KR970070243A - 플라즈마 처리 장치 및 플라즈마 처리 장치용 보호부재 - Google Patents
플라즈마 처리 장치 및 플라즈마 처리 장치용 보호부재 Download PDFInfo
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Abstract
2개의 플라즈마 발생용 전극을 수용하여 이 전극 사이에 플라즈마 영역을 형성하는 플라즈마 처리실내에서 양 전극의 양측에 플라즈마 영역을 덮도록 배치되는 플라즈마 처리 장치용 보호부재에 있어서, 이 보호부재의 적어도 플라즈마 영역측 표면을 유리상 탄소 재료로 형성함으로서 보호부재의 유효수명을 길게 하고 전극에서 분진이 발생하는 것을 억제하는 플라즈마 처리 장치용 보호부재가 개시되어 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 한 실시예를 나타내는 개략도이다.
Claims (2)
- 플라즈마 발생용 전극이 배치된 플라즈마 처리실을 포함하는 플라즈마 처리 장치에 있어서, 상기 플라즈마 처리실내의 상기 전극이외의 플라즈마에 노출되는 부분의 적어도 표면을 유리상 탄소 재료로 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
- 2개의 플라즈마 발생용 전극을 수용하여 이 전극 사이에 플라즈마 영역을 형성하는 플라즈마 처리실내에서 양 전극의 양측에 상기 플라즈마 영역을 덮도록 배치되는 플라즈마 처리 장치용 보호부재에 있어서, 이 보호부재의 적어도 플라즈마 영역측 표면을 유리상 탄소 재료로 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치용 보호부재.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP96-124075 | 1996-04-22 | ||
JP12407596A JP3444090B2 (ja) | 1996-04-22 | 1996-04-22 | プラズマ処理装置用保護部材 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR970070243A true KR970070243A (ko) | 1997-11-07 |
Family
ID=14876321
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019970014841A KR970070243A (ko) | 1996-04-22 | 1997-04-22 | 플라즈마 처리 장치 및 플라즈마 처리 장치용 보호부재 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0803896B1 (ko) |
JP (1) | JP3444090B2 (ko) |
KR (1) | KR970070243A (ko) |
DE (1) | DE69727094T2 (ko) |
TW (1) | TW425437B (ko) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP4037956B2 (ja) * | 1998-04-28 | 2008-01-23 | 東海カーボン株式会社 | チャンバー内壁保護部材 |
JP2003520429A (ja) * | 2000-01-11 | 2003-07-02 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 半導体エッチングチャンバ用ライナ |
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Family Cites Families (3)
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-
1996
- 1996-04-22 JP JP12407596A patent/JP3444090B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-04-17 TW TW086104964A patent/TW425437B/zh not_active IP Right Cessation
- 1997-04-22 DE DE69727094T patent/DE69727094T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-04-22 EP EP97302744A patent/EP0803896B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-22 KR KR1019970014841A patent/KR970070243A/ko not_active Application Discontinuation
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0803896A3 (en) | 1998-07-15 |
EP0803896A2 (en) | 1997-10-29 |
JPH09289198A (ja) | 1997-11-04 |
DE69727094T2 (de) | 2004-09-09 |
DE69727094D1 (de) | 2004-02-12 |
EP0803896B1 (en) | 2004-01-07 |
JP3444090B2 (ja) | 2003-09-08 |
TW425437B (en) | 2001-03-11 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application |