JPH041656A

JPH041656A - 電子写真感光体の製造方法

Info

Publication number: JPH041656A
Application number: JP10273190A
Authority: JP
Inventors: Hideo Yoshizawa; 英男吉沢
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1990-04-18
Filing date: 1990-04-18
Publication date: 1992-01-07

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は電子写真感光体の製造方法に関り、特に電子写
真特性が整い、かつ低公害性の製造方法に関する。

〔従来の技術〕

近年、複写機、プリンタ等の市場拡大及び用途の多岐化
につれ、それらのニーズに応え、従来の無機光導電性材
料に代る有機光導電性材料を用いた電子写真感光体に関
する提案が多数行われている。すなわち、有機光導電性
材料は、合成物質及び合成条件の組合せにより多種多様
の材料が得られ材料の選択範囲が広く、電子写真プロセ
スにおいて要求される緒特性、例えば電荷保持力、表面
強度、感度及び反復使用時における安定性等の向上又は
改善に有用である。また有機光導電性材料を用いた電子
写真感光体は、生産性が良好で耐環境性も高い利点があ
る。

一般に有機光導電性感光体は光導電性有機半導体即ち電
荷（キャリア）発生物質（ＣＧＭと標記）及び電荷（キ
ャリア）輸送物質（ＣＴＭと標記）その他添加剤等の各
種機能物質を含有した光導電層（ＰＣＬと標記）から構
成される。

更に、感光層を少くとも２層に分けてキャリア発生層（
ＣＧＬと標記）とキャリア輸送層（ＣＴＬと標記）を別
々に構成した機能分離積層型の感光体が提案されている
。これはキャリア発生機能とキャリア輸送機能を異なる
物質の個別の層に分担させることができるため、感度や
帯電特性等の電子写真特性間の特性のコントロールが容
易であり、感度が高く、耐久性の大きい感光体が得られ
る。又、キャリア発生物質とキャリア輸送物質をバイン
ダ樹脂に分散した単層型感光体やキャリア発生物質をバ
インダ樹脂中に分散した単層型感光体も知られている。

一方有機光導電性感光体は、セレン等に比べ毒性が低く
、加工性に富み生産性がよいことから、その適用頻度が
急速に伸びて来ているが、各種機能物質が一般に有機溶
剤に親和性が高いことから、その製造に有機溶剤が多用
される。その有機溶剤には自然界に有害なハロゲン系溶
剤等が用いられており、近年の環境保全の高まりに対処
するだけではなく、地球規模の重大問題として技術的対
策が迫られている。

一般に光導電層の塗設には、浸漬塗布法（特公昭５６−
４１３１０号、同６０−２６３１５７号等）が常用され
て来たが、浸漬塗布法は元来、液の下方への流下という
自然現象を利用しているため、塗布液の温度、粘度、基
体円筒の表面状態、引き上げ速度等、各種の要因により
塗布層の塗布状態や厚み等か変化し、均一加工がむずか
しい。

例えば、浸漬塗布された円筒上部付近の塗膜が薄層とな
り易く、この部分には性能欠陥があり利用できない無駄
な部分となり、結果的に材料のコストアップを招いてい
る。もし、上記薄層の部分を像形成に使えば、かぶりが
多く、かつ画像濃度が低くなる。

前記の技術的困難に加えて、有機溶剤を水系の溶剤に代
えて分散媒として使用すると、当然乾燥速度は低下し、
無欠陥均一膜厚１０μｍ以上の光導電層を形成すること
は更に困難となる。

このような光導電性の多くは、漏れ電流か生じ帯電立上
り特性、帯７！１．′Ｉ１位量が十分でないことや、中
間層のバリア特性が十分でなくａｍな画像欠陥が生じ易
い。即ち正規現像では白ぬけ、反転現像では黒斑点とし
て現れる画像欠陥を生ずる。

又、製造した感光体の光導電層は、水との親和力が高い
為高湿下における画像の鮮鋭性に問題があった。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、浸漬塗布方法において、（１）光導電
層の物性、光電特性に関る膜質の均一な（２）低公害性
の、更に（３）高湿下にあっても、両賞劣化のない電子
写真感光体の製造方法を提供することにある。

〔発明の構成〕

前記した本発明の目的は、電子写真感光体の浸漬塗布装
置の引上口上部に電磁波照射装置を設け、感光体基体に
塗設した塗布液層を電磁波線で照射しながら引上げるこ
とを特徴とする電子写真感光体の製造方法によって達成
される。

また本発明の態様にあっては、前記塗布液が水系溶液或
は水系分散液であることが好ましい。

次に本発明に用いられる浸漬塗布装置（以後ドラム塗布
槽と称す）の例を第７図に示す。

７１はドラム塗布槽であって、特開平１−１１９３７２
号に記載されたオーバフロー型のものが好ましい。

７１はオーバフロー槽であって、オーバフローした塗布
液は、オーバフロー槽とドラム塗布槽の間をフィルタ７
４を差挟んで循環ポンプ７３によって静かに循環する。

７２は電磁波照射装置であって、適用する電磁波は使用
するバインダ樹脂の特性、例えば紫外線、熱（赤外線）
或は電子線による硬化性の有無等によって選択すること
ができるが、加熱することによって一般に塗布液の粘度
が低下し、塗布故障を与えることがあるので冷光線が好
ましく、また装置コスト、電磁波被曝傷害等の問題から
、紫外線を用いることが好ましい。

図示した７２は、樹脂のＵＶ硬化に常用される２５０〜
４５０ｎｍの紫外線を発生する紫外線ランプを用いた例
である。該紫外線ランプとしては、ウシオ電機株式会社
製ｒｌ１Ｍ−１０２Ｊ　、　　ｒＵＭ−４５２Ｊ等が挙
げられる。

７６は遮光板であって、ドラム塗布槽中の塗布液の紫外
線による硬化を阻止し、塗布の均一性を図るものである
。尚その中央にはドラム引上げ用の孔が穿っである。

７５は塗布液を塗布する感光体基体（ドラム）であって
、一定速度で軸回りに回転させながらかつ一定速度で引
上げ、均一に紫外線の硬化作用を受けさせる。

本発明に用いられるバインダ樹脂としては、例エハホリ
ビニルアルコール、アリルアルコール−無水マレイン酸
共重合体、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロ
ース、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−
酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、カゼイン、ポリ
エステル樹脂、メラミン樹脂、Ｎ−アルコキシメチル化
ナイロン、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン
、更にスルホ基、ホスホ基等の親水性基を導入したポリ
ウレタン、ポリエステル或はビニル系樹脂が用いられる
。また必要によっては紫外線硬化型樹脂、熱或は電子線
硬化型樹脂等が使用されてもよい。

本発明に係る光導電層の耐久性を向上させるためにバイ
ンダ樹脂に各種硬化剤を含有させることができ、例えば
イソシアネートを含有させることができる。

使用できる芳香族インシアネートは、例えばトリレンジ
イソシアネート（ＴＤＩ）等及びこれらイソンア不一ト
と活性水素化合物との付加体などがあり、平均分子量と
しては１００〜３，０００の範囲のものが好適である。

又脂肪族インシアネ−１・とじては、ヘキサメレケンジ
イソシアネート（ＨＭＤＩ）等及びこれらイソシアネー
トと活性水素化合物の付加体等が挙げられる。これらの
脂肪族インシアネート及びこれらインシアネートと活性
水素化合物の付加体などの中でも、好ましいのは分子量
が１００〜３，０００の範囲のものである。脂肪族イン
シアネートのなかでも非脂環式のインシア洋−ト及びこ
れら化合物と活性水素化合物の付加体が好ましい。

更に本発明においては、界面活性剤を用いてもよく、界
面活性剤としては、ポリエチレングリコール型或は多価
アルコール型の非イオン界面活性剤が選ばれ、アニオン
、カチオン或は両性界面活性剤は耐湿性等に於て問題を
起し易い。

更に該非イオン界面活性剤は、その親水性部分のニーデ
ル結合、水酸基に対する疎水基が炭化水素のままである
炭化水素系、炭化水素の水素が珪素原子で置換されたシ
リコーン系及び弗素原子で置換された弗素系のものがあ
り、弗素系〉シリコーン系〉炭化水素系の順に弗素系が最も好ましい。

添加使用量は塗料組成によって大幅に変動するが、塗料
のｌｏ−４〜１．Ｑｖｔ％の範囲であり、最適量は実用
的に定められる。

本発明に係る水系溶液或は水系分散液においては、低公
害性で水と相溶性の有機溶剤は使用にも差支えない。

本発明に水と共に用いられる有機溶剤としては、例えば
アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等の
ケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メ
タノール、エタノールイブロバノール、ブタノール、シ
クロヘキサノール、ヘプタツール、エチレングリコール
、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、酢酸セロソル
ブ等のアルコール及びこの誘導体、テトラヒドロフラン
、ｌ、４−ジオキサン、フラン、フルフラール等のエー
テル、アセタール類、ピリジンやブチルアミン、ジエチ
ルアミン、エチレンジアミン、イングロパノールアミン
等のアミン類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミ
ド類等の窒素化合物能に脂肪酸及びフェノール類、二硫
化炭素や燐酸トリエチル等の硫黄、燐化合物等が挙げら
れる。

本発明の感光体においては、ＣＧＪとして次の代表例で
示される様な有機顔料が用いられる。

（１）　　モノアゾ顔料、ビスアゾ顔料、トリアゾ顔料
、金属錯塩アゾ顔料等のアゾ顔料（２）ペリレン酸無水物、ペリレン酸イミド等のペリレ
ン顔料（３）アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体
、ジベンズピレンキノン誘導体、ビラントロン誘導体、
ビオラントロン誘導体及びインビオラントロン誘導体等
多環キノン顔料（４）インジゴ誘導体及びチオインジゴ
誘導体等のインジゴイド顔料（５）金属フタロシアニン及び無金属フタシアニン等の
フタロシアニン顔料特に、　ＣＧＭとしてフルオレノン系ジスアゾ顔料、フ
ルオレニリデン系ジスアゾ顔料、多環キノン顔料、無金
属系フタロシアニン顔料又はオキシチタニル系７りロシ
アニン顔料等の有機系顔料が用いられることが好ましい
。更に次に示すフルオレノン系ジスアゾ顔料、フルオレ
ニリデン系ジスアゾ顔料、多環キノン顔料、Ｘ及びτ型
無金属フタロシアニン及び特開昭６４−１７０６６号で
示されるオキシチタニル系フタロシアニン顔料は、感度
、耐久性及び画質等の点で著しく改良された効果を示す
。

本発明に好ましいフルオレノン系ジスアゾ顔料は、下記
−最大ＣＦ）で表される。

−最大ＣＦ） υ Ｘ、及びＸ、は、それぞれ、ハロゲン原子、アルキル基
、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基又
は置換若しくは無置換のアミノ基を表す。

ｐ及びｑはそれぞれ０．ｌ又は２の整数を表し、ｐ及び
ｑが２のときは、Ｘｌ及びＸ、はそれぞれ同−又は異な
る基であってもよい。

Ａは下記−最大Ｃｆ）で表される基を示す。

−最大（ｆ）式中、Ａｒは弗素化炭化水素基又は置換基を有する芳香
族炭素環基又は芳香族複素環基を表す。

２は置換若しくは無置換の芳香族炭素環又は置換若しく
は無置換の芳香族複素環を形成するのに必要な非金属原
子群を表す。

ｍ及びｎはそれぞれ０．ｌ又は２の整数を表す。

但し、ｍ及びｎが同時にＯとなることはない。

本発明に好ましい多環キノン顔料は、下記一般一般式［
：Ｑｌ）ニ一般式［：Ｑ２）ニ一般式（Ｑ３）：各式中、Ｘはハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アシ
ル基、又はカルボキシ基を表し、ｎはθ〜４の整数を、
ｍはθ〜６の整数を表す。

本発明に用いられる前記−最大〔Ｑ、〕〜〔Ｑ、〕で表
される多環キノン顔料は、公知の方法により容易に合成
できる。

本発明に使用できる無金属フタロシアニン系顔料として
は、光導電性を有する無金属フタロシアニン及びその誘
導体すべてが使用可能であるが、例えばσ型、β型、τ
　、ｌ型、ｌ　ｖ　ｌ型、Ｘ型、及び特開昭６２−１０
３６５１号で述べた結晶形及びその誘導体等を使用でき
る。特にτ、Ｘ、に／Ｒ−Ｘ型を使用することが望まし
い。Ｘ型無金属フタロシアニンについては米国特許３，
３５７．９８９号に記載カアリ、τ型無金属フタロシア
ニンについては特開昭５８−１８２６３９号に記載があ
る。

Ｋ／Ｒ−Ｘ型は特開昭６２−１０３６５１号にあるよう
に、ＣｕＫ１．１−５４１人のＸ線Ｉこ対するブラッグ
角度（２θ±０．２度）において、７．７．９．２．１
６．８．１７．５゜２２．４．２８．８度に主要なピー
クを有し、且つ９．２度のピーク強度に対して１６．８
度のピーク強度比が０．８〜１．０であり、また２２．
４度に対する２８．８度のピーク強度比が０．４以上で
ある事を特徴とするフタロシアニンである。

本発明で用いられるオキシチタニルフタロンアニンは、
下記−最大［ＴＰＩで表される。

−最大ＣＴＰ）式中、Ｘ　ｌ＋　Ｘ　ｚ、　Ｘ　ｓ、　Ｘ　４は各々独
立にＨ，Ｃｆｆ又はＢｒを表し、ｎ、ｍ、ｆｆ、には各
々独立に０〜４の数字を表す。

本発明に用いられるオキシチタニルフタロシアニンのう
ち、特に好適なものは、オキシチタニルフタロシアニン
（Ｔｉ０Ｐｃ）、チタニルクロロフタロシアニン（Ｔｉ
０ＰｃＣ（２）及びそれらの混合物である。

これらのオキシチタニルフタロシアニンとしては以下で
示す特許で公開された結晶型の異なるものが知られてい
る。例えば特開昭６１−２３９２４８号、同６２−６７
０９４３号、同６２−２７２２７２号、同６３−１１６
１５８号又は同６４−１７０６６号等が挙げられる。

本発明において、ＣＧＬは代表的には前記有機系顔料を
適当な水系分散媒に単独もししくは適当なバインダ樹脂
と共に分散せしめた分散液をデイツプ塗布によって下引
層（ＵＣＬ）又はＣＴＬ上に塗布して乾燥させる方法に
より設けることができる。

本発明に用いられるＣＧＭは、例えばボールミル、ホモ
ミキサ、サンドミル、超音波分散機、アトライタ、サン
ドグラインダ等を用いて適当な粒径の微細粒子にした後
、分散媒中に分散してもよい。

本発明において使用可能なＣＴＭとしては、特に制限は
ないが、例えばオキサゾール誘導体、オキサジアゾール
誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、ト
リアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダシロン
誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘
導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン
誘導体、アミン誘導体、オキサシロン誘導体、ベンゾチ
アゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリ
ン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フ
ェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、ポリ−Ｎ−
ビニルカルバゾール、ポリ−１−ビニルピレン、ポリ−
９−ビニルアントラセン等である。

本発明において用いられるＣＴＭとしては光照射時発生
するホールの支持体側への輸送能力が優れている外、前
記本発明に用いられる有機系顔料との組合せに好適なも
のが好ましく、かかるＣＴＭとしては、下記−最大（Ｔ
−Ａ）、（Ｔ　−Ｂ　’）及び（ＴＣ）で表されるもの
が挙げられる。

−最大（Ｔ　−Ａ）表す。　このような化合物の具体例は特開昭５８−６５
４４０号の第３〜４頁及び同５８−１９８０４３号の第
３〜６頁に詳細に記載されている。

一般式（Ｔ−Ｂ）但し、Ｒ，は置換、無置換の次記２つの基ニアリール基
、複素環基であり、Ｒ２は水素原子、置換、無置換の次
記２つの基；アルキル基、アリール基を表し、詳細には
特開昭５８−１３４６４２号及び同５８−１６６３５４
号の公報に記載されている。

−最大（Ｔ−Ｃ）但し、Ａｒａ、　Ａｒ、、　Ａｒａはそれぞれ置換又は
無置換のアリール基を表し、Ａｒ３は置換又は無置換の
アリーレン基を表し、Ｒ１は水素原子、置換、無置換の
次記２つの基；アルキル基、アリール基をＩ但し％Ｒ１は置換若しくは無置換のアリール基であり、
Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、置換。

無置換の統記３つの基；アルキル基、アルコキシ基、ア
ミノ基、又はヒドロキシ基であり、Ｒ３は置換、無置換
の次記２つの基ニアリール基、複素環基を表す。これら
の化合物の合成法及びその例示は特公昭５７−１４８７
５０号に詳細に記載されており、本発明に援用すること
ができる。

本発明のその他の好ましいＣＴＭとしては、特開昭５７
−６７９４０号、同５９−１５２５２号、同５７−１０
１８４４号にそれぞれ記載されているヒドラゾン化合物
を挙げることができる。

ＣＴＬ中のバインダ樹脂１００重量部当りＣＴＭは２０
〜２００重量部が好ましく、特に好ましくは３０〜１５
０重量部である。

形成されるＣＴＬの膜厚は、好ましくは５〜５０μｍ１
特に好ましくは５〜３０μｍである。

また、本発明に用いられる有機系顔料を用いる単層機能
分離型の電子写真感光体の場合のバインダ：　ＣＧＭ　
：　ＣＴＭの割合は０〜１００：１〜５００：０〜５０
０が好ましく、形成されるＰＣＬの膜厚は５〜５０μ目
が好ましく、特に好ましくは５〜３０μ論である。

本発明においてＣ（、Ｌには感度の向上、残留電位乃至
反復使用時の疲労低減等を目的として、一種又は二種以
上の電子受容性物質を含有せしめることができる。

ここに用いることのできる電子受容性物質としては、例
えば、無水琥珀酸、無水マレイン酸、無水７タル酸、無
水ピロメリット酸、無水メリット酸、テトラシアノエチ
レン、０−ジニトロベンゼン、バラニトロベンゾニトリ
ル、ビクリルクロライド、キノンクロルイミド、クロラ
ニル、ブルマニル、アントラキノン、２．７−シニトロ
フルオレノン、９フルオレニリデン［ジシアノメチレン
マロノジニトリル］、ピクリン酸、Ｏ−ニトロ安息香酸
、ペンタフルオロ安息香酸、５−ニトロサリチル酸、そ
の他の電子親和力の大きい化合物を挙げることができる
。又、電子受容性物質の添加割合は、重量比で本発明に
用いられる有機系顔料二を子受容性物質＝　１００　：
　０．０１〜２００、好ましくは１００　：　０．１−
１００である。

この電子受容性物質はＣＴＬに添加してもよい。

かかる層への電子受容性物質の添加割合は重量比で全Ｃ
ＴＭ　：電子受容性物質−１００：　０．０１〜ｉｏｏ
、好ましくは１００：０．１〜５０である。

本発明の電子写真感光体が積層型構成の場合、ＣＧＬ中
のバインダ：　ＣＧＭ　：　ＣＴＭの重量比はθ〜１０
０：１〜５００：０〜５００である。

ＣＧＭの含有割合がこれより少ないと光感度が低く、残
留電位の増加を招き、またこれより多いと暗減衰及び受
容電位が低下する。

以上のようにして形成されるＣＧＬの膜厚は、好ましく
は０９Ｏ１−１０μｍ、特に好ましくは０．１〜５μｍ
である。

また、ＣＴＬは、ＣＴＭを適当な溶媒又は分散媒に単独
であるいは上述のバインダ樹脂と共に溶解、分散せしめ
たものを塗布、乾燥して形成することができる。用いら
れる分散媒としては前記ＣＧＭの分散において用いた分
散媒を用いることができる。

又、本発明に係るＰＣＬにおいては、オゾン劣化防止の
目的で酸化防止剤を添加することができる。

かかる酸化防止剤としてはＩ−群；ヒンダードフェノー
ル類、■−群；バラフェニレンジアミン類、■−群；ハ
イドロキノン類、■−群；有機硫黄化合物類、■−群；
有機燐化合物類が挙げられる。

これらの化合物は例えば特開昭６３−１８３５４号に開
示されている。

これらの化合物はゴム、プラスチック、油脂類等の酸化
防止剤として知られており、市販品を容易に入手できる
。

これらの酸化防止剤はＣＧＬｌＣＴＬ又は保護層（ＯＣ
Ｌ）のいずれに添加されてもよいが、好ましくはＣＴＬ
に添加される。その場合の酸化防止剤の添加量はＣＴＭ
　１００重量部に対して０．１〜１００重量部、好まし
くは１〜５０重量部、特に好ましくは５〜２５重量部で
ある。

また本発明の感光体には、その他、必要によりＰＣＬを
保護する目的で紫外線吸収剤等を含有してもよく、また
感色性補正の染料を含有してもよい。

また本発明に係るＣＧＬ中には加工性及び物性の改良（
亀裂防止、柔軟性付与等）を目的として必要により熱可
塑性樹脂を５０重量％未満含有せしめることができる。

次に前記ＰＣＬを支持する導電性支持体としては、けて
もよい。

アルミニウム、ニッケルなどの金属板、金属ドラム又は
金属箔、アルミニウム、酸化錫、酸化インジウムなどを
蒸着したプラスチックフィルムあるいは導電性物質を塗
布した紙、プラスチックなどのフィルム又はドラムを使
用することができる。

本発明の感光体は、第１図及び第２図に示すように導電
性基体１上にＣＧＭを主成分とするＣＧＬ　２と本発明
に係るＣＴＭを主成分として含有するＣＴＬ　３との積
層体より成るＰＣＬ　４を設ける。

第３図及び第４図に示すようにこのＰＣＬ　４は、導電
性基体ｌ上に設けたＬＩＣＬ　５を介して設けてもよい
。このようにＰＣＬ　４を二層構成としたときに最も優
れた電子写真特性を有する電子写真感光体が得られる。

また本発明においては、第５図及び第６図に示すように
前記ＣＴＭ　　を主成分とする層６中に微粒子状のＣＧ
Ｍ　７を分散してなるＰＣＬ　４を導電性基体ｌ上に直
接あるいは、ＵＣＬ　５を介して設けてもよい。

更に前記ＰＣＬ　４の上には必要に応じてＯＣＬ　８を
設ここでＰＣＬ　４を二層構成としたときにＣＧＬ２と
ＣＴＬ　３のいずれを上層とするかは、帯電極性を正、
負のいずれに選ぶかによって決定される。すなわち負帯
電型ＰＣＬとする場合は、ＣＴＬ　３を上層とするのが
有利であり、これは該ＣＴＬ　３中のＣＴＭが、正孔に
対して高い輸送能を有する物質であるからである。

また、二層構成のＰＣＬ　４を構成するＣＧＬ２は、導
電性基体ｌもしくはＣＴＬ　３上に直接あるいは必要に
応じて接着層もしくはブロッキング層などのＵＣＬを設
けた上Ｉこ形成することができる。

このようにして形成されるＣＧＬ　２の厚さは、０．０
１μｍ〜５μｍであることが好しく、更に好ましくは０
．０５μｍ〜３μｍである。

またＣＴＬ　３の厚さは、必要に応じて変更し得るが通
常５μＩ１１〜３０μｍであることが好ましい。このＣ
ＴＬ　３における組成割合は、ＣＴＭ　１重量部に対し
てバインダ０．１〜５重量部とするのが好ましいが、微
粒子状のＣＧＭを分散せしめｆ−ＰＣＬ４を形成する場
合は、ＣＧＭ　１重量部に対してバインダを５重量部以
下の範囲で用いることが好ましい。

またＣＧＬをバインダ中に分散型のものとして構成する
場合には、ＣＧＭ　１重量部に対してバインダを５重量
部以下の範囲で用いることが好ましい。

本発明に用いられる有機系顔料を含有する電子写真感光
体は可視光線、近赤外線の光に良好に感応することがで
きるが、４００〜８５０μｍの間の波長に吸収極大を有
していることが好ましい。

一方、このような波長を有する光源としてはハロゲンラ
ンプ、蛍光灯、タングステンランプ、アルゴンレーザ、
ヘリウム、洋オンレーザ等の気体レーザや半導体レーザ
等が用いられる。

本発明の電子写真感光体は以上のような構成であって、
後述する実施例からも明らかなように、帯電立上り特性
、帯電特性、感度特性画像形成特性に優れており、特に
繰返し使用したときにも疲労劣化が少なく、耐用性が優
れたものである。

さらに反転現像において、黒ぼちの発生の少ない優れた
電子写真感光体が得られる。

〔実施例〕

以下、本発明を実施例及び比較例によって具体的に説明
するが、これにより本発明の実施態様が限定されるもの
ではない。

使用感光体基体（ドラム）ＬＰ−３０１０＊用６０＋ｏｍ−アルミ素管（＊コニカ
製複写械）使用ドラム塗布槽：紫外線ランプ；　１００ｗ　（ＵＭ１０２　；　’ｉ　
’ｙ　才Ｋ　気）塗布槽の引上口上部にドラム軸回り９
０度毎に計４基設置。

実施例１下記処分塗布液を夫々のドラム塗布槽で夫々の乾燥厚み
に塗布した。

ＵＣＬ・・・・層厚０．２μｍ　　　　　　　　　　（
重量部）カゼイン　　　　　　　　　　　　　　　　２
水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　９８ＣＣＬ・・・・０．５μ１１１（
重量部）Ｘ型無金属フタロシアニン　　　　　　　　５
（Ｆａｓｔｏｇｅｎ　Ｂ（Ｈｕｅ　８１２０　；大日本
インキ）ポリエステル樹脂　　　　　　　　　　　　４
（アルマテックスＷＰ６４０；三井東圧化学）メラミン
樹脂　　　　　　　　　　　　　　１（ニーパン２１Ｒ
；三井東圧化学）水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　１００ＣＴＬ・・・・１８μｒａ　　　　
　　　　　　　　　　（重量部）ポリビニルアルコール
　　　　　　　　　４０（ＰＶＡ−１１７ｉクラレ）水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　５４０前記塗布終了後１００　’Ｃで１時
間乾燥した。

実施例２ＬＩＣＴ・・・・実施例１に同じ　　　　　０．２μ１
ＣＴＬ・・・・実施例１に同じ　　　　　１８　　μｍ
前記の層を積層し、下記のＣＧＬを塗布した。

ＣＧＬ・・・・３μｍ　　　　　　　　　　　　（重量
部）Ｘ型無金属フタロシアニン　　　　　　　５アルマ
チツクＷＰ　６４０　　　　　　　　　　８ニーパン２
１Ｒ２水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　１００乾燥；１００′Ｃ，１時間実施例３ＵＣＬ・・・・実施例１に同じ　　　　　０．２μｍ下
記の分散液で光導電層（ＰＣＬ）を形成した。

ＰＣＬ−−−−１５μｔｎ　　　　　　　　　　　　　
　（重量部）＞２１無金属フタロシアニン　　　　　　
　７アルマテツクＷＰ　６４０　　　　　　　　　　１
２ニーパン２１Ｒ３水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　１００乾燥；１００°Ｃ，１時間比較例（１）、（２）及び（３）実施例１．２及び３において紫外線ランプ照射すること
なく感光体を作成し、前記順に比較例（１）、（２）及
び（３）とした。

：性能評価：前記感光体試料をＬＰ−３０１０（コニカ族）改造機に
かけ、画像出しを行い、現像器位置での電位、未露光位
■。、露光電位■、を求めた。

また５本／ｍ＋＋＋の細線を複写し、解像力を測定し結
果を表１に示した。

画像評価ｒマイクロデンシトメータＰＤＭ−５（コニカ株式会社
製）」にて細線画像を測定し、細線間の白地部が細線部
の濃度の５％以下になる場合には解像性有、それ以上の
場合には解像性態として評価した。

実施例１〜３はドラム外観も良好で細線の解像度も充分
であるが、比較例はＶＨ，ＶＬのむらも大きく解像性も
なかった。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第６図はそれぞれ本発明の感光体の機械的構成
例について示す断面図である。第７図は本発明に用いられるドラム塗布槽の断面概要図
である。１・・・導電性基体　　　　　２・・・キャリア発生層
３・・・キャリア輸送層　　　４・・・感光層５・・・
中間層６・・・キャリア輸送物質を含有する層７・・・キャリ
ア発生物資８・・・保護層

Claims

【特許請求の範囲】

（１）電子写真感光体の浸漬塗布装置の引上口上部に電
磁波照射装置を設け、感光体基体に塗設した塗布液層を
電磁波線で照射しながら引上げることを特徴とする電子
写真感光体の製造方法。
（２）前記塗布液が水系溶液或は水系分散液であること
を特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体の製造方
法。