JP2000269159A - 半導体としての多種の機能を持つカ−ボンの製法 - Google Patents
半導体としての多種の機能を持つカ−ボンの製法Info
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- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 68
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 66
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 34
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims abstract description 24
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 20
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 15
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 32
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 229920001646 UPILEX Polymers 0.000 claims description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 abstract description 9
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 abstract description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 12
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 5
- 229910021397 glassy carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004693 Polybenzimidazole Substances 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940058905 antimony compound for treatment of leishmaniasis and trypanosomiasis Drugs 0.000 description 1
- 150000001463 antimony compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 150000001495 arsenic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N bpda Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 1
- 239000005539 carbonized material Substances 0.000 description 1
- 238000010000 carbonizing Methods 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 150000002259 gallium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229940093920 gynecological arsenic compound Drugs 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002472 indium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000012768 molten material Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002006 petroleum coke Substances 0.000 description 1
- 239000011301 petroleum pitch Substances 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920002480 polybenzimidazole Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- -1 polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000779 smoke Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
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- H01L21/0405—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising semiconducting carbon, e.g. diamond, diamond-like carbon
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体としての多種の機能を持つカ−ボンの
製法を提供する。 【解決手段】 有機高分子を前駆体とし、この有機高分
子前駆体を高温熱処理したカ−ボンとし、該カ−ボン中
にヘテロ元素を包含してなる多種の半導体としての機能
を持つカ−ボンの製法。
製法を提供する。 【解決手段】 有機高分子を前駆体とし、この有機高分
子前駆体を高温熱処理したカ−ボンとし、該カ−ボン中
にヘテロ元素を包含してなる多種の半導体としての機能
を持つカ−ボンの製法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体としての
多種の機能を持つカ−ボンの製法に関する。
多種の機能を持つカ−ボンの製法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、カ−ボン材料にヘテロ元素を包含
させた実用型の半導体は、見出されていない。一方、カ
−ボンが、本質的に半導体であることは周知であるが、
シリコンのようにホウ素やリンなどのヘテロ元素を微少
量添加することによって、P型、N型各種の機能を持っ
た半導体を製造することは、次の諸点で事実上困難とさ
れてきた。
させた実用型の半導体は、見出されていない。一方、カ
−ボンが、本質的に半導体であることは周知であるが、
シリコンのようにホウ素やリンなどのヘテロ元素を微少
量添加することによって、P型、N型各種の機能を持っ
た半導体を製造することは、次の諸点で事実上困難とさ
れてきた。
【0003】1.最も通常の従来型カ−ボンは、種々の
大きさからなる、石油コ−クスに代表されるカ−ボン粒
を、石油ピッチに代表される炭化性結合材と共に練り合
わせた上、成形、カ−ボン化したもので、粒度分布や、
結合材炭化物との混合状態が、同じ成形体内は勿論、各
成形体間で常に不均質であり、シリコンのような均質な
溶融物にヘテロ元素を溶かし込んで、設計通りの均質分
布品を得ることは、事実上不可能であった。更に、この
従来型カ−ボンには不純物が含有され、これを十分に除
去し難い実状のため、ド−プしたヘテロ元素による制御
効果を目的通り発揮できるものは実在しなかった。
大きさからなる、石油コ−クスに代表されるカ−ボン粒
を、石油ピッチに代表される炭化性結合材と共に練り合
わせた上、成形、カ−ボン化したもので、粒度分布や、
結合材炭化物との混合状態が、同じ成形体内は勿論、各
成形体間で常に不均質であり、シリコンのような均質な
溶融物にヘテロ元素を溶かし込んで、設計通りの均質分
布品を得ることは、事実上不可能であった。更に、この
従来型カ−ボンには不純物が含有され、これを十分に除
去し難い実状のため、ド−プしたヘテロ元素による制御
効果を目的通り発揮できるものは実在しなかった。
【0004】2.メタン、プロパン、ベンゼンに代表さ
れるカ−ボン含有ガスを、高温に保たれた基板上に付着
させる化学蒸着法(CVD)は、上記のような結合材を
使用しないが、得られるカ−ボン薄膜内の粒度分布は一
様ではなく、均質なシリコンとは全く異質であり、上記
と同様な不均質性および不純物という困難があった。
れるカ−ボン含有ガスを、高温に保たれた基板上に付着
させる化学蒸着法(CVD)は、上記のような結合材を
使用しないが、得られるカ−ボン薄膜内の粒度分布は一
様ではなく、均質なシリコンとは全く異質であり、上記
と同様な不均質性および不純物という困難があった。
【0005】3.通常のガラス状カ−ボンは、上記の両
ケ−スとは異なって、均質な組成を持つカ−ボンではあ
るが、半導体としての用途に必要な薄膜や薄板の形状物
は、ガラス同様に脆弱で、広汎な取り扱いは事実上困難
であった。また、一般に不純物が多すぎ、微小量ド−プ
したヘテロ元素の効果が出せなかった。さらに、この脆
弱さを改善するための複合材料化、例えば高性能カ−ボ
ンファイバ−で強化してC/Cコンポジットとする方法
は、上記1、2ケ−ス記述の両法と同様に不可避な不均
質性からは免れなかった。
ケ−スとは異なって、均質な組成を持つカ−ボンではあ
るが、半導体としての用途に必要な薄膜や薄板の形状物
は、ガラス同様に脆弱で、広汎な取り扱いは事実上困難
であった。また、一般に不純物が多すぎ、微小量ド−プ
したヘテロ元素の効果が出せなかった。さらに、この脆
弱さを改善するための複合材料化、例えば高性能カ−ボ
ンファイバ−で強化してC/Cコンポジットとする方法
は、上記1、2ケ−ス記述の両法と同様に不可避な不均
質性からは免れなかった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】この発明の目的は、こ
れらの種々の問題点を根本的に解決し、多種の機能を持
つ実用型のカ−ボンの製法を提供することである。
れらの種々の問題点を根本的に解決し、多種の機能を持
つ実用型のカ−ボンの製法を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】この発明は、有機高分子
を前駆体とし、この有機高分子前駆体を高温熱処理して
カ−ボンとし、該カ−ボン中にカ−ボン元素以外の周期
律表第II、III、IV、V、あるいはVI族の元素
であるヘテロ元素を包含させた半導体としての多種の機
能を持つカ−ボンの製法に関するものである。
を前駆体とし、この有機高分子前駆体を高温熱処理して
カ−ボンとし、該カ−ボン中にカ−ボン元素以外の周期
律表第II、III、IV、V、あるいはVI族の元素
であるヘテロ元素を包含させた半導体としての多種の機
能を持つカ−ボンの製法に関するものである。
【0008】
【発明の実施の形態】以下にこの発明の好ましい態様を
列記する。 1)ヘテロ元素を含む化合物を、有機高分子前駆体に含
有させた後に、高温熱処理してなる上記の半導体として
の多種の機能を持つカ−ボンの製法。 2)有機高分子前駆体を高温熱処理してカ−ボン化する
際に、高純度化処理を併用して得られるカ−ボンに、ヘ
テロ元素をド−プさせる上記の半導体としての多種の機
能を持つカ−ボンの製法。 3)有機高分子前駆体に応力を付加しながら熱処理する
ことにより、カ−ボン分子の配向性をもたせたものにヘ
テロ元素をド−プする上記の半導体としての多種の機能
を持つカ−ボンの製法。 4)有機高分子前駆体が、高耐熱性ポリイミドフィルム
である上記の半導体としての多種の機能を持つカ−ボン
の製法。
列記する。 1)ヘテロ元素を含む化合物を、有機高分子前駆体に含
有させた後に、高温熱処理してなる上記の半導体として
の多種の機能を持つカ−ボンの製法。 2)有機高分子前駆体を高温熱処理してカ−ボン化する
際に、高純度化処理を併用して得られるカ−ボンに、ヘ
テロ元素をド−プさせる上記の半導体としての多種の機
能を持つカ−ボンの製法。 3)有機高分子前駆体に応力を付加しながら熱処理する
ことにより、カ−ボン分子の配向性をもたせたものにヘ
テロ元素をド−プする上記の半導体としての多種の機能
を持つカ−ボンの製法。 4)有機高分子前駆体が、高耐熱性ポリイミドフィルム
である上記の半導体としての多種の機能を持つカ−ボン
の製法。
【0009】この発明における有機高分子前駆体として
は、芳香族ポリイミド樹脂、芳香族ポリアミドイミド樹
脂、芳香族ポリアミド樹脂、芳香族ポリオキサジアゾ−
ル、ポリパラフェニレン、ポリベンゾイミダゾ−ル、ポ
リベンゾイミダゾフェナントロリンなどの有機高分子の
フィルム、板状体などである前駆体、好適には高耐熱性
ポリイミド樹脂の前駆体が挙げられる。これらポリイミ
ド樹脂に代表される有機高分子は、高温熱処理してもガ
ラス状カ−ボン類似の脆弱さを持たない。
は、芳香族ポリイミド樹脂、芳香族ポリアミドイミド樹
脂、芳香族ポリアミド樹脂、芳香族ポリオキサジアゾ−
ル、ポリパラフェニレン、ポリベンゾイミダゾ−ル、ポ
リベンゾイミダゾフェナントロリンなどの有機高分子の
フィルム、板状体などである前駆体、好適には高耐熱性
ポリイミド樹脂の前駆体が挙げられる。これらポリイミ
ド樹脂に代表される有機高分子は、高温熱処理してもガ
ラス状カ−ボン類似の脆弱さを持たない。
【0010】前記のポリイミド樹脂の前駆体は、例え
ば、芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン
とをN−メチル−2−ピロリドンやN,N−ジメチルア
セトアミドなどの有機溶媒中で重合させた後、得られた
重合溶液を支持体に流延塗布し、乾燥してフィルム状あ
るいはシ−ト状物を支持体から引き剥がし、高温(例え
ば最高加熱温度:450−500℃程度まで)に加熱し
てイミド化・溶媒除去することによって得ることができ
る。前記重合溶液中に前記のカ−ボン元素以外の周期律
表第II、III、IV、V、あるいはVI族の元素で
あるヘテロ元素を与える化合物を添加することもでき
る。
ば、芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン
とをN−メチル−2−ピロリドンやN,N−ジメチルア
セトアミドなどの有機溶媒中で重合させた後、得られた
重合溶液を支持体に流延塗布し、乾燥してフィルム状あ
るいはシ−ト状物を支持体から引き剥がし、高温(例え
ば最高加熱温度:450−500℃程度まで)に加熱し
てイミド化・溶媒除去することによって得ることができ
る。前記重合溶液中に前記のカ−ボン元素以外の周期律
表第II、III、IV、V、あるいはVI族の元素で
あるヘテロ元素を与える化合物を添加することもでき
る。
【0011】この発明においては、カ−ボン元素以外の
周期律表第II、III、IV、V、あるいはVI族の
元素であるヘテロ元素を包含させることが必要であり、
このヘテロ元素を包含させることによって半導体として
の機能を持つカ−ボンが得られるのである。そして、カ
−ボン元素以外の前記ヘテロ元素を選択して、半導体の
機能を選択することができる。
周期律表第II、III、IV、V、あるいはVI族の
元素であるヘテロ元素を包含させることが必要であり、
このヘテロ元素を包含させることによって半導体として
の機能を持つカ−ボンが得られるのである。そして、カ
−ボン元素以外の前記ヘテロ元素を選択して、半導体の
機能を選択することができる。
【0012】前記のヘテロ元素と機能との関係として
は、例えば、p型半導体(あるいは半導体のp型拡散領
域)の場合のヘテロ元素としては、B、Al、Ga、I
nなどが挙げられ、n型半導体(あるいは半導体のn型
拡散領域)の場合のヘテロ元素としては、N、P、A
s、Sb、Biなどが挙げられる。特に、p型半導体
(あるいは半導体のp型拡散領域)の場合のヘテロ元素
としてはIII族のB、Al、Ga、Inなどが挙げら
れ、n型半導体(あるいは半導体のn型拡散領域)の場
合のヘテロ元素としては、好適にはV族のP、As、S
bなどが挙げられる。これらのヘテロ元素の含有量は、
ヘテロ元素の種類と目的とする機能によって異なる。
は、例えば、p型半導体(あるいは半導体のp型拡散領
域)の場合のヘテロ元素としては、B、Al、Ga、I
nなどが挙げられ、n型半導体(あるいは半導体のn型
拡散領域)の場合のヘテロ元素としては、N、P、A
s、Sb、Biなどが挙げられる。特に、p型半導体
(あるいは半導体のp型拡散領域)の場合のヘテロ元素
としてはIII族のB、Al、Ga、Inなどが挙げら
れ、n型半導体(あるいは半導体のn型拡散領域)の場
合のヘテロ元素としては、好適にはV族のP、As、S
bなどが挙げられる。これらのヘテロ元素の含有量は、
ヘテロ元素の種類と目的とする機能によって異なる。
【0013】また、有機高分子前駆体に含有させるヘテ
ロ元素を含む化合物として、例えば、有機リン化合物、
有機ボロン化合物、有機ヒ素化合物、有機アンチモン化
合物、有機アルミニウム化合物、有機ガリウム化合物、
有機インジウム化合物などを挙げることができる。
ロ元素を含む化合物として、例えば、有機リン化合物、
有機ボロン化合物、有機ヒ素化合物、有機アンチモン化
合物、有機アルミニウム化合物、有機ガリウム化合物、
有機インジウム化合物などを挙げることができる。
【0014】この発明において、有機高分子前駆体を高
温熱処理する方法としては、好適には真空中あるいは非
酸化性ガス雰囲気中、700−1500℃(特に800
−1000℃)で0.5−2時間程度加熱処理すること
によって行うことができる。この高温加熱処理によっ
て、ガラス状カ−ボン類似の脆弱さを持たない均質カ−
ボン化することが好ましい。特に、前記の加熱処理温度
として、700−900℃程度の比較的低い温度を選択
することによって、この発明の半導体におけるエネルギ
−帯の幅(ΔEt)を0.2eV程度以上とすることが
できる。
温熱処理する方法としては、好適には真空中あるいは非
酸化性ガス雰囲気中、700−1500℃(特に800
−1000℃)で0.5−2時間程度加熱処理すること
によって行うことができる。この高温加熱処理によっ
て、ガラス状カ−ボン類似の脆弱さを持たない均質カ−
ボン化することが好ましい。特に、前記の加熱処理温度
として、700−900℃程度の比較的低い温度を選択
することによって、この発明の半導体におけるエネルギ
−帯の幅(ΔEt)を0.2eV程度以上とすることが
できる。
【0015】この発明の方法において、好適には有機高
分子前駆体の高温加熱処理して得られたカ−ボンフィル
ムを、例えば黒鉛高純度炉などに入れて高純度化処理
し、最後に前記のヘテロ元素を導入しヘテロ元素を包含
させて、多種の半導体としての機能を持つカ−ボンを得
ることができる。
分子前駆体の高温加熱処理して得られたカ−ボンフィル
ムを、例えば黒鉛高純度炉などに入れて高純度化処理
し、最後に前記のヘテロ元素を導入しヘテロ元素を包含
させて、多種の半導体としての機能を持つカ−ボンを得
ることができる。
【0016】この発明において、カ−ボンにカ−ボン元
素以外の前記ヘテロ元素を導入する方法としては、イオ
ン注入法や拡散法などによってカ−ボンにカ−ボン元素
以外の前記ヘテロ元素ド−プさせる方法が挙げられる。
素以外の前記ヘテロ元素を導入する方法としては、イオ
ン注入法や拡散法などによってカ−ボンにカ−ボン元素
以外の前記ヘテロ元素ド−プさせる方法が挙げられる。
【0017】前記イオン拡散法によって、高温加熱処理
して得られた非ガラス状カ−ボンに、ヘテロ元素を導入
する方法が好ましい。前記のイオン注入法や拡散法など
によってカ−ボンにカ−ボン元素以外の前記ヘテロ元素
ド−プさせることによって、カ−ボンにヘテロ元素を包
含させて半導体としての機能を有するカ−ボンを得るこ
とができる。
して得られた非ガラス状カ−ボンに、ヘテロ元素を導入
する方法が好ましい。前記のイオン注入法や拡散法など
によってカ−ボンにカ−ボン元素以外の前記ヘテロ元素
ド−プさせることによって、カ−ボンにヘテロ元素を包
含させて半導体としての機能を有するカ−ボンを得るこ
とができる。
【0018】この発明によって得られるカ−ボン半導体
は、新規な材料であり従来のシリコン半導体に比べて耐
熱性が優れている。また、この発明によって得られるカ
−ボン半導体は、有機高分子前駆体の平面が平滑である
場合特段の研磨を必要としない。
は、新規な材料であり従来のシリコン半導体に比べて耐
熱性が優れている。また、この発明によって得られるカ
−ボン半導体は、有機高分子前駆体の平面が平滑である
場合特段の研磨を必要としない。
【0019】
【実施例】以下にこの発明の実施例を示す。以下の各例
において、有機高分子前駆体であるフィルムの物性測定
は以下の方法によって行った。 引張弾性率:ASTM D882−83に従って測定
(MD) 加熱収縮率:JIS C2318に従って測定(400
℃) 線膨張係数(23−300℃)測定:350℃で30分
加熱して応力緩和したサンプルをTMA装置(引張りモ
−ド、2g荷重、試料長10mm、20℃/分)で測定
において、有機高分子前駆体であるフィルムの物性測定
は以下の方法によって行った。 引張弾性率:ASTM D882−83に従って測定
(MD) 加熱収縮率:JIS C2318に従って測定(400
℃) 線膨張係数(23−300℃)測定:350℃で30分
加熱して応力緩和したサンプルをTMA装置(引張りモ
−ド、2g荷重、試料長10mm、20℃/分)で測定
【0020】実施例1 3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物とp−フェニレンジアミンとから得られた長尺状で
厚み50μmの芳香族ポリイミドフィルムを使用した。
このポリイミドフィルムの物性を次に示す。 引張弾性率(MD):900kg/mm2 加熱収縮率(400℃、2時間):0.5%未満 線膨張係数(23−300℃):1.3×10-5cm/
cm/℃
水物とp−フェニレンジアミンとから得られた長尺状で
厚み50μmの芳香族ポリイミドフィルムを使用した。
このポリイミドフィルムの物性を次に示す。 引張弾性率(MD):900kg/mm2 加熱収縮率(400℃、2時間):0.5%未満 線膨張係数(23−300℃):1.3×10-5cm/
cm/℃
【0021】前記のポリイミドフィルムを、幅20×長
さ40(mm)に裁断し、幅30×長さ50×厚み5
(mm)のサイズの板状黒煙にはさんで、窒素または水
素気流中、約900℃まで、平均4℃/分の昇温速度で
加熱した。この場合、外部からの汚染を最小にするため
の配慮を凝らした装置を使用して、すべての工程を実施
する。このようにして得られたカ−ボンフィルムは、通
常の均質ガラス状カ−ボンとは全く異なり、その両端を
180°折り曲げ合わせても、何らの破損、破断を生じ
なかった。
さ40(mm)に裁断し、幅30×長さ50×厚み5
(mm)のサイズの板状黒煙にはさんで、窒素または水
素気流中、約900℃まで、平均4℃/分の昇温速度で
加熱した。この場合、外部からの汚染を最小にするため
の配慮を凝らした装置を使用して、すべての工程を実施
する。このようにして得られたカ−ボンフィルムは、通
常の均質ガラス状カ−ボンとは全く異なり、その両端を
180°折り曲げ合わせても、何らの破損、破断を生じ
なかった。
【0022】実施例2 実施例1で使用したカ−ボンフィルムを、通常の黒鉛高
純度化炉に入れて、ハロゲン系ガス処理の方法によって
高純度化する。次に、このフィルムにイオン注入法また
は拡散法により、ド−プすべきヘテロ元素:B、Alま
たはGaを導入して、p型のカ−ボンフィルムの半導体
が得られる。
純度化炉に入れて、ハロゲン系ガス処理の方法によって
高純度化する。次に、このフィルムにイオン注入法また
は拡散法により、ド−プすべきヘテロ元素:B、Alま
たはGaを導入して、p型のカ−ボンフィルムの半導体
が得られる。
【0023】また、前記カ−ボンフィルムを両方向に延
伸処理して高配向性カ−ボンフィルムとする。高配向性
カ−ボンフィルムは機械的物性が改良される。
伸処理して高配向性カ−ボンフィルムとする。高配向性
カ−ボンフィルムは機械的物性が改良される。
【0024】実施例3 ド−プすべきヘテロ元素をP、AsまたはSbに変える
他は実施例2と同様に実施して、機械的物性は実施例2
と同等で、n型のカ−ボンフィルムの半導体が得られ
る。
他は実施例2と同様に実施して、機械的物性は実施例2
と同等で、n型のカ−ボンフィルムの半導体が得られ
る。
【0025】
【発明の効果】この発明は以上説明したように構成され
ているので、以下に記載のような効果を奏する。この発
明の方法によれば、機械的強度が実用的に大きく多種の
半導体としての機能を持つカ−ボンを製造することがで
きる。
ているので、以下に記載のような効果を奏する。この発
明の方法によれば、機械的強度が実用的に大きく多種の
半導体としての機能を持つカ−ボンを製造することがで
きる。
Claims (5)
- 【請求項1】有機高分子を前駆体とし、この有機高分子
前駆体を高温熱処理してカ−ボンとし、該カ−ボン中に
カ−ボン元素以外の周期律表第II、III、IV、
V、あるいはVI族の元素であるヘテロ元素を包含させ
た半導体としての多種の機能を持つカ−ボンの製法。 - 【請求項2】カ−ボン元素以外の前記ヘテロ元素を含む
化合物を、有機高分子前駆体に含有させた後に、高温熱
処理してなる請求項1記載の半導体としての多種の機能
を持つカ−ボンの製法。 - 【請求項3】有機高分子前駆体を高温熱処理してカ−ボ
ン化する際に、高純度化処理を併用して得られるカ−ボ
ンに、カ−ボン元素以外の前記ヘテロ元素をド−プさせ
る請求項1記載の半導体としての多種の機能を持つカ−
ボンの製法。 - 【請求項4】有機高分子前駆体に応力を付加しながら熱
処理することにより、カ−ボン分子の配向性をもたせた
ものにヘテロ元素をド−プする請求項1記載の半導体と
しての多種の機能を持つカ−ボンの製法。 - 【請求項5】有機高分子前駆体が、高耐熱性ポリイミド
フィルムである請求項1記載の半導体としての多種の機
能を持つカ−ボンの製法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11075629A JP2000269159A (ja) | 1999-03-19 | 1999-03-19 | 半導体としての多種の機能を持つカ−ボンの製法 |
US10/141,804 US6607676B2 (en) | 1999-03-19 | 2002-05-08 | Preparation of carbonaceous semiconductor material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11075629A JP2000269159A (ja) | 1999-03-19 | 1999-03-19 | 半導体としての多種の機能を持つカ−ボンの製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000269159A true JP2000269159A (ja) | 2000-09-29 |
Family
ID=13581738
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11075629A Pending JP2000269159A (ja) | 1999-03-19 | 1999-03-19 | 半導体としての多種の機能を持つカ−ボンの製法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6607676B2 (ja) |
JP (1) | JP2000269159A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002308611A (ja) * | 2001-04-06 | 2002-10-23 | Ube Ind Ltd | グラファイト層状シ−ト物及びその製造方法 |
JP2004123506A (ja) * | 2002-03-06 | 2004-04-22 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | フィルム状グラファイトの製造方法 |
JP2009196887A (ja) * | 2002-03-06 | 2009-09-03 | Kaneka Corp | フィルム状グラファイトの製造方法 |
JP2010159176A (ja) * | 2009-01-07 | 2010-07-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 放熱シートの製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3362917A (en) * | 1965-10-12 | 1968-01-09 | Research Corp | Polymeric organic semiconductor |
US4236307A (en) * | 1978-11-02 | 1980-12-02 | Johnson Controls Inc. | Method of making a nitrogen dioxide sensing element |
US4401590A (en) * | 1980-03-26 | 1983-08-30 | Matsushita Electric Industrial Company, Limited | Conductive pyrolytic product and composition using same |
US4599193A (en) * | 1983-06-30 | 1986-07-08 | Director-General Of The Agency Of Industrial Science And Technology, An Organ Of The Ministry Of International Trade And Industry Of Japan | Highly electroconductive pyrolyzed product retaining its original shape and composition formed therefrom |
DE69500394T2 (de) * | 1994-01-18 | 1997-10-23 | Nisshin Spinning | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Halbleitern |
-
1999
- 1999-03-19 JP JP11075629A patent/JP2000269159A/ja active Pending
-
2002
- 2002-05-08 US US10/141,804 patent/US6607676B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002308611A (ja) * | 2001-04-06 | 2002-10-23 | Ube Ind Ltd | グラファイト層状シ−ト物及びその製造方法 |
JP2004123506A (ja) * | 2002-03-06 | 2004-04-22 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | フィルム状グラファイトの製造方法 |
JP2009196887A (ja) * | 2002-03-06 | 2009-09-03 | Kaneka Corp | フィルム状グラファイトの製造方法 |
JP2010159176A (ja) * | 2009-01-07 | 2010-07-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 放熱シートの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6607676B2 (en) | 2003-08-19 |
US20020130297A1 (en) | 2002-09-19 |
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Legal Events
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A621 | Written request for application examination |
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A02 | Decision of refusal |
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