JPH04243989A - 耐酸化性炭素繊維強化炭素材 - Google Patents
耐酸化性炭素繊維強化炭素材Info
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- JPH04243989A JPH04243989A JP3025643A JP2564391A JPH04243989A JP H04243989 A JPH04243989 A JP H04243989A JP 3025643 A JP3025643 A JP 3025643A JP 2564391 A JP2564391 A JP 2564391A JP H04243989 A JPH04243989 A JP H04243989A
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- 230000003647 oxidation Effects 0.000 title claims abstract description 29
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 title claims abstract description 10
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 title abstract description 7
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 title abstract description 7
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 27
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 26
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 52
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 38
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 4
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 4
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- DWAWYEUJUWLESO-UHFFFAOYSA-N trichloromethylsilane Chemical compound [SiH3]C(Cl)(Cl)Cl DWAWYEUJUWLESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 229910007277 Si3 N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000002964 rayon Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012783 reinforcing fiber Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011863 silicon-based powder Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N trichlorosilicon Chemical compound Cl[Si](Cl)Cl PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Ceramic Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高温酸化雰囲気下にお
いて高度の酸化抵抗性を示す組織の炭素繊維強化炭素材
（以下「Ｃ／Ｃ材」という。）に関する。
いて高度の酸化抵抗性を示す組織の炭素繊維強化炭素材
（以下「Ｃ／Ｃ材」という。）に関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｃ／Ｃ材は、卓越した比強度、比弾性率
を有するうえに優れた耐熱性および化学的安定性を備え
ているため、航空宇宙用をはじめ多くの分野で構造材料
として有用されているが、この材料には易酸化性という
炭素材固有の材質的な欠点があり、これが汎用性を阻害
する最大のネックとなっている。このため、Ｃ／Ｃ材の
表面に耐酸化性の被覆を施して改質化する試みが従来か
らおこなわれており、例えばＺｒＯ２ 、Ａｌ２ Ｏ３
、ＳｉＣ、Ｓｉ３ Ｎ４ 等のセラミックス系物質に
よって被覆処理する方法が提案されている。しかし、Ｓ
ｉＣ被覆層を除いては、使用時の熱サイクルで被覆界面
に層間剥離や亀裂が生じ、酸化の進行を十分に阻止する
機能が発揮されない。
を有するうえに優れた耐熱性および化学的安定性を備え
ているため、航空宇宙用をはじめ多くの分野で構造材料
として有用されているが、この材料には易酸化性という
炭素材固有の材質的な欠点があり、これが汎用性を阻害
する最大のネックとなっている。このため、Ｃ／Ｃ材の
表面に耐酸化性の被覆を施して改質化する試みが従来か
らおこなわれており、例えばＺｒＯ２ 、Ａｌ２ Ｏ３
、ＳｉＣ、Ｓｉ３ Ｎ４ 等のセラミックス系物質に
よって被覆処理する方法が提案されている。しかし、Ｓ
ｉＣ被覆層を除いては、使用時の熱サイクルで被覆界面
に層間剥離や亀裂が生じ、酸化の進行を十分に阻止する
機能が発揮されない。
【０００３】従来、Ｃ／Ｃ基材の表面にＳｉＣの被覆を
施す方法として、気相反応により生成するＳｉＣを直接
沈着させるＣＶＤ法（化学的気相蒸着法）と、基材の炭
素を反応源に利用して珪素成分と反応させることにより
ＳｉＣに転化させるコンバージョン法が知られている。 ところが、前者のＣＶＤ法を適用して形成したＳｉＣ被
覆層は、基材との界面が明確に分離している関係で、熱
衝撃を与えると相互の熱膨張差によって層間剥離現象が
起こり易い。このため、高温域での十分な耐酸化性は望
めない。これに対し、後者のコンバージョン法による場
合には基材の表層部が連続組織としてＳｉＣ層を形成す
る傾斜機能材質となるため界面剥離を生じることはない
が、ＣＶＤ法に比べて緻密性に劣るうえ、反応時、被覆
層に微小なクラックが発生する問題がある。
施す方法として、気相反応により生成するＳｉＣを直接
沈着させるＣＶＤ法（化学的気相蒸着法）と、基材の炭
素を反応源に利用して珪素成分と反応させることにより
ＳｉＣに転化させるコンバージョン法が知られている。 ところが、前者のＣＶＤ法を適用して形成したＳｉＣ被
覆層は、基材との界面が明確に分離している関係で、熱
衝撃を与えると相互の熱膨張差によって層間剥離現象が
起こり易い。このため、高温域での十分な耐酸化性は望
めない。これに対し、後者のコンバージョン法による場
合には基材の表層部が連続組織としてＳｉＣ層を形成す
る傾斜機能材質となるため界面剥離を生じることはない
が、ＣＶＤ法に比べて緻密性に劣るうえ、反応時、被覆
層に微小なクラックが発生する問題がある。
【０００４】このような問題点の解消を図るため、本発
明者らは既にＣ／Ｃ基材面にＳｉＯ接触によるコンバー
ジョン法で第１のＳｉＣ被膜を形成し、さらにその表面
をアモルファスＳｉＣが析出するような条件でＣＶＤ法
による第２のＳｉＣ被覆層を形成する耐酸化処理法（特
願平２−１１４８７２号） 、更にこれを改良して第２
の被覆層を減圧加熱下でハロゲン化有機珪素化合物を基
材組織に間欠的に充填して還元熱分解させるパルスＣＶ
Ｉ法を用いて形成する耐酸化処理法（特願平２−１５０
６４０号） を開発した。
明者らは既にＣ／Ｃ基材面にＳｉＯ接触によるコンバー
ジョン法で第１のＳｉＣ被膜を形成し、さらにその表面
をアモルファスＳｉＣが析出するような条件でＣＶＤ法
による第２のＳｉＣ被覆層を形成する耐酸化処理法（特
願平２−１１４８７２号） 、更にこれを改良して第２
の被覆層を減圧加熱下でハロゲン化有機珪素化合物を基
材組織に間欠的に充填して還元熱分解させるパルスＣＶ
Ｉ法を用いて形成する耐酸化処理法（特願平２−１５０
６４０号） を開発した。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】前記の耐酸化処理法の
うち、特に後者の方法を施すと各パルス毎に飽和度の高
い反応ガスが基材の任意部位へ侵入するため、第１層に
発生した微細クラックの内部にアモルファス質または微
細多結晶質のＳｉＣを円滑に析出することができ、よっ
てＣ／Ｃ材の耐酸化性を大幅に向上させることができる
。しかしながら、詳細に組織調査をおこなうと第１被覆
層面に析出させた第２被覆層のＳｉＣにも微小な亀裂が
発生しており、完全な耐酸化性を付与するためにはこの
亀裂を目詰めした組織とする必要が認められた。
うち、特に後者の方法を施すと各パルス毎に飽和度の高
い反応ガスが基材の任意部位へ侵入するため、第１層に
発生した微細クラックの内部にアモルファス質または微
細多結晶質のＳｉＣを円滑に析出することができ、よっ
てＣ／Ｃ材の耐酸化性を大幅に向上させることができる
。しかしながら、詳細に組織調査をおこなうと第１被覆
層面に析出させた第２被覆層のＳｉＣにも微小な亀裂が
発生しており、完全な耐酸化性を付与するためにはこの
亀裂を目詰めした組織とする必要が認められた。
【０００６】したがって、本発明の目的は、先行技術を
更に改良を加えて一層高度な耐酸化性を具備した被覆組
織性状のＣ／Ｃ材を提供することにある。
更に改良を加えて一層高度な耐酸化性を具備した被覆組
織性状のＣ／Ｃ材を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの本発明による耐酸化性Ｃ／Ｃ材は、炭素繊維強化炭
素材の基材面に、傾斜機能を有する多結晶質のＳｉＣ被
膜からなる第１被覆層、アモルファス質または微細多結
晶質のＳｉＣ被膜からなる第２被覆層、およびＢ２ Ｏ
３ −ＳｉＯ２ ガラス被膜からなる第３被覆層が積層
形成されてなることを構成上の特徴としている。
めの本発明による耐酸化性Ｃ／Ｃ材は、炭素繊維強化炭
素材の基材面に、傾斜機能を有する多結晶質のＳｉＣ被
膜からなる第１被覆層、アモルファス質または微細多結
晶質のＳｉＣ被膜からなる第２被覆層、およびＢ２ Ｏ
３ −ＳｉＯ２ ガラス被膜からなる第３被覆層が積層
形成されてなることを構成上の特徴としている。
【０００８】基材となるＣ／Ｃは、炭素繊維の織布、フ
エルト、トウなどの強化繊維に炭化残留率の高いマトリ
ックス樹脂液を含浸または塗布して積層成形したのち、
硬化および焼成炭化処理する常用の方法で製造されたも
のが使用され、特に材料の限定はない。したがって、通
常、強化材の炭素繊維にはポリアクリロニトリル系、レ
ーヨン系、ピッチ系など各種のものが、またマトリック
ス樹脂としてフェノール系、フラン系その他炭化性の良
好な液状熱硬化性樹脂を用いたものが対象となる。
エルト、トウなどの強化繊維に炭化残留率の高いマトリ
ックス樹脂液を含浸または塗布して積層成形したのち、
硬化および焼成炭化処理する常用の方法で製造されたも
のが使用され、特に材料の限定はない。したがって、通
常、強化材の炭素繊維にはポリアクリロニトリル系、レ
ーヨン系、ピッチ系など各種のものが、またマトリック
ス樹脂としてフェノール系、フラン系その他炭化性の良
好な液状熱硬化性樹脂を用いたものが対象となる。
【０００９】第１被覆層は、Ｃ／Ｃ基材の表層部が外面
に向かうに従って次第にＳｉＣの組織化が進む傾斜機能
性状の多結晶質ＳｉＣ被膜で、適切な膜厚は １００〜
３００ μｍ の範囲である。膜厚が １００μｍ 未
満では良好な傾斜機能組織が形成されず、３００ μｍ
を越える層形成は最早不要である。
に向かうに従って次第にＳｉＣの組織化が進む傾斜機能
性状の多結晶質ＳｉＣ被膜で、適切な膜厚は １００〜
３００ μｍ の範囲である。膜厚が １００μｍ 未
満では良好な傾斜機能組織が形成されず、３００ μｍ
を越える層形成は最早不要である。
【００１０】第２被覆層は、第１被覆層におけるＳｉＣ
組織の微細なクラックや空隙を充填封止するためのアモ
ルファス質または微細多結晶質のＳｉＣ被膜で、好適な
膜厚は１０〜５０μｍ の範囲である。１０μｍ を下
廻る膜厚では前記の充填封止効果が不十分となり、５０
μｍ を越える膜厚は不要となる。
組織の微細なクラックや空隙を充填封止するためのアモ
ルファス質または微細多結晶質のＳｉＣ被膜で、好適な
膜厚は１０〜５０μｍ の範囲である。１０μｍ を下
廻る膜厚では前記の充填封止効果が不十分となり、５０
μｍ を越える膜厚は不要となる。
【００１１】第３被覆層は、第２被覆層の生じる微小な
亀裂を目詰めするために形成されるもので、Ｂ２ Ｏ３
とＳｉＯ２ の複合ガラス質の被膜で構成される。好
適な膜厚は５〜２０μｍ の範囲で、これを下廻ると耐
酸化性改善効果が有効に達成されず、２０μｍ を越え
る膜厚は不要である。
亀裂を目詰めするために形成されるもので、Ｂ２ Ｏ３
とＳｉＯ２ の複合ガラス質の被膜で構成される。好
適な膜厚は５〜２０μｍ の範囲で、これを下廻ると耐
酸化性改善効果が有効に達成されず、２０μｍ を越え
る膜厚は不要である。
【００１２】上記の積層構成を備える耐酸化性Ｃ／Ｃ材
は、下記にようにして製造することができる。第１被覆
層は、ＳｉＯ２ 粉末とＳｉもしくはＣ粉末を混合して
密閉加熱系に収納し、系内にＣ／Ｃ基材をセットして加
熱処理する工程により形成される。加熱段階でＳｉＯ２
が還元され、生成したＳｉＯガスがＣ／Ｃ基材を構成
する炭素と反応して表層部をＳｉＣに転化する。この際
、ＳｉＯガスの濃度、反応温度、反応時間等を制御する
ことによって基材のＣ層と被覆層のＳｉＣが界面で連続
的に変化する傾斜機能を備える組織状態が形成される。
は、下記にようにして製造することができる。第１被覆
層は、ＳｉＯ２ 粉末とＳｉもしくはＣ粉末を混合して
密閉加熱系に収納し、系内にＣ／Ｃ基材をセットして加
熱処理する工程により形成される。加熱段階でＳｉＯ２
が還元され、生成したＳｉＯガスがＣ／Ｃ基材を構成
する炭素と反応して表層部をＳｉＣに転化する。この際
、ＳｉＯガスの濃度、反応温度、反応時間等を制御する
ことによって基材のＣ層と被覆層のＳｉＣが界面で連続
的に変化する傾斜機能を備える組織状態が形成される。
【００１３】第２被覆層の形成は、ハロゲン化有機珪素
化合物を水素ガスに同伴させながら石英反応室内で加熱
されているＣ／Ｃ基材にガス状態で接触させる操作を短
周期で間欠的に反復するパルスＣＶＩ工程によっておこ
なわれる。適切な反応条件は、ハロゲン化有機珪素化合
物としてトリクロロメチルシラン（ＣＨ３ＳｉＣｌ３）
を用い、水素ガスとのモル比（ＣＨ３ＳｉＣｌ３）が０
．０１〜０．０５になるように混合して ９００〜１１
００℃に加熱されたＣ／Ｃ基材がセットされている減圧
状態の反応室に秒間隔で間欠的な導入・停止を繰り返す
ことである。
化合物を水素ガスに同伴させながら石英反応室内で加熱
されているＣ／Ｃ基材にガス状態で接触させる操作を短
周期で間欠的に反復するパルスＣＶＩ工程によっておこ
なわれる。適切な反応条件は、ハロゲン化有機珪素化合
物としてトリクロロメチルシラン（ＣＨ３ＳｉＣｌ３）
を用い、水素ガスとのモル比（ＣＨ３ＳｉＣｌ３）が０
．０１〜０．０５になるように混合して ９００〜１１
００℃に加熱されたＣ／Ｃ基材がセットされている減圧
状態の反応室に秒間隔で間欠的な導入・停止を繰り返す
ことである。
【００１４】第３被覆層のＢ２ Ｏ３ −ＳｉＯ２ ガ
ラス被膜は、Ｂ（ＯＣ１２Ｈ２７）３およびＳｉ（ＯＣ
２ Ｈ５）４ を第２被覆層面に真空含浸し、５００
℃熱処理する方法によって形成される。この際、Ｂ２
Ｏ３ ガラスはＢ（ＯＣ１２Ｈ２７）３を直接に真空含
浸することにより形成することができるが、ＳｉＯ２
ガラスはＳｉ（ＯＣ２ Ｈ５）４ を予めｐＨ１〜２に
調整して加水分解重合したから真空含浸することが好ま
しい。また、被覆順序として先にＳｉＯ２ ガラスを被
覆してからＢ２ Ｏ３ ガラスを被覆することが好結果
を与える。
ラス被膜は、Ｂ（ＯＣ１２Ｈ２７）３およびＳｉ（ＯＣ
２ Ｈ５）４ を第２被覆層面に真空含浸し、５００
℃熱処理する方法によって形成される。この際、Ｂ２
Ｏ３ ガラスはＢ（ＯＣ１２Ｈ２７）３を直接に真空含
浸することにより形成することができるが、ＳｉＯ２
ガラスはＳｉ（ＯＣ２ Ｈ５）４ を予めｐＨ１〜２に
調整して加水分解重合したから真空含浸することが好ま
しい。また、被覆順序として先にＳｉＯ２ ガラスを被
覆してからＢ２ Ｏ３ ガラスを被覆することが好結果
を与える。
【００１５】
【作用】本発明において、傾斜機能を有する多結晶質の
ＳｉＣ被膜からなる第１被覆層はＣ／Ｃ基材の表面に緻
密で密着性の高い厚膜として形成され、アモルファス質
または微細多結晶質のＳｉＣ被膜からなる第２被覆層は
前記第１被覆層の微小な空隙（ピンホール）やクラック
等を充填封止するとともに、全表面を薄膜状の緻密層と
して被覆する。そして、Ｂ２ Ｏ３ −ＳｉＯ２ ガラ
ス被膜からなる第３被覆層は、第２被覆層に発生した微
細なクラックを目詰めして被覆層の無孔構造化を確実な
ものとする。このような３段階における積層被覆の各機
能が総合的に作用して、Ｃ／Ｃ基材の全表面に酸化雰囲
気下での高温使用に耐える高耐酸化性能が付与される。
ＳｉＣ被膜からなる第１被覆層はＣ／Ｃ基材の表面に緻
密で密着性の高い厚膜として形成され、アモルファス質
または微細多結晶質のＳｉＣ被膜からなる第２被覆層は
前記第１被覆層の微小な空隙（ピンホール）やクラック
等を充填封止するとともに、全表面を薄膜状の緻密層と
して被覆する。そして、Ｂ２ Ｏ３ −ＳｉＯ２ ガラ
ス被膜からなる第３被覆層は、第２被覆層に発生した微
細なクラックを目詰めして被覆層の無孔構造化を確実な
ものとする。このような３段階における積層被覆の各機
能が総合的に作用して、Ｃ／Ｃ基材の全表面に酸化雰囲
気下での高温使用に耐える高耐酸化性能が付与される。
【００１６】
【実施例】以下、本発明の実施例を比較例と対比して説
明する。 実施例 （１） Ｃ／Ｃ基材の作製 ポリアクリロニトリル系高弾性タイプの平織炭素繊維布
をフェノール樹脂初期縮合物からなるマトリックス樹脂
液に浸漬して含浸処理したのち、１４枚積層してモール
ドに入れ、加熱温度１１０ ℃、適用圧力２０ｋｇ／ｃ
ｍ２の条件で複合成形した。成形体を２５０ ℃の温度
に加熱して完全に硬化したのち、窒素雰囲気に保持され
た焼成炉に移し、５℃／ｈｒ の昇温速度で２０００℃
まで上昇し５時間保持して焼成炭化した。ついで、得ら
れたＣ／Ｃ材にフェノール樹脂液を真空加圧下に含浸し
、前記と同様の２０００℃焼成処理を３回反復して二次
元配向型のＣ／Ｃ基材を作製した。
明する。 実施例 （１） Ｃ／Ｃ基材の作製 ポリアクリロニトリル系高弾性タイプの平織炭素繊維布
をフェノール樹脂初期縮合物からなるマトリックス樹脂
液に浸漬して含浸処理したのち、１４枚積層してモール
ドに入れ、加熱温度１１０ ℃、適用圧力２０ｋｇ／ｃ
ｍ２の条件で複合成形した。成形体を２５０ ℃の温度
に加熱して完全に硬化したのち、窒素雰囲気に保持され
た焼成炉に移し、５℃／ｈｒ の昇温速度で２０００℃
まで上昇し５時間保持して焼成炭化した。ついで、得ら
れたＣ／Ｃ材にフェノール樹脂液を真空加圧下に含浸し
、前記と同様の２０００℃焼成処理を３回反復して二次
元配向型のＣ／Ｃ基材を作製した。
【００１７】（２） 第１被覆層の形成ＳｉＯ２ 粉末
とＳｉ粉末をモル比２：１の配合比率になるように混合
し、混合粉末を黒鉛ルツボに入れ上部にＣ／Ｃ基材（幅
３０ｍｍ、長さ５０ｍｍ、厚さ５ｍｍ） をセットした
。この黒鉛ルツボを電気炉に移し、内部をＡｒガスで十
分に置換したのち５０℃／ｈｒ の速度で１８５０℃ま
で昇温させ、２ 時間保持してＣ／Ｃ基材の表層部に傾
斜機能を有するＳｉＣの第１被覆層を形成した。形成さ
れたＳｉＣ被覆層の厚さは約 ２００μｍ であったが
、その表面に幅１０μｍ 程度の亀裂が所々に発生して
いることが認められた。
とＳｉ粉末をモル比２：１の配合比率になるように混合
し、混合粉末を黒鉛ルツボに入れ上部にＣ／Ｃ基材（幅
３０ｍｍ、長さ５０ｍｍ、厚さ５ｍｍ） をセットした
。この黒鉛ルツボを電気炉に移し、内部をＡｒガスで十
分に置換したのち５０℃／ｈｒ の速度で１８５０℃ま
で昇温させ、２ 時間保持してＣ／Ｃ基材の表層部に傾
斜機能を有するＳｉＣの第１被覆層を形成した。形成さ
れたＳｉＣ被覆層の厚さは約 ２００μｍ であったが
、その表面に幅１０μｍ 程度の亀裂が所々に発生して
いることが認められた。
【００１８】（３） 第２被覆層の形成第１被覆層を形
成したＣ／Ｃ基材をパルスＣＶＩ装置の石英反応管内に
設置し管内をＡｒガスで十分に置換したのち高周波誘導
加熱によりＣ／Ｃ基材の温度を１０００℃に上昇した。 ついで、真空ポンプにより反応管内を２秒で２Ｔｏｒｒ
以下に減圧し、直ちにトリクロロメチルシラン（ＣＨ３
ＳｉＣｌ３）とＨ２ の混合ガス（モル比５：１００）
を１秒間で７２０Ｔｏｒｒ になるように導入し１秒間
保持した。この管内減圧、反応ガス導入および保持の操
作を３０００回繰り返し、厚さ２０μｍ のアモルファ
ス質または微細多結晶質ＳｉＣの第二被覆層を形成した
。形成した第２被覆層には、幅 ０．５〜１．０ μｍ
の微細なクラックが新たに発生した。
成したＣ／Ｃ基材をパルスＣＶＩ装置の石英反応管内に
設置し管内をＡｒガスで十分に置換したのち高周波誘導
加熱によりＣ／Ｃ基材の温度を１０００℃に上昇した。 ついで、真空ポンプにより反応管内を２秒で２Ｔｏｒｒ
以下に減圧し、直ちにトリクロロメチルシラン（ＣＨ３
ＳｉＣｌ３）とＨ２ の混合ガス（モル比５：１００）
を１秒間で７２０Ｔｏｒｒ になるように導入し１秒間
保持した。この管内減圧、反応ガス導入および保持の操
作を３０００回繰り返し、厚さ２０μｍ のアモルファ
ス質または微細多結晶質ＳｉＣの第二被覆層を形成した
。形成した第２被覆層には、幅 ０．５〜１．０ μｍ
の微細なクラックが新たに発生した。
【００１９】（４） 第３被覆層の形成第２被覆層を形
成したＣ／Ｃ基材を真空デシケータに入れ、真空ポンプ
で１Ｔｏｒｒ以下に減圧したのち、Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５
）４ １モルに対し７モル量のエタノールを加え、１１
モルの水と０．０３モルのＨＣｌを混合してｐＨ１．５
で加水分解重合させた液を２Ｔｏｒｒの減圧下に注入
した。Ｃ／Ｃ基材が完全に浸漬するまで液を注入し１時
間保持した。ついで、Ｃ／Ｃ基材をデシケータから取り
出し、空気雰囲気の電気炉に移して１０℃／ｍｉｎ．
の昇温速度で５００ ℃まで加熱し、この温度に３０分
間保持してＳｉＯ２ ガラスの被膜を形成した。
成したＣ／Ｃ基材を真空デシケータに入れ、真空ポンプ
で１Ｔｏｒｒ以下に減圧したのち、Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５
）４ １モルに対し７モル量のエタノールを加え、１１
モルの水と０．０３モルのＨＣｌを混合してｐＨ１．５
で加水分解重合させた液を２Ｔｏｒｒの減圧下に注入
した。Ｃ／Ｃ基材が完全に浸漬するまで液を注入し１時
間保持した。ついで、Ｃ／Ｃ基材をデシケータから取り
出し、空気雰囲気の電気炉に移して１０℃／ｍｉｎ．
の昇温速度で５００ ℃まで加熱し、この温度に３０分
間保持してＳｉＯ２ ガラスの被膜を形成した。
【００２０】ＳｉＯ２ ガラス被覆を形成したＣ／Ｃ基
材を真空デシケータに入れ、１Ｔｏｒｒ以下に減圧した
のち、Ｂ（ＯＣ１２Ｈ２７）３を２Ｔｏｒｒ以下の減圧
下に注入しＣ／Ｃ基材が浸漬した状態で１時間保持した
。Ｃ／Ｃ基材をデシケータから取り出し、室温空気中で
２時間風乾したのち、空気雰囲気に保持された電気炉に
移し５００ ℃で３０分間加熱してＢ２ Ｏ３ ガラス
の被膜を形成した。このようにして全面にＢ２ Ｏ３
−ＳｉＯ２ ガラス被膜からなる第３被覆層を形成した
。
材を真空デシケータに入れ、１Ｔｏｒｒ以下に減圧した
のち、Ｂ（ＯＣ１２Ｈ２７）３を２Ｔｏｒｒ以下の減圧
下に注入しＣ／Ｃ基材が浸漬した状態で１時間保持した
。Ｃ／Ｃ基材をデシケータから取り出し、室温空気中で
２時間風乾したのち、空気雰囲気に保持された電気炉に
移し５００ ℃で３０分間加熱してＢ２ Ｏ３ ガラス
の被膜を形成した。このようにして全面にＢ２ Ｏ３
−ＳｉＯ２ ガラス被膜からなる第３被覆層を形成した
。
【００２１】（５） 耐酸化性の評価
上記の３段階被覆を施したＣ／Ｃ基材を空気雰囲気に保
持された電気炉に入れ、５００ ℃の温度に３０分保持
したのち常温まで自然冷却した。この工程を ５００〜
１５００℃までの １００℃毎におこない、最終的なＣ
／Ｃ基材の酸化による重量減少率を測定した。その結果
を表１に示した。
持された電気炉に入れ、５００ ℃の温度に３０分保持
したのち常温まで自然冷却した。この工程を ５００〜
１５００℃までの １００℃毎におこない、最終的なＣ
／Ｃ基材の酸化による重量減少率を測定した。その結果
を表１に示した。
【００２２】比較例１
実施例の第１被覆層のみを形成したＣ／Ｃ基材につき、
同一条件による耐酸化性の評価をおこない、結果を表１
に併載した。
同一条件による耐酸化性の評価をおこない、結果を表１
に併載した。
【００２３】比較例２
実施例の第２被覆層までのＳｉＣ被膜を形成したＣ／Ｃ
基材につき、同一条件による耐酸化性の評価をおこない
、結果を表１に示した。
基材につき、同一条件による耐酸化性の評価をおこない
、結果を表１に示した。
【００２４】比較例３
実施例の同一条件で第１被覆層を形成し、これを常圧に
保持された反応管に設置して１０００℃に加熱したのち
トリクロロメチルシラン（ＣＨ３ＳｉＣｌ３）とＨ２
の混合反応ガス（ モル比５：１００）を導入する通常
のＣＶＤ処理により膜厚２０μｍ のＳｉＣ被膜を形成
した。このようにして２段階被覆形成したＣ／Ｃ基材に
つき実施例と同一条件による耐酸化性の評価をおこない
、結果を表１に併載した。
保持された反応管に設置して１０００℃に加熱したのち
トリクロロメチルシラン（ＣＨ３ＳｉＣｌ３）とＨ２
の混合反応ガス（ モル比５：１００）を導入する通常
のＣＶＤ処理により膜厚２０μｍ のＳｉＣ被膜を形成
した。このようにして２段階被覆形成したＣ／Ｃ基材に
つき実施例と同一条件による耐酸化性の評価をおこない
、結果を表１に併載した。
【００２５】
【００２６】表１の結果から、本発明の実施例によるＣ
／Ｃ基材は高度の耐酸化性を備えることが認められる。 これに対し、第１被覆層のみの比較例１では高い酸化消
耗が発生する。第２被覆層までを形成した比較例２では
かなり耐酸化性は改善されているが、第２被覆層に微小
なクラックが存在するため実施例に比べて耐酸化性は減
少している。また、第２被覆工程を通常のＣＶＤ法でお
こなった比較例３では第１被覆層のクラック目詰め機能
が不十分となるため、耐酸化性の改善効果は少ない。
／Ｃ基材は高度の耐酸化性を備えることが認められる。 これに対し、第１被覆層のみの比較例１では高い酸化消
耗が発生する。第２被覆層までを形成した比較例２では
かなり耐酸化性は改善されているが、第２被覆層に微小
なクラックが存在するため実施例に比べて耐酸化性は減
少している。また、第２被覆工程を通常のＣＶＤ法でお
こなった比較例３では第１被覆層のクラック目詰め機能
が不十分となるため、耐酸化性の改善効果は少ない。
【００２７】
【発明の効果】以上のとおり、本発明によれば表面に傾
斜機能を有する多結晶質のＳｉＣ第１被覆層、アモルフ
ァス質または微細多結晶質のＳｉＣ第２被覆層、および
Ｂ２ Ｏ３ −ＳｉＯ２ ガラス被膜の第３被覆層が積
層形成された高度の耐酸化性を備えるＣ／Ｃ基材を提供
することが可能となる。したがって、高温酸化雰囲気の
過酷な条件に晒される構造部材用途に適用して安定性能
の確保、耐久寿命の延長化などの効果が発揮される。
斜機能を有する多結晶質のＳｉＣ第１被覆層、アモルフ
ァス質または微細多結晶質のＳｉＣ第２被覆層、および
Ｂ２ Ｏ３ −ＳｉＯ２ ガラス被膜の第３被覆層が積
層形成された高度の耐酸化性を備えるＣ／Ｃ基材を提供
することが可能となる。したがって、高温酸化雰囲気の
過酷な条件に晒される構造部材用途に適用して安定性能
の確保、耐久寿命の延長化などの効果が発揮される。
Claims (2)
- 【請求項１】 炭素繊維強化炭素材の基材面に、傾斜
機能を有する多結晶質のＳｉＣ被膜からなる第１被覆層
、アモルファス質または微細多結晶質のＳｉＣ被膜から
なる第２被覆層、およびＢ２ Ｏ３ −ＳｉＯ２ ガラ
ス被膜からなる第３被覆層が積層形成されてなることを
特徴とする耐酸化性炭素繊維強化炭素材。 - 【請求項２】 第１被覆層の膜厚が １００〜３００
μｍ 、第２被覆層の膜厚が１０〜５０μｍ 、第３
被覆層の膜厚が５〜２０μｍ である請求項１記載の耐
酸化性炭素繊維強化炭素材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3025643A JPH0791137B2 (ja) | 1991-01-25 | 1991-01-25 | 耐酸化性炭素繊維強化炭素材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3025643A JPH0791137B2 (ja) | 1991-01-25 | 1991-01-25 | 耐酸化性炭素繊維強化炭素材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04243989A true JPH04243989A (ja) | 1992-09-01 |
| JPH0791137B2 JPH0791137B2 (ja) | 1995-10-04 |
Family
ID=12171517
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3025643A Expired - Fee Related JPH0791137B2 (ja) | 1991-01-25 | 1991-01-25 | 耐酸化性炭素繊維強化炭素材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0791137B2 (ja) |
-
1991
- 1991-01-25 JP JP3025643A patent/JPH0791137B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0791137B2 (ja) | 1995-10-04 |
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