース２１を所
定の駆動機構（図示せず）によって露光光Ｌの照射位置
に向けて移動（矢印Ｑ方向へ移動）し、フォトマスクＭ
とガラス基板Ｐとを光源（図示せず）から照射される露
光光Ｌに対して移動することによって、該露光光Ｌの照
射位置でフォトマスクＭのマスクパターンをガラス基板
面上に転写する。ガラス基板Ｐへのマスクパターンの転
写が完了すると、光源による露光光Ｌの照射を停止し、
移動ベース２１を駆動機構によってマスクパターンの転
写完了位置から矢印Ｒ方向へ移動して退避位置まで戻
す。又、移動ベース２１をＲ方向へ移動する際にも露光
光Ｌを照射すれば２倍の露光量を得ることができるの
で、スループットの向上を図れる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上記のスキャンタイプ
の露光装置においては、マスクホルダ２３やアライメン
トステージ２４の他に、大版のフォトマスクＭ及びガラ
ス基板Ｐなどが移動ベース２１に搭載されることから、
該移動ベース２１の重量は数トンにも及ぶ。このため、
移動ベース２１が露光光Ｌの照射位置に向けて移動する
移動中に、床Ｆの沈み込みなどに起因して、装置基台２
５の各ガイドレール２６ａ，２６ｂに、例えば、図２
（ａ）において一点鎖線で示されるようなうねり（或い
は、撓み）２６ａ’２６ｂ’が生ずる。このうねり２６
ａ’２６ｂ’は、移動ベース２１の移動方向において、
移動ベース２１のほぼ中央に配置された２つの支持ブロ
ック２７ｂ及び２７ｅ部分で最大となり、該移動ベース
２１の両端部に配置された４つの支持ブロック２７ａ，
２７ｃ及び２７ｄ，２７ｆ部分に近くなるに従って徐々
に小さくなる。このように、各ガイドレール２６ａ，２
６ｂにうねり２６ａ’２６ｂ’が生じると、支持ブロッ
ク２７ａ〜２７ｃ，２７ｄ〜２７ｆは、移動ベース２１
の移動中に、各ガイドレール２６ａ，２６ｂのうねり量
に応じた量だけ変位する。これによって、移動ベース２
１は、それぞれの支持ブロック２７ａ〜２７ｃ，２７ｄ
〜２７ｆを通じて各ガイドレール２６ａ，２６ｂのうね
り量を受けることになるから、支柱２２ａ〜２２ｄ側の
面状態（平坦度）が各支持ブロック２７ａ〜２７ｃ，２
７ｄ〜２７ｆの変位量に応じて変化することとなる。そ
の結果、各支柱２２ａ〜２２ｄが変位して、当該各支柱
２２ａ〜２２ｄによるマスクホルダ２３の支持バランス
が崩れ、フォトマスクＭとガラス基板Ｐとのギャップや
重ね合わせにズレが生じるという問題があった。

【０００９】そこで、上述の問題を解消するため、マス
クホルダの上方にセンサを配置し、該センサによって移
動ベースの移動中におけるフォトマスクとガラス基板と
のギャップやアライメントのズレ量を検出し、その検出
結果に基づきＺ軸テーブルやＸＹθテーブルを制御しな
がら露光処理を行うことが考えられる。この場合、マス
クホルダの上方に配置したセンサが露光光の影になって
露光処理の障害となるという問題が生ずる。また、一対
のガイドレールのうねりなどを防止するため、装置基台
の剛性を高めることによって、各支持ブロックに対する
ガイドレールの面精度をアップすることが考えられる
が、この場合、装置自体の重量が更に増大するという問
題が生ずる。

【００１０】本発明は、上述の点に鑑みて為されたもの
で、移動ベースの移動中においてガイドにうねりなどが
生じても、パターン形成用のマスクと露光対象基板との
ギャップや重ね合わせにズレが生じないようにした露光
装置を提供しようとするものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明に係る露光装置
は、パターン形成用のマスクと露光対象基板とを露光光
に対して走査することによって露光処理を行う露光装置
において、マスクを複数の支柱を介して保持するマスク
ホルダと、露光対象基板を保持し、該露光対象基板と該
マスクとの間に所定のギャップを形成すると共に該露光
対象基板と該マスクとの位置合わせを行うアライメント
ステージとを搭載する移動ベースと、前記マスクと前記
露光対象基板とを露光光に対して走査するように前記移
動ベースを案内する一対のガイドと、前記一対のガイド
に前記移動ベースを当該一対のガイドの長手方向の異な
る３箇所で移動自在に支持する支持部材とを具えたもの
である。これによれば、移動ベースが一対のガイドに当
該ガイドの長手方向の異なる３箇所で支持部材によって
移動自在に支持されるので、移動ベースの移動中に一対
のガイドにうねりが生じても、移動ベースは、１箇所の
支持部材と残りの２箇所の支持部材とのうねり量の差分
量だけ傾くことになることから、支柱側の面状態（平坦
度）が一対のガイドのうねりに応じて変化することがな
い。これによって、各支柱の変位が防止されるので、当
該各支柱によるマスクホルダの支持バランスが安定し、
マスクと露光対象基板とのギャップや重ね合わせにズレ
が生じるようなことがなくなる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る露光装置の一
実施の形態を添付図面に従って説明する。図１は、本実
施の形態に係る露光装置の概略構成を示し、（ａ）は露
光装置の概略構成図、（ｂ）は（ａ）に示される露光装
置の移動ベース３と装置基台４上のガイドレール６ａ〜
６ｃとの配置態様を示す図、（ｃ）は（ａ）に示される
露光装置の移動ベース３と装置基台４上のガイドレール
６ａ〜６ｃとの結合態様を示す図である。本実施の形態
に係る露光装置は、図１に示されるように、フォトマス
クＭとガラス基板Ｐとを露光光Ｌに対して走査すること
によって露光処理を行うスキャンタイプの装置である。
図１において、露光装置は、マスクホルダ１と、アライ
メントステージ２と、該マスクホルダ１及びアライメン
トステージ２などを搭載する移動ベース３と、該移動ベ
ース３を移動自在に載置する装置基台４と、該装置基台
４に対して移動ベース３を移動させるための任意の駆動
機構（図示せず）と、露光光照射用の光源（図示せず）
などを含んで構成される。アライメントステージ２や駆
動機構などは、ＭＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭなどを含むマイ
クロコンピュータから構成されてなる制御部（図示せ
ず）によって駆動制御される。マスクホルダ１は、露光
光導入用の空間部１ａを中央に有する枠形形状に形成さ
れてなり、移動ベース３の上面に平行に立設された複数
の支柱（図示例では、４本）５ａ〜５ｄによって四隅が
支持されている。このマスクホルダ１は、空間部１ａの
外周部分でフォトマスクＭをほぼ水平に吸着保持する。
アライメントステージ２は、マスクホルダ１と対向する
位置で移動ベース３上に配置されている。このアライメ
ントステージ２は、ガラス基板Ｐを吸着保持する露光チ
ャック２ａと、プロキシミティギャップ制御用のＺ軸テ
ーブル２ｂと、アライメント制御用のＸＹθテーブル２
ｃなどを含んで構成される。露光チャック２ａは、基板
搬入ユニット（図示せず）から搬入されるガラス基板Ｐ
をほぼ水平に吸着保持する。移動ベース３は、床Ｆに設
置固定された装置基台４上に平行に設けられた一対のガ
イドレール６ａ及び６ｂに面接触するように形成されて
なる３つの支持ブロック７ａ〜７ｃを介して移動自在に
支持されている。すなわち、移動ベース３は、図１
（ｂ）に示されるように、その長手方向において、ほぼ
中央に設けられた１つの支持ブロック７ａによって一方
のガイドレール６ａに摺動自在に支持され、両端部近傍
に設けられた２つの支持ブロック７ｂ及び７ｃによって
他方のガイドレール６ｂに摺動自在に支持されている。

【００１３】本例に示される露光装置では、図１（ａ）
に示されるように、移動ベース３を露光光Ｌの照射位置
から退避させ、その退避位置でアライメントステージ２
によってフォトマスクＭとガラス基板Ｐとのプリアライ
メント制御、プロキシミティギャップ制御及びアライメ
ント制御などが行われる。プリアライメント制御では、
例えば、エッジ検出センサ（図示せず）を用いてガラス
基板Ｐのエッジを非接触で検出し、その検出位置に基づ
き制御部によってガラス基板Ｐの搬入ずれを求め、その
搬入ずれに基づいて該制御部がＸＹθテーブル２ｃをＸ
Ｙθ方向に駆動することによって、該搬入ずれを補正す
る。また、プロキシミティギャップ制御では、例えば、
４つのギャップ検出センサ（図示せず）によりフォトマ
スクＭとガラス基板Ｐとの間のギャップ量を検出し、そ
のギャップ量に応じて制御部がＺ軸テーブル２ｂを駆動
して露光チャック２ａを上昇させることにより、フォト
マスクＭとガラス基板Ｐとの間に所定のプロキシミティ
ギャップを設定する。また、アライメント制御では、例
えば、フォトマスクＭ及びガラス基板Ｐの所定の位置に
設けられたアライメントマークをＣＣＤなどを用いて検
出し、その検出結果からアライメントマークのずれ量を
求め、そのずれ量に基づき制御部がＸＹθテーブル２ｃ
をＸＹθ方向に駆動することによって、該ずれ量を補正
してフォトマスクＭとガラス基板Ｐとを高精度に重ね合
わせる。

【００１４】上述のような、プリアライメント制御、プ
ロキシミティギャップ制御及びアライメント制御などが
完了した後に、移動ベース３は駆動機構によって露光光
Ｌの照射位置に向けて移動（矢印Ｐ方向へ移動）され
る。移動ベース３の移動中において、床Ｆの沈み込みな
どに起因して、装置基台４の一対のガイドレール６ａ及
び６ｂに、例えば、一点鎖線で示されるようなうねり
（或いは、撓み）すなわち移動ベース３のほぼ中央の支
持ブロック７ａ部分で最大となり、移動ベース３の両端
部の２つ支持ブロック７ｂ，７ｃ部分に近くなるに従っ
て徐々に小さくなるうねり（或いは、撓み）６ａ’，６
ｂ’が生じた場合、各支持ブロック７ａ〜７ｃは、各ガ
イドレール６ａ，６ｂのうねり量に応じた量だけ変位す
る。このとき、３つの支持ブロック７ａ〜７ｃのうち、
１つの支持ブロック７ａは移動ベース３をそのほぼ中央
で一方のガイドレール６ａに摺動自在に支持し、残りの
２つの支持ブロック７ｂ及び７ｃは移動ベース３をその
両端部で他方のガイドレール６ｂに摺動自在に支持する
ので、該移動ベース３をほぼ中央で支持する１つの支持
ブロック７ａの変位量が最も大きくなるが、該移動ベー
ス３を両端部で支持する残りの２つの支持ブロック７ｂ
及び７ｃの変位量は該１つの支持ブロック７ａの変位量
よりも小さくなる。従って、移動ベース３は、移動中に
おいて、図１（ｃ）に一点鎖線で示されるように、１つ
の支持ブロック７ａの変位量と、残りの２つの支持ブロ
ック７ｂ及び７ｃの変位量との差分量だけ、該１つの摺
動ブロック７ａ側に傾くことから、移動ベース３の上面
の面状態（平坦度）が各ガイドレール６ａ，６ｂのうね
り６ａ’，６ｂ’に応じて変化することがない。これに
よって、各支柱５ａ〜５ｄの変位を防止できるので、当
該各支柱５ａ〜５ｄによるマスクホルダ１の支持バラン
スが安定し、フォトマスクＭとガラス基板Ｐとのギャッ
プや重ね合わせにズレが生じるようなことがなくなる。

【００１５】上記の移動ベース３は、図１（ａ）におい
て、一点鎖線で示される位置から更に露光光Ｌの照射位
置に向けて移動される。これにより、フォトマスクＭと
ガラス基板Ｐとが露光光Ｌに対して走査され、該露光光
Ｌがその照射位置でマスクホルダ１の空間部１ａからフ
ォトマスクＭを照射することによって、当該フォトマス
クＭのマスクパターンをガラス基板面上に転写する露光
処理が行われる。この際に、フォトマスクＭとガラス基
板Ｐとのギャップや重ね合わせにズレが生じていないの
で、マスクパターンをガラス基板面上に高精度に転写す
ることができる。ガラス基板Ｐへのマスクパターンの転
写が完了すると、光源による露光光Ｌの照射を停止し、
移動ベース３を駆動機構によってマスクパターンの転写
完了位置から矢印Ｒ方向へ移動して退避位置まで戻す。

【００１６】上述の実施例に示される露光装置では、装
置基台４上のガイドレール６ａ，６ｂに面接触する３つ
の摺動ブロック７ａ〜７ｃを用いて移動ベース３を移動
自在に支持したが、追って説明する鋼球を具備してなる
３つの支持ブロック８ａ〜８ｃを用いてガイドレール６
ａ，６ｂに移動ベース３を移動自在に支持するようにし
てもよい。図２に、鋼球を具備してなる３つの支持ブロ
ック８ａ〜８ｃを一例を示す。図２において、（ａ）
は、移動ベース３をそのほぼ中央でガイドレール６ａに
支持する支持ブロック８ａの概略構成図、（ｂ）は、移
動ベース３をその一端でガイドレール６ｂに支持する支
持ブロック８ｂの概略構成図、（ｃ）は、移動ベース３
をその他端でガイドレール６ｂに支持する支持ブロック
８ｃの概略構成図である。

【００１７】図２（ａ）において、支持ブロック８ａ
は、移動ベース３の下面に固着された鋼球保持用の保持
部材８ａ１と、ガイドレール６ａの上面に摺動自在に配
置された鋼球保持用の保持部材８ａ２と、該各保持部材
８ａ１，８ａ２間に介在された鋼球８ａ３などを有す
る。鋼球８ａ３は、ガイドレール６ａ側の保持部材８ａ
２に設けられたほぼ半球状の凹部８ａ１’と、移動ベー
ス３側の保持部材８ａ２の平坦面８ａ２’とで点接触状
態に保持される。図２（ｂ）において、支持ブロック８
ｂは、移動ベース３の下面に固着された鋼球保持用の保
持部材８ｂ１と、ガイドレール６ｂの上面に摺動自在に
配置された鋼球保持用の保持部材８ｂ２と、該各保持部
材８ｂ１，８ｂ２間に介在された鋼球８ｂ３などを有す
る。鋼球８ｂ３は、ガイドレール６ａ側の保持部材８ｂ
２に設けられたほぼ半球状の凹部８ｂ１’と、移動ベー
ス３側の保持部材８ｂ２の平坦面８ｂ２’とで点接触状
態に保持される。図２（ｃ）において、支持ブロック８
ｃは、移動ベース３の下面に固着された鋼球保持用の保
持部材８ｃ１と、ガイドレール６ｂの上面に摺動自在に
配置された鋼球保持用の保持部材８ｃ２と、該各保持部
材８ｃ１，８ｃ２間に介在された鋼球８ｃ３などを有す
る。鋼球８ｃ３は、ガイドレール６ｂ側の保持部材８ｃ
２に設けられたほぼ半球状の凹部８ｃ２’と、移動ベー
ス３側の保持部材８ｃ１に設けられたほぼＶ字形状の溝
８ｃ１’とで点接触状態に保持される。Ｖ字形状の溝８
ｃ１’は、ガイドレール６ｂの長手方向に延びている。
これによって、一対のガイドレール６ａ及び６ｂにうね
り６ａ’，６ｂ’が生じた場合に、該各ガイドレール６
ａ，６ｂのうねり６ａ’，６ｂ’に追従して鋼球８ｃ３
をガイドレール６ｂの長手方向へ移動できるようしてい
る。勿論、各鋼球８ｃ１〜８ｃ３は、その中心が床Ｆか
ら同一高さとなるようにガイドレール６ａ，６ｂ側の保
持部材８ａ２〜８ｃ２に保持されている。なお、図２
（ａ）〜（ｃ）に示される支持ブロック８ａ〜８ｃは、
移動ベース３において、上記の支持位置に限られるもの
でなく、任意の支持位置に適宜適用してよい。

【００１８】このように、装置基台４上の一対のガイド
レール６ａ及び６ｂに移動ベース３を３つの支持ブロッ
ク８ａ〜８ｃの鋼球８ａ３〜８ｃ３によって点接触で支
持するようにすれば、上述した支持ブロック７ａ〜７ｃ
の場合に比べて各ガイドレール６ａ，６ｂに対する接触
面積を小さくすることができるので、各ガイドレール６
ａ，６ｂのうねり６ａ’，６ｂ’による支持ブロック８
ａ〜８ｃの変位量を更に小さくすることができる。これ
によって、各ガイドレール６ａ，６ｂのうねり６ａ’，
６ｂ’による移動ベース３の傾き量が更に小さくなり、
各支柱５ａ〜５ｄによるマスクホルダ１の支持バランス
がより安定する。

【００１９】

【発明の効果】以上、説明したように、本発明に係る露
光装置によれば、移動ベースを一対のガイドに当該ガイ
ドの長手方向の異なる３箇所で支持部材によって移動自
在に支持するようにしたので、移動ベースの移動中にお
いてガイドにうねりなどが生じても、各支柱が変位する
ことがないので、当該各支柱によるマスクホルダの支持
バランスが安定し、よって、マスクと露光対象基板との
ギャップや重ね合わせにズレが生じるようなことを防止
できる、という優れた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明に係る露光装置の一実施例の概略構成
を示し、（ａ）は露光装置の概略構成図、（ｂ）は
（ａ）に示される露光装置の移動ベースとガイドレール
との配置態様図、（ｃ）は（ａ）に示される露光装置の
移動ベースとガイドレールとの結合態様図。

【図２】 ガイドレールと移動ベースとを点接触で支持
する支持ブロックの一例を示す概略構成図。

【図３】 従来の露光装置の概略構成を示し、（ａ）は
露光装置の概略構成図、（ｂ）は（ａ）に示される露光
装置の移動ベースとガイドレールとの配置態様図、
（ｃ）は（ａ）に示される露光装置の移動ベースとガイ
ドレールとの結合態様図。

【符号の説明】

１ マスクホルダ ２ アライメントステージ ３ 移動ベース ４ 装置基台 ５ａ〜５ｄ 支柱 ６ａ，６ｂ ガイドレール ７ａ〜７ｃ 支持ブロック ８ａ〜８ｃ 支持ブロック ８ａ３〜８ｃ３ 鋼球 Ｌ 露光光 Ｍ フォトマスク Ｐ ガラス基板

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Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 パターン形成用のマスクと露光対象基板
   とを露光光に対して走査することによって露光処理を行
   う露光装置において、 マスクを複数の支柱を介して保持するマスクホルダと、
   露光対象基板を保持し、該露光対象基板と該マスクとの
   間に所定のギャップを形成すると共に該露光対象基板と
   該マスクとの位置合わせを行うアライメントステージと
   を搭載する移動ベースと、 前記マスクと前記露光対象基板とを露光光に対して走査
   するように前記移動ベースを案内する一対のガイドと、 前記一対のガイドに前記移動ベースを当該一対のガイド
   の長手方向の異なる３箇所で移動自在に支持する支持部
   材とを具えた露光装置。
2. 【請求項２】 前記支持部材は、前記一対のガイドに前
   記移動ベースを面接触するブロックからなる請求項１に
   記載の露光装置。
3. 【請求項３】 前記支持部材は、前記一対のガイドに前
   記移動ベースを点接触する鋼球を具備する請求項１に記
   載の露光装置。