JPH04209781A - ガラス状炭素被覆体の製造方法 - Google Patents
ガラス状炭素被覆体の製造方法Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
であり、更に詳しくは、表面における剥離やクラックの
発生のないガラス状炭素被覆体の製造方法に関するもの
である。
の不透過性にも優れているうえ、化学的、熱的にも安定
で、電気伝導性及び熱伝導性を有するという特徴があり
、このような被覆体は、電子及び電気工業、化学プラン
ト、原子力や航空宇宙分野などの広い範囲における利用
が考えられる。
ル樹脂等を成形し、それを長時間がけて焼成することに
より製造していたが、この方法による場合は、目的とす
る製品の大きさ及び厚さに限界があり、又、複雑な形状
のものは製造できなかった。
した場合、必ずしも該成型体全体がガラス状炭素である
必要はなく、表面だけがガラス状炭素材のもの、即ち、
ガラス状炭素被覆体であれば良い場合もある。
ことにより得たピッチを、芳香族系溶剤と混合してスラ
リーとし、このスラリーを適宜の成型体塗布した後、焼
成する方法が従来より採用されてきたが、この方法によ
る場合は、厚い被膜ができなかったり、表面にクラック
が発生するという問題の生じることが報告されている(
特公昭52−39684号公報参照)。
的としてなされたもので、その主たる構成は、基材表面
に易炭素化高分子の被膜を形成し、次いで不活性雰囲気
中で焼成することを特徴とするものである。
分子、例えばポリカルボジイミド樹脂に注目し、この樹
脂を、炭素、金属、セラミック又はガラス等による基材
に塗布等することにより、該樹脂による被膜を形成し、
これを不活性雰囲気で中焼成することにより、表面状態
の良好なガラス状炭素被覆体ができることを見い出し、
本発明の完成に至った。
に、例えば、炭素、セラミック、金属、ガラスその他を
挙げることができ、その材質について特に限定はない0
表面が荒れていても、又、平滑であっても、使用するこ
とができる。
中或いは不活性雰囲気中で焼成すると炭素化する性質を
有する樹脂をいい、例えばポリカルボジイミド樹脂がこ
れに該当する。
量が高く、且つ、収率も高い樹脂であり、それ自体は周
知のものか、或いは、周知のものと同様にして製造する
ことができるものであって(米国特許第2,941,9
56号明細書;特公昭47−33279号公報; J、
Org、Chem。
cal Review 1981.vol。
ジイソシアネートの脱二酸化炭素を伴う縮合反応により
容易に製造することができる。ポリカルボジイミド樹脂
の製造に使用される有機ジイソシアネートは、脂肪族系
、脂環式系、芳香族系、芳香−脂肪族系等のいずれのタ
イプのものであってもよく、これらは単独で用いても、
或いは、2種以上を組み合わせて共重合体として用いて
もよい。
樹脂には、下記式 %式% (但し、式中のRは有機ジイソシアネート残基を表す)
で示される少なくとも1種の繰り返し単位からなる単独
重合体または共重合体が包含される。
なかでも芳香族ジイソシアネート残基が好適である(こ
こで、有機ジイソシアネート残基とは、有機ジイソシア
ネート分子から2つのインシアネート基(NGO)を除
いた残りの部分である)、このようなポリカルボジイミ
ド樹脂の具体例としては、以下のものを挙げることがで
きる。
、好ましくは50〜5,000の範囲内である。
ネート等を用いて封止されていてもよい。
から沈殿させた粉末として得ることができる。
液状で得られるポリカルボジイミド樹脂の場合は、その
まま塗布液として用いることができ、又、粉末として得
られるポリカルボジイミド樹脂の場合は、溶媒に溶解し
、液状とした後に塗布液として使用することができる。
含む塗布液により、基材表面に易炭素化樹脂の被膜を形
成する。この被膜形成は、超音波含浸、はけ塗り、スプ
レー等どのような方法によってもよい。
好ましい。
ることによって、目的とするガラス状炭素被覆体が得ら
れる。このガラス状炭素被覆体は、昇温速度に影響され
ることが少なく、早い昇温速度によっても得ることがで
きる。
活性雰囲気中で行なうものとし、その際の最終焼成温度
は、基材の耐熱温度で決定すればよいが、好ましくは5
00乃至3000℃である。
ジイソシアネートの混合物(80: 20)[TDI]
54gを、テトラクロロエチレン500m1中で、カル
ボジイミド化触媒(1−フェニル−3−メチルホスフオ
レンオキサイド)0゜12gと共に、120℃で4時間
反応させ、ポリカルボジイミド樹脂溶液を得た。
塗布し、溶剤を乾燥するため、60”Cで10分、12
0℃で10分及び200℃で1o分間熱処理をしな、そ
の後、真空中にて1000”Cまで昇温しで焼成し、ガ
ラス状炭素被覆体を得たこの焼成品を、光学顕微鏡(1
00倍)で観察したが、クラックや剥離等はなかった。
テンレス板に含浸塗布し、実施例1と同様の方法で乾燥
した0次いで、窒素ガス中、700℃で焼成し、ガラス
状炭素被覆体を得た。この焼成品を、光学顕微鏡(10
0倍)で観察したが、クラックや剥離等はなかった。
ラス繊維(3−A)、石英繊維(3−B)及びステンレ
ス繊維(3−C)に含浸塗布し、実施例2と同様の条件
により、ガラス状炭素被覆体を得た。この焼成品を、光
学顕微鏡(100倍)で観察したが、良好であった。
バポレーターを用いて、樹脂量で30重量%になるまで
濃縮した。この溶液を黒鉛板に塗布し、実施例1と同様
の方法で乾燥し、約20μmの被覆を形成した。その後
、真空中で、1500℃まで焼成し、ガラス状炭素被覆
体を得た。この焼成品を、光学顕微鏡(100倍)で観
察したが、クラックもなく良好であった。
し、200℃で10分、250℃で10分間熱処理を行
ない、実施例1と同様に焼成を行なった。その結果、ガ
ラス状炭素層にクラックが入り、良好な被覆はできなか
った。
ッチ:10重量%)、黒鉛板に塗布した。
行ない、真空中、1000℃で焼成を行なった。その結
果、良好な被覆はできなかった。
ばポリカルボジイミド樹脂のような炭化収率が高い易炭
素化高分子を、炭素等による基材に塗布等することによ
り、該樹脂による被膜を形成し、これを不活性雰囲気中
で焼成するから、表面状態の良好なガラス状炭素被覆体
を製造することができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 基材表面に易炭素化高分子の被膜を形成し、次いで
不活性雰囲気中で焼成することを特徴とするガラス状炭
素被覆体の製造方法。 2 基材は、炭素、金属、セラミック又はガラス等であ
ることを特徴とする請求項1に記載のガラス状炭素被覆
体の製造方法。 3 易炭素化高分子は、ポリカルボジイミド樹脂である
ことを特徴とする請求項1に記載のガラス状炭素被覆体
の製造方法。 4 ポリカルボジイミド樹脂は、式 −R−N=C=N− (ただし、式中のRは有機ジイソシア ネート残基を表す) で示される少なくとも1種の繰り返し単位からなる単独
重合体又は共重合体であることを特徴とする請求項3に
記載のガラス状炭素被覆体の製造方法。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0763504A1 (en) * | 1995-09-14 | 1997-03-19 | Heraeus Quarzglas GmbH | Silica glass member and method for producing the same |
KR970070243A (ko) * | 1996-04-22 | 1997-11-07 | 모치즈키 아키히로 | 플라즈마 처리 장치 및 플라즈마 처리 장치용 보호부재 |
US6797404B2 (en) * | 2001-09-07 | 2004-09-28 | Siemens Vdo Automotive Corporation | Anti-spatter coating for laser machining |
US6811888B2 (en) * | 2001-09-07 | 2004-11-02 | Siemens Vdo Automotive Corporation | Anti-spatter coating for laser machining |
JP2010180074A (ja) * | 2009-02-03 | 2010-08-19 | Nitto Shoji Kk | カーボン成形体およびその製造方法 |
WO2010110153A1 (ja) * | 2009-03-27 | 2010-09-30 | 独立行政法人科学技術振興機構 | グラフェン膜の製造方法、電子素子の製造方法および基板へのグラフェン膜の転写方法 |
JP2013245372A (ja) * | 2012-05-25 | 2013-12-09 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 蒸着用ルツボの製造方法 |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP33878590A patent/JP3215978B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0763504A1 (en) * | 1995-09-14 | 1997-03-19 | Heraeus Quarzglas GmbH | Silica glass member and method for producing the same |
KR970070243A (ko) * | 1996-04-22 | 1997-11-07 | 모치즈키 아키히로 | 플라즈마 처리 장치 및 플라즈마 처리 장치용 보호부재 |
US6797404B2 (en) * | 2001-09-07 | 2004-09-28 | Siemens Vdo Automotive Corporation | Anti-spatter coating for laser machining |
US6811888B2 (en) * | 2001-09-07 | 2004-11-02 | Siemens Vdo Automotive Corporation | Anti-spatter coating for laser machining |
JP2010180074A (ja) * | 2009-02-03 | 2010-08-19 | Nitto Shoji Kk | カーボン成形体およびその製造方法 |
WO2010110153A1 (ja) * | 2009-03-27 | 2010-09-30 | 独立行政法人科学技術振興機構 | グラフェン膜の製造方法、電子素子の製造方法および基板へのグラフェン膜の転写方法 |
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KR101357060B1 (ko) * | 2009-03-27 | 2014-02-03 | 도꾸리쯔교세이호징 가가꾸 기쥬쯔 신꼬 기꼬 | 그래핀막의 제조 방법, 전자 소자의 제조 방법, 및 기판에의 그래핀막의 전사 방법 |
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