JPH042033A - 試料のイオン化および質量分析のための装置 - Google Patents
試料のイオン化および質量分析のための装置Info
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- JPH042033A JPH042033A JP2100323A JP10032390A JPH042033A JP H042033 A JPH042033 A JP H042033A JP 2100323 A JP2100323 A JP 2100323A JP 10032390 A JP10032390 A JP 10032390A JP H042033 A JPH042033 A JP H042033A
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- H01J49/02—Details
- H01J49/04—Arrangements for introducing or extracting samples to be analysed, e.g. vacuum locks; Arrangements for external adjustment of electron- or ion-optical components
- H01J49/0468—Arrangements for introducing or extracting samples to be analysed, e.g. vacuum locks; Arrangements for external adjustment of electron- or ion-optical components with means for heating or cooling the sample
- H01J49/049—Arrangements for introducing or extracting samples to be analysed, e.g. vacuum locks; Arrangements for external adjustment of electron- or ion-optical components with means for heating or cooling the sample with means for applying heat to desorb the sample; Evaporation
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- H01J49/145—Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers using chemical ionisation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は試料のイオン化および質量分析のための装置に
関する。
関する。
液体クロマトグラフ質量分析装置によれば、液体クロマ
トグラフから流出する試料成分と溶媒を含む流出物は霧
化器に導びかれ、霧化される。霧化された流出物は更に
脱溶媒室に導かれ、その中の溶媒が試料成分から分離、
除去される。試料成分はイオン源に導びかれてイオン化
され、そのようにして生じたイオンは質量分析部に導か
れて質量分析され、そしてその質量分析されたイオンは
検出される。
トグラフから流出する試料成分と溶媒を含む流出物は霧
化器に導びかれ、霧化される。霧化された流出物は更に
脱溶媒室に導かれ、その中の溶媒が試料成分から分離、
除去される。試料成分はイオン源に導びかれてイオン化
され、そのようにして生じたイオンは質量分析部に導か
れて質量分析され、そしてその質量分析されたイオンは
検出される。
一般に利用ないしは知られている霧化装置によれば、液
体クロマトグラフからの流出物は内径１００μｍのパイ
プから大気圧中に噴呂されて霧化され、その霧化した流
出物は同様に内径１００μｍのパイプを通して脱溶媒室
へ導かれる。これに関連するものとして、アナリテイカ
ル・ケミストリー（Ａｎａｌｉｔｉｃａｌ Ｃｈｅｍｉ
ｓｔｏｒｙ）ｔ １９８８ 、第６０巻、第７７４〜
７８０が挙げられる。
体クロマトグラフからの流出物は内径１００μｍのパイ
プから大気圧中に噴呂されて霧化され、その霧化した流
出物は同様に内径１００μｍのパイプを通して脱溶媒室
へ導かれる。これに関連するものとして、アナリテイカ
ル・ケミストリー（Ａｎａｌｉｔｉｃａｌ Ｃｈｅｍｉ
ｓｔｏｒｙ）ｔ １９８８ 、第６０巻、第７７４〜
７８０が挙げられる。
前述したように、一般の霧化装置では、流出物は大気中
に噴霧される。したがって、噴霧流と周囲の大気との摩
擦により噴霧流の周りに大気が吸引されるので、霧化さ
れた液滴と気体との衝突が活発化し、液滴の微細化が促
進される。
に噴霧される。したがって、噴霧流と周囲の大気との摩
擦により噴霧流の周りに大気が吸引されるので、霧化さ
れた液滴と気体との衝突が活発化し、液滴の微細化が促
進される。
しかし、流出物の噴霧空間は大気開放形のため外気吸引
が外気の乱れの影響を直接受けることになり、したがっ
て安定なイオン化がそこなわれ、これが質量分析精度の
低下につながるという問題がある。
が外気の乱れの影響を直接受けることになり、したがっ
て安定なイオン化がそこなわれ、これが質量分析精度の
低下につながるという問題がある。
したがって、本発明の目的は噴霧流への気体の供給が外
気変動により直接影響を受けるのを避け、もって安定な
イオン化が図られるのに適した試料のイオン化および質
量分析のための装置を提供することにある。
気変動により直接影響を受けるのを避け、もって安定な
イオン化が図られるのに適した試料のイオン化および質
量分析のための装置を提供することにある。
本発明によれば、試料霧化手段は試料が噴霧される空回
を囲む部材と、その噴霧空間に気体を導く気体流入口と
を備えている。
を囲む部材と、その噴霧空間に気体を導く気体流入口と
を備えている。
〔作用〕
試料が噴霧される空間はその空間包囲部材で囲まれ、そ
して気体は噴霧流に気体導入口を通して供給される。し
たがって、本発明によれば、完全大気開放形試料噴霧空
間を有する、一般に利用されあるいは知られている例に
比べて噴出流への気体供給量の直接的な大気変動による
影響が軽減され、もって安定なイオン化が図られる。
して気体は噴霧流に気体導入口を通して供給される。し
たがって、本発明によれば、完全大気開放形試料噴霧空
間を有する、一般に利用されあるいは知られている例に
比べて噴出流への気体供給量の直接的な大気変動による
影響が軽減され、もって安定なイオン化が図られる。
第１図を参照するに、溶離液貯槽１に貯えられた移動相
である溶離液はポンプ２で送り出さ九ダンパ３で脈流が
とられ、安定な流れとなり試料注入口４を経てカラム５
へ送られる。試料は試料注入口４から注入され、カラム
５で成分ごとに分離される。溶離液は液体クロマトグラ
フ／質量分析計（ＬＣ／ＭＳ）インターフェイス６′に
送られる。インターフェイス６′においては、マイクロ
バイブロはヒータ７を内蔵したヒートブロック８で加熱
される。溶離液はマイクロバイブロａの先端から脱溶媒
室９の噴霧室８ａに噴霧される。それにより生成した霧
滴はヒータ７を内蔵した脱溶媒室９の加熱により気化し
、コロナ放電ニードル１０部へ達する。コロナ放電ニー
ドル１０へは高圧電源１１から高電圧が供給され、コロ
ナ放電ニードル部先端よりコロナ放電が生ずる。このコ
ロナ放電によりカラム５からの流出物中の溶媒分子がイ
オン化され、更にイオン分子反応により溶質分子すなわ
ち試料成分がイオン化される。このイオン分子反応後不
要の溶媒は開口部１９より大気中にファンで排気される
。生成したイオンは第１スキマー１２を経て差動排気系
部２０へ導入され、溶媒分子は真空ポンプで排気される
。イオンは更に第２スキマー１３から質量分析部１４′
に導かれる。すなわち、イオンはイオン引圧し電極１４
で加速され、四重極１５に入り質量分析、すなわち質量
ふるいを受け、検出器１６で検圧される。
である溶離液はポンプ２で送り出さ九ダンパ３で脈流が
とられ、安定な流れとなり試料注入口４を経てカラム５
へ送られる。試料は試料注入口４から注入され、カラム
５で成分ごとに分離される。溶離液は液体クロマトグラ
フ／質量分析計（ＬＣ／ＭＳ）インターフェイス６′に
送られる。インターフェイス６′においては、マイクロ
バイブロはヒータ７を内蔵したヒートブロック８で加熱
される。溶離液はマイクロバイブロａの先端から脱溶媒
室９の噴霧室８ａに噴霧される。それにより生成した霧
滴はヒータ７を内蔵した脱溶媒室９の加熱により気化し
、コロナ放電ニードル１０部へ達する。コロナ放電ニー
ドル１０へは高圧電源１１から高電圧が供給され、コロ
ナ放電ニードル部先端よりコロナ放電が生ずる。このコ
ロナ放電によりカラム５からの流出物中の溶媒分子がイ
オン化され、更にイオン分子反応により溶質分子すなわ
ち試料成分がイオン化される。このイオン分子反応後不
要の溶媒は開口部１９より大気中にファンで排気される
。生成したイオンは第１スキマー１２を経て差動排気系
部２０へ導入され、溶媒分子は真空ポンプで排気される
。イオンは更に第２スキマー１３から質量分析部１４′
に導かれる。すなわち、イオンはイオン引圧し電極１４
で加速され、四重極１５に入り質量分析、すなわち質量
ふるいを受け、検出器１６で検圧される。
検出器１６の８力は直流増幅器１７で増幅され、データ
処理装置１８に送られるにこで質量分析部は四重極であ
るが、磁場形やその他の方式でもかまわない。
処理装置１８に送られるにこで質量分析部は四重極であ
るが、磁場形やその他の方式でもかまわない。
脱溶媒室９はヒートブロック８に熱ｌ＠縁体８ｂを介し
て結合されており、これによりマイクロバイブロと脱溶
媒室９は別々の温度に加熱、設定され得る。
て結合されており、これによりマイクロバイブロと脱溶
媒室９は別々の温度に加熱、設定され得る。
脱溶媒室９はマイクロバイブロの先端からの噴霧流の周
りに等間隔に配置されるように複数の気体吸引口９ａが
設けられており、ここから大気が噴Ｓ流の周りに吸引さ
れる。
りに等間隔に配置されるように複数の気体吸引口９ａが
設けられており、ここから大気が噴Ｓ流の周りに吸引さ
れる。
カラム５からの流出物はマイクロバイブロ内では気化さ
れず、その先端から噴霧室８ａ（これは噴霧流軸対称の
円錐形状である）に噴出したときに一気に霧化される。
れず、その先端から噴霧室８ａ（これは噴霧流軸対称の
円錐形状である）に噴出したときに一気に霧化される。
この霧化された噴霧流はベルヌーイの法則により気体吸
引口９ａからの大気との摩擦でその大気を吸引し、それ
によって生成した液滴と吸引した気体との衝突が活発化
し、霧状の液滴の微細化が促進される。この微細化はイ
オン化効率の向上、したがって質量分析の感度向上につ
ながる。もちろん、そのようにして微細化された液滴は
脱溶媒室９を通るとき加熱下にさらされることによりよ
り微細化される。
引口９ａからの大気との摩擦でその大気を吸引し、それ
によって生成した液滴と吸引した気体との衝突が活発化
し、霧状の液滴の微細化が促進される。この微細化はイ
オン化効率の向上、したがって質量分析の感度向上につ
ながる。もちろん、そのようにして微細化された液滴は
脱溶媒室９を通るとき加熱下にさらされることによりよ
り微細化される。
説明かられかるように、噴霧室８ａは完全大気開放形で
はなく、壁により囲まれてできており、したがって完全
大気開放形に比べて大気吸引量、つまり噴霧流に向かっ
ての気体供給量が大気変動の直接的影響を受けがたい。
はなく、壁により囲まれてできており、したがって完全
大気開放形に比べて大気吸引量、つまり噴霧流に向かっ
ての気体供給量が大気変動の直接的影響を受けがたい。
このため、安定なイオン化が図られる。
第２および３図は本発明にもとづくもう一つの実施例の
インターフェースの主要部を示す。気体導入孔９ａ〜１
はヒートブロック８内に設けられている。供給される気
体はヒートブロック８内を通る際に加熱さ九る。加熱さ
れた気体は液滴と衝突して微細化し更に気化を助長する
。気体導入孔９ａ−１は噴霧軸対称に複数個設け、気体
が安定に供給されるようにすればよい。
インターフェースの主要部を示す。気体導入孔９ａ〜１
はヒートブロック８内に設けられている。供給される気
体はヒートブロック８内を通る際に加熱さ九る。加熱さ
れた気体は液滴と衝突して微細化し更に気化を助長する
。気体導入孔９ａ−１は噴霧軸対称に複数個設け、気体
が安定に供給されるようにすればよい。
第４図は本発明にもとづく更にもう一つの実施例のイン
ターフェースの主要部を示す。この実施例はヒートブロ
ック８と脱溶媒室９の間にわずかの間隙９ａ−２を設け
、この間隙を通して気体を噴霧流に供給するようにした
ものである。９ｃは調整具で、これはヒートブロック８
の外周と脱溶媒室９の外周にそれぞれねじ係合している
。ただし、一方とのねじ係合は左ねじ係合、他方とのね
じ係合は右ねじ係合となっている。したがって、調整具
９ｃをまわすことにより間隙９ａ−２を調整することが
できる。また、調整具９ｃの外周は気体の流通を妨げな
いように大部分開口している。
ターフェースの主要部を示す。この実施例はヒートブロ
ック８と脱溶媒室９の間にわずかの間隙９ａ−２を設け
、この間隙を通して気体を噴霧流に供給するようにした
ものである。９ｃは調整具で、これはヒートブロック８
の外周と脱溶媒室９の外周にそれぞれねじ係合している
。ただし、一方とのねじ係合は左ねじ係合、他方とのね
じ係合は右ねじ係合となっている。したがって、調整具
９ｃをまわすことにより間隙９ａ−２を調整することが
できる。また、調整具９ｃの外周は気体の流通を妨げな
いように大部分開口している。
第５図は本発明にもとづく別のもう一つの実施例のイン
ターフェースの主要部を示す。第４図と同様ヒートブロ
ック８と脱溶媒室９の間に気体が通る隙間９ａ−３を設
ける点は同じであるが、ただ第５図では隙間９ａ−３が
円錐環状をなすようにヒートブロック８の噴霧流出端は
凸面円錐形を、脱溶媒室９の噴霧流人端は同じ傾きをも
つ凹面円錐形をなしている。第４図に比べて、気体流入
路が傾いているため気体導入がより安定的となる。
ターフェースの主要部を示す。第４図と同様ヒートブロ
ック８と脱溶媒室９の間に気体が通る隙間９ａ−３を設
ける点は同じであるが、ただ第５図では隙間９ａ−３が
円錐環状をなすようにヒートブロック８の噴霧流出端は
凸面円錐形を、脱溶媒室９の噴霧流人端は同じ傾きをも
つ凹面円錐形をなしている。第４図に比べて、気体流入
路が傾いているため気体導入がより安定的となる。
第４図および第５図のいずれの場合も間隙９ａ−２およ
び９ａ−３の大きさが重要である。
び９ａ−３の大きさが重要である。
第６図に第５図に示した形状のヒートブロックと脱溶媒
室を用いて間隔りとクラスターイオンの関係をとった実
験データを示す。測定条件は次のとおりである。
室を用いて間隔りとクラスターイオンの関係をとった実
験データを示す。測定条件は次のとおりである。
移動相：水１００％
ヒートブロック＝３２０℃
脱溶媒室温度＝４００℃
水を噴霧すると質量スペクトル上には
（ＨａＯ（ＨｚＯ）。−（ｎ＝Ｏ〜１０）のイオンが出
現する。第６図は（ＨａＯ（ＨｚＯ））”のイオン強度
Ｉ ｌ ト（ＨａＯ（Ｈ２Ｏ）５） （７） イオン強
度■２のイオン強度比ＩＺ／Ｉｆと間隔りとの関係を示
すものである。間隔りが１１ｍ以下では（Ｈａ Ｏ（Ｈ
２０）５）１が（ＨａＯ（Ｈ２Ｏ））より強度が高い。
現する。第６図は（ＨａＯ（ＨｚＯ））”のイオン強度
Ｉ ｌ ト（ＨａＯ（Ｈ２Ｏ）５） （７） イオン強
度■２のイオン強度比ＩＺ／Ｉｆと間隔りとの関係を示
すものである。間隔りが１１ｍ以下では（Ｈａ Ｏ（Ｈ
２０）５）１が（ＨａＯ（Ｈ２Ｏ））より強度が高い。
しかしＤが２国になると急激にこの比は小さくなり、２
ｍを越えて間隔が広がると、この比は少し上昇し、１０
閣を越えると再び下降しはじめる。
ｍを越えて間隔が広がると、この比は少し上昇し、１０
閣を越えると再び下降しはじめる。
第７図に第６図と同条件でピリジン１００ナノグラムを
注入し、その振分子イオンの感度（面積値）と間隔りと
の関係を示す。
注入し、その振分子イオンの感度（面積値）と間隔りと
の関係を示す。
２ｍで最大感度を示し間隔りが大きくなるにつれすこし
ずつ下降する。なお縦軸は任意単位である。
ずつ下降する。なお縦軸は任意単位である。
第８図に間隔２ｍｎと２０ｍの時のピリジン擬分子イオ
ン（ｍ／ｚ８０）の感度（ピーク面積）と流量の関係を
示す。１ ｍ Ｑ ／ｗｉｎの流量の時最大感度になる
ようヒートブロック温度を設定し、その値は実験を通し
変えなかった。１ｍＱ／ｌｌｌ１ｎの時のピリジンの感
度を１００としてプロットしである。間隔りが２０ｍａ
＋において感度が５０％になる所は０．５ｍＱ／ｗｉｎ
と１．５ｍＱ／ｗｉｎであるのに対し、間隔りが２ｍｍ
の時は０．３ｍＱ／ｍｉｎと１．６ｍＵ／ｗｉｎとなり
、間隔２ｗＩの使用範囲が広がっていることがわかる。
ン（ｍ／ｚ８０）の感度（ピーク面積）と流量の関係を
示す。１ ｍ Ｑ ／ｗｉｎの流量の時最大感度になる
ようヒートブロック温度を設定し、その値は実験を通し
変えなかった。１ｍＱ／ｌｌｌ１ｎの時のピリジンの感
度を１００としてプロットしである。間隔りが２０ｍａ
＋において感度が５０％になる所は０．５ｍＱ／ｗｉｎ
と１．５ｍＱ／ｗｉｎであるのに対し、間隔りが２ｍｍ
の時は０．３ｍＱ／ｍｉｎと１．６ｍＵ／ｗｉｎとなり
、間隔２ｗＩの使用範囲が広がっていることがわかる。
以上の事実について考察すると、間隔りがＯ１即ちヒー
トブロックと脱溶媒室が密着すると、噴霧室内が負圧と
なり、霧の微細化が行われずクラスタイオンが大きくな
ると考えられる。そのためピリジンイオンの感度も不充
分となる。一方間隔を太きく（２０＋ｍ＋）とすると空
気が良く供給され、霧の微細化がすすみクラスターイオ
ンは小さくなる。しかし、比較的温度の低い空気が供給
されるため霧の微細化は限界がある。間隔２ｍｍにおい
ては、加熱された間隔を空気が通過する際加熱されるた
め、霧の微細化は進むと考えられる。そのため、クラス
タイオンの減少と分析対象イオンの増加が得られたと考
えられる。
トブロックと脱溶媒室が密着すると、噴霧室内が負圧と
なり、霧の微細化が行われずクラスタイオンが大きくな
ると考えられる。そのためピリジンイオンの感度も不充
分となる。一方間隔を太きく（２０＋ｍ＋）とすると空
気が良く供給され、霧の微細化がすすみクラスターイオ
ンは小さくなる。しかし、比較的温度の低い空気が供給
されるため霧の微細化は限界がある。間隔２ｍｍにおい
ては、加熱された間隔を空気が通過する際加熱されるた
め、霧の微細化は進むと考えられる。そのため、クラス
タイオンの減少と分析対象イオンの増加が得られたと考
えられる。
第９図は本発明にもとづく更に別の実施例のインターフ
ェースの主要部を示す。第５図までの実施例は気体供給
が霧化室８ａを通る噴霧流による減圧現象を利用した自
然供給形であるのに対して、第９図の実施例は気体を強
制的にコントロールして供給することができるタイプの
ものである。すなわち、窒素やヘリウムなどの気体をガ
ス溜め１０に１気圧以上にして貯えると、このガス溜め
１０から気体が気体流入口９ｄ、環状気体流入口９ｅお
よび円周上に設けられた複数の気体流出口９ｆを通して
霧化室８ａに強制的に供給される。
ェースの主要部を示す。第５図までの実施例は気体供給
が霧化室８ａを通る噴霧流による減圧現象を利用した自
然供給形であるのに対して、第９図の実施例は気体を強
制的にコントロールして供給することができるタイプの
ものである。すなわち、窒素やヘリウムなどの気体をガ
ス溜め１０に１気圧以上にして貯えると、このガス溜め
１０から気体が気体流入口９ｄ、環状気体流入口９ｅお
よび円周上に設けられた複数の気体流出口９ｆを通して
霧化室８ａに強制的に供給される。
もちろん、ガス溜１０の圧力が１気圧になるように気体
をガス溜め１０に貯えれば前述した自然供給方式と同様
に気体が霧化室８ａの減圧状態に応じて霧化室８ａに供
給される。１１はガス溜め１０を加熱するためのヒータ
である。
をガス溜め１０に貯えれば前述した自然供給方式と同様
に気体が霧化室８ａの減圧状態に応じて霧化室８ａに供
給される。１１はガス溜め１０を加熱するためのヒータ
である。
なお１本発明にもとづくインターフェースはＳＦＣ／Ｍ
Ｓ （超臨界流体クロマトグラフ／質量分析計）、キャ
ピラリーゾーン電気泳動／質量分析計に利用することも
でき、また液体クロマトグラフの検畠器として用いるこ
ともできる。
Ｓ （超臨界流体クロマトグラフ／質量分析計）、キャ
ピラリーゾーン電気泳動／質量分析計に利用することも
でき、また液体クロマトグラフの検畠器として用いるこ
ともできる。
本発明によれば、噴霧流への気体の供給が外気変動によ
り直接影響を受けるのを避け、もって安定なイオン化が
図られるのに適した試料のイオン化および質量分析のた
めの装置が提供される。
り直接影響を受けるのを避け、もって安定なイオン化が
図られるのに適した試料のイオン化および質量分析のた
めの装置が提供される。
第１図は本発明にもとづく一実施例を示すＬＣ／ＭＳの
構成図、第２図は本発明にもとづくもう一つのインター
フェースの主要部の縦断面図、第３図は第２図のｍ−ｍ
’線に沿う断面図、第４図および第５図は本発明にもと
づく別の実施例のインターフェースの主要部の縦断面図
、第６図は気体流入間隙りに対するイオン強度比Ｉ２／
Ｉｆの関係を示す図、第７図は気体流入間隙りに対する
イオン強度■の関係を示す図、第８図は試料注入量に対
する感度の関係を示す図、第９図は本発明にもとづく更
に別の一実施例のインターフェースの主要部の縦断面図
である。 ５・・・カラム、８・・・ヒートブロック、９・・・脱
溶媒室、９ｄ・・・気体流入口、１４′質量分析部、１
８ａ・・第 図 第 図 一〒酬り 第 図 第 図 １．６ ｍｔ／ｍｉｎ
構成図、第２図は本発明にもとづくもう一つのインター
フェースの主要部の縦断面図、第３図は第２図のｍ−ｍ
’線に沿う断面図、第４図および第５図は本発明にもと
づく別の実施例のインターフェースの主要部の縦断面図
、第６図は気体流入間隙りに対するイオン強度比Ｉ２／
Ｉｆの関係を示す図、第７図は気体流入間隙りに対する
イオン強度■の関係を示す図、第８図は試料注入量に対
する感度の関係を示す図、第９図は本発明にもとづく更
に別の一実施例のインターフェースの主要部の縦断面図
である。 ５・・・カラム、８・・・ヒートブロック、９・・・脱
溶媒室、９ｄ・・・気体流入口、１４′質量分析部、１
８ａ・・第 図 第 図 一〒酬り 第 図 第 図 １．６ ｍｔ／ｍｉｎ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、試料を霧化する手段と、その霧化した試料をイオン
化する手段とを備えた試料のイオン化装置であって、前
記試料霧化手段は前記試料が噴霧される空間を囲む部材
と、その噴霧空間に気体を導く気体流入口とを備えてい
ることを特徴とする試料のイオン化装置。 ２、試料を霧化する手段と、その霧化した試料をイオン
化する手段とを備えた試料のイオン化装置であつて、前
記試料霧化手段は前記試料が噴出される空間を囲む部材
と、その噴霧空間に前記試料によつて吸引される気体を
導く気体流入口とを備えていることを特徴とする試料の
イオン化装置。 ３、前記気体の量を調節する手段を備えている請求項１
にもとづく試料のイオン化装置。 ４、試料を霧化する手段と、その霧化した試料をイオン
化する手段とを備えた試料のイオン化装置であつて、前
記試料霧化手段は前記試料が通る試料流入路と、該流入
路からの試料が噴霧される空間と、その噴霧空間に気体
を導く気体流入口とを備えている試料のイオン化装置。 ５、試料を霧化する手段と、その霧化した試料をイオン
化する手段とを備えた試料のイオン化装置であつて、前
記試料霧化手段は前記試料が通る試料流入路と、該流入
路からの試料が噴霧される空間と、その噴霧空間に気体
を導くための、前記試料流入路の周りに設けられた複数
の気体流入路とを備えている試料のイオン化装置。 ６、前記試料霧化装置はヒートブロックを含み、前記試
料流入路および前記複数の気体流入路は前記ヒートブロ
ックを貫通している請求項５にもとづく試料のイオン化
装置。 ７、試料を霧化する手段と、その霧化した試料をイオン
化する手段とを備えた試料のイオン化装置であつて、前
記試料霧化手段は前記試料が通る試料流入路を形成する
部材と、その試料流入路からの試料が噴霧される空間を
形成する部材とを備え、前記両部材はこれらの部材間か
ら前記噴霧空間に気体が導入されるように間隔づけられ
ていることを特徴とする試料のイオン化装置。 ８、前記間隙は円錐環状に形成されている請求項７にも
とづく試料のイオン化装置。 ９、前記間隙を調整する手段を備えている請求項７にも
とづく試料のイオン化装置。 １０、前記気体を加熱するための手段を備えている請求
項１、２、４、５または７にもとづく試料のイオン化装
置。 １１、試料を霧化する手段と、その霧化した試料をイオ
ン化する手段とを備えた試料のイオン化装置であつて、
前記霧化手段は前記試料が通る試料流入路を形成する部
材と、その試料流入路からの試料が噴霧される空間を形
成する部材と両部材間に形成された熱絶縁体と、前記噴
霧空間に気体を導く気体流入路とを備えていることを特
徴とする試料のイオン化装置。 １２、液体クロマトグラフと、該液体クロマトグラフか
らの、試料成分と溶媒を含む流出物を霧化する手段と、
その霧化した流出物中の溶媒を試料成分から分離し、除
去する手段と、該溶媒分離除去手段からの試料成分をイ
オン化する手段と、そのイオン化されたイオンを質量分
析する手段と、その質量分析されたイオンを検出する手
段とを備え、前記霧化手段は前記液体クロマトグラフか
らの流出物が噴霧される空間を規定する部材とその噴霧
空間に気体を導く気体流入路とを備えている試料の質量
分析装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2100323A JP2633974B2 (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 試料のイオン化および質量分析のための装置 |
| US07/686,361 US5170052A (en) | 1990-04-18 | 1991-04-17 | Apparatus for sample ionization and mass spectrometry |
| DE69120583T DE69120583T2 (de) | 1990-04-18 | 1991-04-18 | Vorrichtung zur Probeionisierung und Massenspektrometrie |
| EP91106232A EP0452930B1 (en) | 1990-04-18 | 1991-04-18 | Apparatus for sample ionization and mass spectrometry |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2100323A JP2633974B2 (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 試料のイオン化および質量分析のための装置 |
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|---|---|---|---|
| JP8291459A Division JPH09119915A (ja) | 1996-11-01 | 1996-11-01 | 試料のイオン化および質量分析のための装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH042033A true JPH042033A (ja) | 1992-01-07 |
| JP2633974B2 JP2633974B2 (ja) | 1997-07-23 |
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ID=14270970
Family Applications (1)
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| JP2014517476A (ja) * | 2011-06-03 | 2014-07-17 | マイクロマス ユーケー リミテッド | 質量分析計のためのイオン引込口 |
| JP2021089227A (ja) * | 2019-12-05 | 2021-06-10 | 株式会社島津製作所 | イオン分析装置 |
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- 1991-04-18 DE DE69120583T patent/DE69120583T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-04-18 EP EP91106232A patent/EP0452930B1/en not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
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| EP0452930A3 (en) | 1991-12-18 |
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| DE69120583T2 (de) | 1997-02-13 |
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| DE69120583D1 (de) | 1996-08-08 |
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