KR980005796A - 반도체 소자의 플라즈마 식각장치 - Google Patents

반도체 소자의 플라즈마 식각장치 Download PDF

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KR980005796A
KR980005796A KR1019960022862A KR19960022862A KR980005796A KR 980005796 A KR980005796 A KR 980005796A KR 1019960022862 A KR1019960022862 A KR 1019960022862A KR 19960022862 A KR19960022862 A KR 19960022862A KR 980005796 A KR980005796 A KR 980005796A
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plasma etching
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plasma
electrodes
supplying
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KR1019960022862A
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임성애
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김주용
현대전자산업 주식회사
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Abstract

본 발명은 플라즈마를 이용한 반도체 소자의 플라즈마 식각장치를 개시한다. 이 장치는 반응가스가 충입되는 가스 챔버내에 한쌍의 전극이 소정간격으로 대향되게 배치되고 ,그 각각의 전극에는 RF 파워를 공급하기 위한 RF 공급수단이 연결된다.

Description

반도체 소자의 플라즈마 식각장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 식각장치의 구성도.

Claims (1)

  1. 반응가스가 충입되는 가스 챔버내에 한쌍의 전극이 소정간격으로 대향되게 배치되고 ,그 각각의 전극에는 RF 파워를 공급하기 위한 RF 공급수단이 연결된 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 플라즈마 식각장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960022862A 1996-06-21 1996-06-21 반도체 소자의 플라즈마 식각장치 KR980005796A (ko)

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