JP3116198B2 - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
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- JP3116198B2 JP3116198B2 JP05008569A JP856993A JP3116198B2 JP 3116198 B2 JP3116198 B2 JP 3116198B2 JP 05008569 A JP05008569 A JP 05008569A JP 856993 A JP856993 A JP 856993A JP 3116198 B2 JP3116198 B2 JP 3116198B2
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- Japan
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- cgl
- dispersion
- bal
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関し、
特に構成層の構成要件に関する。
特に構成層の構成要件に関する。
【0002】
【従来技術】電子写真感光体としては、無機光導電体又
は、有機光導電体を使用したものとがある。有機光導電
体は、無公害、高生産性、低コストなどの利点があり、
近年多く使用されるようになってきた。
は、有機光導電体を使用したものとがある。有機光導電
体は、無公害、高生産性、低コストなどの利点があり、
近年多く使用されるようになってきた。
【0003】前記有機光導電体の可視光を吸収して電荷
を発生する物質は、電荷保持力に乏しく、逆に、電荷保
持力が良好で、成膜性に優れた物質は、一般に可視光に
よる光導電性がに乏しいという欠点がある。この問題を
解決するため、感光層を可視光を吸収して電荷を発生す
る電荷発生層(CGL)と、その電荷の輸送を行う電荷
輸送層(CTL)とに機能分離した積層型のものとする
ことが行われている。従って、電荷発生物質(CGM)
と電荷輸送物質(CTM)とを別個に選択できるように
なり、それぞれの材料の選択基準を拡げることができ
る。
を発生する物質は、電荷保持力に乏しく、逆に、電荷保
持力が良好で、成膜性に優れた物質は、一般に可視光に
よる光導電性がに乏しいという欠点がある。この問題を
解決するため、感光層を可視光を吸収して電荷を発生す
る電荷発生層(CGL)と、その電荷の輸送を行う電荷
輸送層(CTL)とに機能分離した積層型のものとする
ことが行われている。従って、電荷発生物質(CGM)
と電荷輸送物質(CTM)とを別個に選択できるように
なり、それぞれの材料の選択基準を拡げることができ
る。
【0004】従来より、CGMとしては、多環キノン顔
料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾ
ール顔料、キナクリドン顔料、フタロシアニン顔料、モ
ノアゾ顔料、ジスアゾ顔料、トリスアゾ又はポリアゾ顔
料などが知られ、又、CTMとしては、アミン系化合
物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾー
ル化合物、オキサジアゾール化合物、スチルベン化合
物、カルバゾール化合物等が知られている。例えば、ペ
リレン系顔料を用いるものとしては、特公昭61-8423
号、特開昭57-192958号、同59-59686号及び同60-122954
号等に開示がある。
料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾ
ール顔料、キナクリドン顔料、フタロシアニン顔料、モ
ノアゾ顔料、ジスアゾ顔料、トリスアゾ又はポリアゾ顔
料などが知られ、又、CTMとしては、アミン系化合
物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾー
ル化合物、オキサジアゾール化合物、スチルベン化合
物、カルバゾール化合物等が知られている。例えば、ペ
リレン系顔料を用いるものとしては、特公昭61-8423
号、特開昭57-192958号、同59-59686号及び同60-122954
号等に開示がある。
【0005】更に構成層としてCGL,CTLの外バリ
ア層(BAL)、保護層、接着層等の補助層或は積層順
について検討が進められている。
ア層(BAL)、保護層、接着層等の補助層或は積層順
について検討が進められている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】前述のようにCGLと
CTLとに機能分離された積層型の電子写真感光体にお
いて、満足のいく電子写真特性を得るためには、(1)
CGMが吸収した光に対して効率良く電荷を発生するこ
と、(2)発生した電荷が効率良くCTMに注入され搬
送されることの条件が満たされることが必要とされる。
すなわち、(1)の条件が満たされていても、(2)の
条件が満たされていない場合には、満足のいく光応答性
を得ることはできない。
CTLとに機能分離された積層型の電子写真感光体にお
いて、満足のいく電子写真特性を得るためには、(1)
CGMが吸収した光に対して効率良く電荷を発生するこ
と、(2)発生した電荷が効率良くCTMに注入され搬
送されることの条件が満たされることが必要とされる。
すなわち、(1)の条件が満たされていても、(2)の
条件が満たされていない場合には、満足のいく光応答性
を得ることはできない。
【0007】又、電子写真感光体が、CGL、CTLの
順に積層されたもので、光照射がCTL側よりなされる
場合には、高い感度を得る上で具備すべき条件として、
CTLがCGLに活性な光に対して十分透明であること
が必要である。
順に積層されたもので、光照射がCTL側よりなされる
場合には、高い感度を得る上で具備すべき条件として、
CTLがCGLに活性な光に対して十分透明であること
が必要である。
【0008】上記公知のCGM及びCTMを使用して電
子写真感光体を作成するためには、上記した条件を満足
するものであって、感度、受容電位、電位保持性、電位
安定性、残留電位、分光特性などの電子写真特性、強
度、耐久性、耐汚染性、耐刷性などの使用特性、及び塗
布によって製造する際の製造安定性、品質安定性など、
すべての点にわたって満足されるべき材料を選択しなけ
ればならない。しかしながら、これ等すべての点を満足
するような材料の組合せを選択することは非常に困難な
ことであった。
子写真感光体を作成するためには、上記した条件を満足
するものであって、感度、受容電位、電位保持性、電位
安定性、残留電位、分光特性などの電子写真特性、強
度、耐久性、耐汚染性、耐刷性などの使用特性、及び塗
布によって製造する際の製造安定性、品質安定性など、
すべての点にわたって満足されるべき材料を選択しなけ
ればならない。しかしながら、これ等すべての点を満足
するような材料の組合せを選択することは非常に困難な
ことであった。
【0009】本発明は、上記のような事情に鑑み、電子
写真感光体として要求される事項を満足する要件を見出
すことにより、電位特性、耐久性、画質の優れた電子写
真感光体を提供することを目的とするものである。特に
ビスイミダゾピリドノペリレンを初めとするペリレン顔
料は電荷発生材料としては旧くから研究されているが、
これら顔料は顔料分散液の安定性、微粒分散性、アルミ
基体上への均質な塗布性等の課題が解決されず、これま
で高感度で耐久性が良く且つ良好な画質が得られる感光
体を実現することは出来なかった。
写真感光体として要求される事項を満足する要件を見出
すことにより、電位特性、耐久性、画質の優れた電子写
真感光体を提供することを目的とするものである。特に
ビスイミダゾピリドノペリレンを初めとするペリレン顔
料は電荷発生材料としては旧くから研究されているが、
これら顔料は顔料分散液の安定性、微粒分散性、アルミ
基体上への均質な塗布性等の課題が解決されず、これま
で高感度で耐久性が良く且つ良好な画質が得られる感光
体を実現することは出来なかった。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者らは感光体構成
層の構成要件について、多岐に亘る観点からの検討の結
果、本発明の課題は;導電性支持体上に構成層として少
くともバリア層、電荷発生層及び電荷輸送層をこの順に
積層した電子写真感光体において、前記バリア層の主た
る成分がポリアミド樹脂よりなり、前記電荷発生層がブ
チラール化度70モル%以上のポリビニルブチラール樹脂
に前記〔化1〕に記載の構成諸元を特定した一般式
〔I〕で表される化合物及び/又は一般式〔II〕で表さ
れる化合物を電荷発生物質として含みケトン系溶剤を主
たる溶媒として分散、溶解して塗設してなることを特徴
とする電子写真感光体によって解決される。
層の構成要件について、多岐に亘る観点からの検討の結
果、本発明の課題は;導電性支持体上に構成層として少
くともバリア層、電荷発生層及び電荷輸送層をこの順に
積層した電子写真感光体において、前記バリア層の主た
る成分がポリアミド樹脂よりなり、前記電荷発生層がブ
チラール化度70モル%以上のポリビニルブチラール樹脂
に前記〔化1〕に記載の構成諸元を特定した一般式
〔I〕で表される化合物及び/又は一般式〔II〕で表さ
れる化合物を電荷発生物質として含みケトン系溶剤を主
たる溶媒として分散、溶解して塗設してなることを特徴
とする電子写真感光体によって解決される。
【0011】尚本発明の態様は電荷発生層用塗料の流動
性を; τ=τ0+ηDB 0.7≦B≦1.3 を満足するように規制することが好ましい。前記式にお
いτは剪断応力、Dは剪断速度、ηは粘性係数、τ0は
D=0のときのτ値である。更にBはDの羃指数であ
る。
性を; τ=τ0+ηDB 0.7≦B≦1.3 を満足するように規制することが好ましい。前記式にお
いτは剪断応力、Dは剪断速度、ηは粘性係数、τ0は
D=0のときのτ値である。更にBはDの羃指数であ
る。
【0012】前記本発明の構成要件は互に相乗的に作用
し合って感度特性、帯電特性、塗布特性、膜物性につい
ての目標規準を達成するものである。
し合って感度特性、帯電特性、塗布特性、膜物性につい
ての目標規準を達成するものである。
【0013】即ちCGMとしてBIPP、バインダとし
てブチラール化度70%以上のポリビニルブチラール樹脂
とをケトン系溶媒に分散溶解し好ましくはその流動性を
前記の如く規制し、これによってえられるCGLにポリ
アミド樹脂からなるBALを下接させることによって、
著しく高感度で電位安定性のよい、画質が高くかつ耐用
性の長い感光体が構成することができる。
てブチラール化度70%以上のポリビニルブチラール樹脂
とをケトン系溶媒に分散溶解し好ましくはその流動性を
前記の如く規制し、これによってえられるCGLにポリ
アミド樹脂からなるBALを下接させることによって、
著しく高感度で電位安定性のよい、画質が高くかつ耐用
性の長い感光体が構成することができる。
【0014】前記一般式〔I〕又は〔II〕で表される化
合物;ビスイミダゾピリドノペリレン(BIPPと標
記)において、Zで表される芳香族環の好ましい例とし
ては、例えばベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン
環、フェナンスレン環、ピリジン環、ピリミジン環、ピ
ラゾール環、アントラキノン環等が挙げられ、特にベン
ゼン環又はナフタレン環であることが好ましい。またZ
で表される芳香族環は置換されていてもよく、置換基と
しては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、アシール基、アシロキシ基、アミノ基、
カルバモイル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基な
どを挙げることができる。
合物;ビスイミダゾピリドノペリレン(BIPPと標
記)において、Zで表される芳香族環の好ましい例とし
ては、例えばベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン
環、フェナンスレン環、ピリジン環、ピリミジン環、ピ
ラゾール環、アントラキノン環等が挙げられ、特にベン
ゼン環又はナフタレン環であることが好ましい。またZ
で表される芳香族環は置換されていてもよく、置換基と
しては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、アシール基、アシロキシ基、アミノ基、
カルバモイル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基な
どを挙げることができる。
【0015】以下本発明に用いられるBIPPの具体例
を示すが、本発明はこれらによって限定されるものでは
ない。
を示すが、本発明はこれらによって限定されるものでは
ない。
【0016】
【化2】
【0017】これ等のBIPPの特徴は、光の吸収が大
きく、高効率で電荷の発生と放射ができること、化学的
安定性が高く、熱や光などによって劣化しにくいこと、
分散性が良好で、塗料としての安定性も良好であるこ
と、等があげられる。BIPPは、単独の種類を用いて
もよいが、感光波長域を広げるために、分光吸収波長が
異なる複数の種類のものを用いることもできる。本発明
において、これ等BIPPの粒径は、2μm以下である
ことが好ましい。
きく、高効率で電荷の発生と放射ができること、化学的
安定性が高く、熱や光などによって劣化しにくいこと、
分散性が良好で、塗料としての安定性も良好であるこ
と、等があげられる。BIPPは、単独の種類を用いて
もよいが、感光波長域を広げるために、分光吸収波長が
異なる複数の種類のものを用いることもできる。本発明
において、これ等BIPPの粒径は、2μm以下である
ことが好ましい。
【0018】BIPPを分散させるバインダ樹脂として
ポリビニルブチラール樹脂が必須に含まれる。かつ、B
IPPの分散性を考慮するとポリビニルブチラール樹脂
のブチラール化度は70モル%以上であることを必要とす
る。
ポリビニルブチラール樹脂が必須に含まれる。かつ、B
IPPの分散性を考慮するとポリビニルブチラール樹脂
のブチラール化度は70モル%以上であることを必要とす
る。
【0019】また、CTLを塗布形成する場合、浸漬塗
布が好適であるが、この方法では下層であるCGLの膨
潤、溶解が生じやすいためポリビニルブチラール樹脂の
重合度は、高い方が好ましい。具体的には重合度300以
上が好適である。
布が好適であるが、この方法では下層であるCGLの膨
潤、溶解が生じやすいためポリビニルブチラール樹脂の
重合度は、高い方が好ましい。具体的には重合度300以
上が好適である。
【0020】また、CGMと樹脂の割合は、10/1〜1/2
が好ましい。これ以上では、分散性が低下し、均一な薄
膜が形成できない。また、これ以下では、光感度が低下
し好ましくない。更に好ましくは8/1〜2/1である。
が好ましい。これ以上では、分散性が低下し、均一な薄
膜が形成できない。また、これ以下では、光感度が低下
し好ましくない。更に好ましくは8/1〜2/1である。
【0021】また、分散に用いる溶媒はアセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルイソ
プロピルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒剤
が好ましい。他の溶剤を溶媒に用いた場合は分散安定性
が低下する。
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルイソ
プロピルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒剤
が好ましい。他の溶剤を溶媒に用いた場合は分散安定性
が低下する。
【0022】本発明の電子写真感光体においては、構成
層として導電性支持体の上にBALを設ける。BAL
は、導電性支持体からの不必要な電荷の注入を阻止する
ために有効であり、構成層の帯電性を高くする作用があ
る。更に、構成層と導電性支持体との接着性を向上させ
る作用もある。BALを構成する材料としては、ポリア
ミド樹脂が好ましい。
層として導電性支持体の上にBALを設ける。BAL
は、導電性支持体からの不必要な電荷の注入を阻止する
ために有効であり、構成層の帯電性を高くする作用があ
る。更に、構成層と導電性支持体との接着性を向上させ
る作用もある。BALを構成する材料としては、ポリア
ミド樹脂が好ましい。
【0023】他の樹脂を用いた場合は、CGLやCTL
を塗布形成する際、BALがその溶媒に侵され本来の機
能を発揮できなかったり、電位特性に悪影響を与える。
を塗布形成する際、BALがその溶媒に侵され本来の機
能を発揮できなかったり、電位特性に悪影響を与える。
【0024】本発明に係るバリア層(BAL)はポリア
ミド樹脂をアルコール系溶媒に溶解し支持体上或は接着
層上に塗布し形成される。
ミド樹脂をアルコール系溶媒に溶解し支持体上或は接着
層上に塗布し形成される。
【0025】ポリアミド樹脂としてはナイロン樹脂と通
称するものが用いられ、ナイロン6、ナイロン66、ナイ
ロン610、ナイロン11、ナイロン12等の共重合体や変性
ナイロンが挙げられる。
称するものが用いられ、ナイロン6、ナイロン66、ナイ
ロン610、ナイロン11、ナイロン12等の共重合体や変性
ナイロンが挙げられる。
【0026】また溶解に用いられるアルコール系溶媒と
してはメチルアルコール、エチルアルコール、ブチルア
ルコール等が挙げられる。
してはメチルアルコール、エチルアルコール、ブチルア
ルコール等が挙げられる。
【0027】BALの膜厚は、0.05〜2μmに設定す
る。
る。
【0028】感光体の層構成には種々の形態が知られて
いるが、本発明の感光体は積層型の機能分離型感光体と
する層構成は、導電性支持体上にBALを設け、その上
にCGMを含有するCGLを形成し、これに電荷輸送物
質(CTM)を含有するCTLを積層して形成したもの
である。また構成層と導電性支持体の間に接着層などの
補助層を設けてもよいし、最表層にはさらに保護層を設
けてもよい。
いるが、本発明の感光体は積層型の機能分離型感光体と
する層構成は、導電性支持体上にBALを設け、その上
にCGMを含有するCGLを形成し、これに電荷輸送物
質(CTM)を含有するCTLを積層して形成したもの
である。また構成層と導電性支持体の間に接着層などの
補助層を設けてもよいし、最表層にはさらに保護層を設
けてもよい。
【0029】CGLは、例えば下記に示す方法によって
作製された塗布液を導電性支持体上に直接、あるいは必
要に応じて接着層を設けた上にBALを設けてその上に
塗布することにより形成することができる。
作製された塗布液を導電性支持体上に直接、あるいは必
要に応じて接着層を設けた上にBALを設けてその上に
塗布することにより形成することができる。
【0030】 前記CGMを適当な溶媒に溶解した溶
液、あるいは更に必要におうじてバインダ樹脂を加え混
合溶解した溶液。
液、あるいは更に必要におうじてバインダ樹脂を加え混
合溶解した溶液。
【0031】 前記CGMをボールミル、サンドグラ
インダ等を用いて分散媒中で微細粒子(好ましくは粒径
5μm以下、更に好ましくは1μm以下)とし、必要に
応じてバインダ樹脂および/又はCTMを加え混合分散
した分散液。
インダ等を用いて分散媒中で微細粒子(好ましくは粒径
5μm以下、更に好ましくは1μm以下)とし、必要に
応じてバインダ樹脂および/又はCTMを加え混合分散
した分散液。
【0032】また、CGL中にCTMを含有する場合に
は、CGMとCTMとの割合は重量比で10:0〜10:10
00であることが好ましく、特に好ましくは10:0〜10:
100である。
は、CGMとCTMとの割合は重量比で10:0〜10:10
00であることが好ましく、特に好ましくは10:0〜10:
100である。
【0033】形成されるCGLの膜厚は、好ましくは0.
01〜10μmである。
01〜10μmである。
【0034】本発明に用いられるCTMとしては、例え
ばオキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チア
ゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘
導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミ
ダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリ
ル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン誘導体、アミ
ン誘導体、オキサゾロン誘導体、ベンゾチアゾール誘導
体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベ
ンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導
体、アミノスチルベン誘導体、ポリ-N-ビニルカルバゾ
ール、ポリ-1-ビニルピレン、ポリ-9-ビニルアントラセ
ン等が挙げられる。
ばオキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チア
ゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘
導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミ
ダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリ
ル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン誘導体、アミ
ン誘導体、オキサゾロン誘導体、ベンゾチアゾール誘導
体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベ
ンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導
体、アミノスチルベン誘導体、ポリ-N-ビニルカルバゾ
ール、ポリ-1-ビニルピレン、ポリ-9-ビニルアントラセ
ン等が挙げられる。
【0035】ただし本発明においてCTMは、光照射時
に発生するホールの感光体表面側または支持体側への輸
送能力の他、前記BIPP等のCGMとの組合せも考慮
して選択されることが好ましく、かかるCTMとしては
下記一般式〔T〕で表される化合物を挙げることができ
る。
に発生するホールの感光体表面側または支持体側への輸
送能力の他、前記BIPP等のCGMとの組合せも考慮
して選択されることが好ましく、かかるCTMとしては
下記一般式〔T〕で表される化合物を挙げることができ
る。
【0036】
【化3】
【0037】但し一般式〔T〕において、Ar1,Ar2お
よびAr4は夫々置換又は無置換のアリール基Ar3は置換
又は無置換のアリーレン基を表し、R1及びR2は水素原
子、アルキル基、アリール基を表し、これらの基は置換
基を有してよい。またnは1〜2の整数である。
よびAr4は夫々置換又は無置換のアリール基Ar3は置換
又は無置換のアリーレン基を表し、R1及びR2は水素原
子、アルキル基、アリール基を表し、これらの基は置換
基を有してよい。またnは1〜2の整数である。
【0038】このような化合物の具体例は特開昭58-654
40号の第3〜4頁及び同第58-198043号の第3〜6頁に
詳細に記載されている。
40号の第3〜4頁及び同第58-198043号の第3〜6頁に
詳細に記載されている。
【0039】またCTLのバインダには機械的強度、電
子写真性能からポリカーボネートが好ましく、機械的強
度からはMw10万以上のポリカーボネートが好ましい。
Mw10万以下では耐刷性等に対する強度が不足する。
子写真性能からポリカーボネートが好ましく、機械的強
度からはMw10万以上のポリカーボネートが好ましい。
Mw10万以下では耐刷性等に対する強度が不足する。
【0040】ポリカーボネートとしてはビスフェノール
A型更に好ましくはビスフェノールZ型と称されるベン
ゼン環間に介在する炭素原子に立体的に複雑な置換基好
ましくは環状の置換基を有するものである。
A型更に好ましくはビスフェノールZ型と称されるベン
ゼン環間に介在する炭素原子に立体的に複雑な置換基好
ましくは環状の置換基を有するものである。
【0041】また、前記のようにして形成されるCTL
において、CTMはCTL中のバインダ樹脂100重量部
当り20〜200重量部が好ましく、特に好ましくは30〜150
重量部である。
において、CTMはCTL中のバインダ樹脂100重量部
当り20〜200重量部が好ましく、特に好ましくは30〜150
重量部である。
【0042】また、形成されるCTLの厚さは、好まし
くは5〜60μm、特に好ましくは10〜40μmである。
くは5〜60μm、特に好ましくは10〜40μmである。
【0043】本発明の電子写真感光体に用いられる導電
性支持体としては、合金を含めた金属板、金属ドラムま
たは導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物
や合金を含めたアルミニウム、パラジウム、金等の金属
薄層を塗布、蒸着あるいはラミネートして、導電性化さ
れた紙、プラスチックフィルム等が挙げられる。
性支持体としては、合金を含めた金属板、金属ドラムま
たは導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物
や合金を含めたアルミニウム、パラジウム、金等の金属
薄層を塗布、蒸着あるいはラミネートして、導電性化さ
れた紙、プラスチックフィルム等が挙げられる。
【0044】本発明の構成層にはCGMの電荷発生機能
を改善する目的で有機アミン類を添加することができ、
特に2級アミンを添加するのが好ましい。
を改善する目的で有機アミン類を添加することができ、
特に2級アミンを添加するのが好ましい。
【0045】かかる2級アミンとしては、例えばジメチ
ルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジ-イ
ソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジ-イソブチルア
ミン、ジアミルアミン、ジ-イソアミルアミン、ジヘキ
シルアミン、ジ-イソヘキシルアミン、ジペンチルアミ
ン、ジ-イソペンチルアミン、ジ-オクチルアミン、ジ-
イソオクチルアミン、ジノニルアミン、ジ-イソノニル
アミン、ジデシルアミン、ジ-イソデシルアミン、ジモ
ノデシルアミン、ジ-イソモノデシルアミン、ジドデシ
ルアミン、ジ-イソドデシルアミン等を挙げることがで
きる。
ルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジ-イ
ソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジ-イソブチルア
ミン、ジアミルアミン、ジ-イソアミルアミン、ジヘキ
シルアミン、ジ-イソヘキシルアミン、ジペンチルアミ
ン、ジ-イソペンチルアミン、ジ-オクチルアミン、ジ-
イソオクチルアミン、ジノニルアミン、ジ-イソノニル
アミン、ジデシルアミン、ジ-イソデシルアミン、ジモ
ノデシルアミン、ジ-イソモノデシルアミン、ジドデシ
ルアミン、ジ-イソドデシルアミン等を挙げることがで
きる。
【0046】かかる有機アミン類の添加量としては、C
GMの等量以下、好ましくは0.2倍〜0.005倍の範囲のモ
ル数とするのがよい。
GMの等量以下、好ましくは0.2倍〜0.005倍の範囲のモ
ル数とするのがよい。
【0047】本発明においてCGLには感度の向上、残
留電位乃至反復使用時の疲労低減等を目的として、一種
又は二種以上の電子受容性物質を含有せしめることがで
きる。
留電位乃至反復使用時の疲労低減等を目的として、一種
又は二種以上の電子受容性物質を含有せしめることがで
きる。
【0048】ここに用いることのできる電子受容性物質
としては、例えば無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロ
ム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フ
タル酸、テトラブロム無水フタル酸、3-ニトロ無水フタ
ル酸、4-ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無
水メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキ
ノジメタン、o-ジニトロベンゼン、m-ジニトロベンゼ
ン、1,3,5-トリニトロベンゼン、パラニトロベンゾニト
リル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、クロ
ラニル、ブルマニル、ジクロルジシアノパラベンゾキノ
ン、アントラキノン、ジニトロアントラキノン、2,7-ジ
ニトロフルオレノン、2,4,7-トリニトロフルオレノン、
2,4,5,7-テトラニトロフルオレノン、9-フルオレニリデ
ン[ジシアノメチレンマロノジニトリル]、ポリニトロ-9
-フルオレニリデン-[ジシアノメチレンマロノジニトリ
ル]、ピクリル酸、o-ニトロ安息香酸、p-ニトロ安息香
酸、3,5-ジニトロ安息香酸、ペンタフルオル安息香酸、
5-ニトロサリチル酸、3,5-ジニトロサリチル酸、フタル
酸、メリット酸、その他の電子親和力の大きい化合物を
挙げることができる。
としては、例えば無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロ
ム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フ
タル酸、テトラブロム無水フタル酸、3-ニトロ無水フタ
ル酸、4-ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無
水メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキ
ノジメタン、o-ジニトロベンゼン、m-ジニトロベンゼ
ン、1,3,5-トリニトロベンゼン、パラニトロベンゾニト
リル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、クロ
ラニル、ブルマニル、ジクロルジシアノパラベンゾキノ
ン、アントラキノン、ジニトロアントラキノン、2,7-ジ
ニトロフルオレノン、2,4,7-トリニトロフルオレノン、
2,4,5,7-テトラニトロフルオレノン、9-フルオレニリデ
ン[ジシアノメチレンマロノジニトリル]、ポリニトロ-9
-フルオレニリデン-[ジシアノメチレンマロノジニトリ
ル]、ピクリル酸、o-ニトロ安息香酸、p-ニトロ安息香
酸、3,5-ジニトロ安息香酸、ペンタフルオル安息香酸、
5-ニトロサリチル酸、3,5-ジニトロサリチル酸、フタル
酸、メリット酸、その他の電子親和力の大きい化合物を
挙げることができる。
【0049】電子受容性物質の添加量は、重量比で電荷
発生物質:電子受容性物質=100:0.01〜200、好ましく
は100:0.1〜100である。
発生物質:電子受容性物質=100:0.01〜200、好ましく
は100:0.1〜100である。
【0050】電子受容性物質はCTLに添加してもよ
い。かかる層への電子受容性物質の添加量は重量比でC
TM:電子受容性物質=100:0.01〜100、好ましくは10
0:0.1〜50である。
い。かかる層への電子受容性物質の添加量は重量比でC
TM:電子受容性物質=100:0.01〜100、好ましくは10
0:0.1〜50である。
【0051】また本発明の感光体には、その他、必要に
より感光性を保護する目的で酸化防止剤、紫外線吸収剤
等を含有してもよく、また感色性補正の染料を含有して
もよい。
より感光性を保護する目的で酸化防止剤、紫外線吸収剤
等を含有してもよく、また感色性補正の染料を含有して
もよい。
【0052】前記の組成構成を有する構成層は塗布むら
なく支持体上に塗設することが必要である。特に膜厚の
薄いCGLには層厚均一性が強く要求される。
なく支持体上に塗設することが必要である。特に膜厚の
薄いCGLには層厚均一性が強く要求される。
【0053】しかしながら一般に樹脂溶液に固体微粒子
を懸濁させた液体については均一塗布に関しレオロジイ
的に問題が多く、懸濁質の懸濁媒への分散性、親和性、
粒子大きさ等の相互関係、粘度等から屡々揺変性、擬塑
性流動を示し、塗布技術上様々の支障を与える。
を懸濁させた液体については均一塗布に関しレオロジイ
的に問題が多く、懸濁質の懸濁媒への分散性、親和性、
粒子大きさ等の相互関係、粘度等から屡々揺変性、擬塑
性流動を示し、塗布技術上様々の支障を与える。
【0054】本発明は塗布に用いる塗料の流動性を塗布
制御容易なニュートン流動性に近づけるものである。
制御容易なニュートン流動性に近づけるものである。
【0055】本発明においては特に膜厚均一性の必要な
CGLに着目し、懸濁質、懸濁媒となる樹脂溶液の要件
を定め流動性を調整した。
CGLに着目し、懸濁質、懸濁媒となる樹脂溶液の要件
を定め流動性を調整した。
【0056】具体的には、CGLにブチラール化度70モ
ル%以上のポリビニルブチラール樹脂をケトン系溶剤に
溶かし、微粒子がえられ易く、粒状均一性及び該樹脂溶
液中での均一分散性がよくかつ分散安定性のよいBIP
Pを選定することによって、CGL用塗料に前記式
(1)のDの羃指数Bに0.7≦B≦1.3を与え、ηを調節
して、良好な塗布性を与えた。
ル%以上のポリビニルブチラール樹脂をケトン系溶剤に
溶かし、微粒子がえられ易く、粒状均一性及び該樹脂溶
液中での均一分散性がよくかつ分散安定性のよいBIP
Pを選定することによって、CGL用塗料に前記式
(1)のDの羃指数Bに0.7≦B≦1.3を与え、ηを調節
して、良好な塗布性を与えた。
【0057】
【実施例】以下実施例を用いて本発明を更に詳しく説明
するが、本発明はこれらにより限定されるものではな
い。尚感光体試料は直径80mm、長さ355.5mmのアルミニ
ウム基体上に下記の塗料を浸漬塗布によって作成した。
するが、本発明はこれらにより限定されるものではな
い。尚感光体試料は直径80mm、長さ355.5mmのアルミニ
ウム基体上に下記の塗料を浸漬塗布によって作成した。
【0058】実施例1 まず共重合ポリアミド樹脂(東レ(株)製CM8000)50g
をメタノール900ml、1-ブタノール100mlの混合溶媒中に
溶解した液にアルミニウム基体を浸漬、引き上げる事に
より厚さ0.3μmのBALを塗布した。
をメタノール900ml、1-ブタノール100mlの混合溶媒中に
溶解した液にアルミニウム基体を浸漬、引き上げる事に
より厚さ0.3μmのBALを塗布した。
【0059】次いでポリビニルブチラール樹脂(積水化
学工業(株)製エスレックBH-S;ブチラール化度70%)
3gをMEK300ml、シクロヘキサノン50mlの混合溶媒中に
溶解した液に例示化合物A−1;6gを加え、サンドグ
ラインダを用いて5時間分散し、CGL形成用塗料を得
た。この液を用いて浸漬塗布によりBAL上に厚さ0.3
μmのCGLを形成した。塗布には問題を生じなかっ
た。
学工業(株)製エスレックBH-S;ブチラール化度70%)
3gをMEK300ml、シクロヘキサノン50mlの混合溶媒中に
溶解した液に例示化合物A−1;6gを加え、サンドグ
ラインダを用いて5時間分散し、CGL形成用塗料を得
た。この液を用いて浸漬塗布によりBAL上に厚さ0.3
μmのCGLを形成した。塗布には問題を生じなかっ
た。
【0060】次にジクロルエタン1000mlにポリカーボネ
ート樹脂(帝人化成(株)製パンライトTS-2050)100gと
CTM(下記T−1)100gを溶解した液を用いてCGL
上に浸漬塗布後、100℃で1時間乾燥し厚さ20μmのC
TLを形成し、感光体をえた。
ート樹脂(帝人化成(株)製パンライトTS-2050)100gと
CTM(下記T−1)100gを溶解した液を用いてCGL
上に浸漬塗布後、100℃で1時間乾燥し厚さ20μmのC
TLを形成し、感光体をえた。
【0061】実施例2 共重合ポリアミド樹脂(東レ(株)製CM8000)を変性ポ
リアミド樹脂(大日本インキ化学工業(株)製ラッカマ
イド5003)に変更した他は実施例1と同様にしてBAL
を形成した。次いでポリビニルブチラール樹脂(積水化
学工業(株)製エスレックBH-S)をポリビニルブチラー
ル樹脂(積水化学工業(株)製BL-S;ブチラール化度70
%)に変更した他は同様にしてCGLを形成した。塗布
には問題を生じなかった。
リアミド樹脂(大日本インキ化学工業(株)製ラッカマ
イド5003)に変更した他は実施例1と同様にしてBAL
を形成した。次いでポリビニルブチラール樹脂(積水化
学工業(株)製エスレックBH-S)をポリビニルブチラー
ル樹脂(積水化学工業(株)製BL-S;ブチラール化度70
%)に変更した他は同様にしてCGLを形成した。塗布
には問題を生じなかった。
【0062】次にCTMを下記T−2に変更した他は実
施例1と同様にしてCTLを形成した。
施例1と同様にしてCTLを形成した。
【0063】実施例3 BAL及びCTLは実施例1と同様に形成した。
【0064】CGLは溶媒をメチルイソプロピルケトン
に変更した他は実施例1と同様にしてCGLを形成し
た。塗布には問題を生じなかった。
に変更した他は実施例1と同様にしてCGLを形成し
た。塗布には問題を生じなかった。
【0065】実施例4 BAL及びCTLは実施例1と同様に形成した。CGL
は実施例1のブチラール樹脂を電気化学工業(株)の#
4000-1(ブチラール化度75%)にかえて形成した。塗布
には問題を生じなかった。
は実施例1のブチラール樹脂を電気化学工業(株)の#
4000-1(ブチラール化度75%)にかえて形成した。塗布
には問題を生じなかった。
【0066】実施例5 BAL及びCTLは実施例1と同様に形成した。CGL
は実施例1のブチラール樹脂を電気化学工業(株)の#
5000-A(ブチラール化度80%)にかえて形成した。塗布
には問題を生じなかった。
は実施例1のブチラール樹脂を電気化学工業(株)の#
5000-A(ブチラール化度80%)にかえて形成した。塗布
には問題を生じなかった。
【0067】比較例(1) BAL,CTLは実施例1と同様とし、CGLはCGM
を下記C-1に変更した他は実施例1と同様にしてCGL
を形成した。塗布には問題を生じなかった。
を下記C-1に変更した他は実施例1と同様にしてCGL
を形成した。塗布には問題を生じなかった。
【0068】
【化4】
【0069】比較例(2) BAL,CTLは実施例1と同様とし、CGLはポリビ
ニルブチラール樹脂(積水化学工業(株)製エスレック
BH-S)をポリエステル樹脂化東洋紡(株)製バイロン-2
00に変更した他は実施例1と同様にして形成した。塗膜
はやや凝集を生じていた。
ニルブチラール樹脂(積水化学工業(株)製エスレック
BH-S)をポリエステル樹脂化東洋紡(株)製バイロン-2
00に変更した他は実施例1と同様にして形成した。塗膜
はやや凝集を生じていた。
【0070】比較例(3) BAL,CTLは実施例1と同様とし、CGLは溶媒を
ジクロルエタンに変更した他は実施例1と同様にして形
成した。塗膜にはやや凝集を生じていた。
ジクロルエタンに変更した他は実施例1と同様にして形
成した。塗膜にはやや凝集を生じていた。
【0071】比較例(4) 共重合ポリアミド樹脂(東レ(株)製CM8000)を塩化ビ
ニル系樹脂(積水化学工業(株)製エスレックMF-10)
に変更したほかは実施例1と同様にしてBALを形成し
た。またCGLは実施例1と同様にして形成した。塗膜
にはやや凝集を生じていた。CTLは実施例1と同様に
形成した。
ニル系樹脂(積水化学工業(株)製エスレックMF-10)
に変更したほかは実施例1と同様にしてBALを形成し
た。またCGLは実施例1と同様にして形成した。塗膜
にはやや凝集を生じていた。CTLは実施例1と同様に
形成した。
【0072】比較例(5) BAL,CTLは実施例1と同様とし、CGLは実施例
1のブチラール樹脂を積水化学(株)エスレックBM-1
(ブチラール化度65%)に換えて形成した。
1のブチラール樹脂を積水化学(株)エスレックBM-1
(ブチラール化度65%)に換えて形成した。
【0073】このようにして得た感光体をコニカ(株)
製乾式複写機U-Bix 4045を用いて表面電位、画像の評価
を行った。表面電位は、帯電電流、露光光量を一定と
し、表面電位計のプローブを現像器位置に取り付けて黒
紙、白紙原稿について行った。又、この測定を10万コピ
ーの耐久試験後にも行った。
製乾式複写機U-Bix 4045を用いて表面電位、画像の評価
を行った。表面電位は、帯電電流、露光光量を一定と
し、表面電位計のプローブを現像器位置に取り付けて黒
紙、白紙原稿について行った。又、この測定を10万コピ
ーの耐久試験後にも行った。
【0074】画像は、画像露光光量を適正値に設定した
後、べた黒画像、べた白画像、中間調画像を複写し画像
サンプルを目視により観察し画像欠陥の有無を調べた。
後、べた黒画像、べた白画像、中間調画像を複写し画像
サンプルを目視により観察し画像欠陥の有無を調べた。
【0075】試験結果を表1に示す。尚表中のB値は式
(1)における剪断速度Dの羃指数である。
(1)における剪断速度Dの羃指数である。
【0076】前記分散液の流動特性は例えば市販のロト
ビスコRV100型流動特性測定器によって測定される。
ビスコRV100型流動特性測定器によって測定される。
【0077】この測定器は、図1に示すようにモータM
により回転駆動される外筒と、該外筒内の分散液に浸漬
され、支持枠にばねを介して支持された内筒とから構成
されている。前記外筒がモータMにより剪断速度D(1
/sec)で回転駆動されるとき、内筒には介在する分散
液の粘性係数η(dyne/cm2・sec)に基づくトルクを生
じ、このトルクはばねの捩れを生ずる。このばねの捩れ
角をトルクセンサにより検知し、分散液の剪断応力τ
(dyne/cm2)が測定される。
により回転駆動される外筒と、該外筒内の分散液に浸漬
され、支持枠にばねを介して支持された内筒とから構成
されている。前記外筒がモータMにより剪断速度D(1
/sec)で回転駆動されるとき、内筒には介在する分散
液の粘性係数η(dyne/cm2・sec)に基づくトルクを生
じ、このトルクはばねの捩れを生ずる。このばねの捩れ
角をトルクセンサにより検知し、分散液の剪断応力τ
(dyne/cm2)が測定される。
【0078】図2は、式(1) τ=τ0+ηDB・・・(1) で示される分散液の流動特性を説明するための模式的グ
ラフである。該グラフには、分散速度D(1/sec)
(横軸)と剪断応力τ(dyne/cm2)(縦軸)を関数関係
として分散特性の異なる(A),(B),(C)及び
(D)の各分散液の流動特性が示され、又該グラフから
マイコンにより計算される各流動特性の羃指数B=1.
0,0.7,0.5及び1.2が示されている。なお縦軸には補助
的に剪断応力τとしてパスカル(Pa)のスケールも示し
た。
ラフである。該グラフには、分散速度D(1/sec)
(横軸)と剪断応力τ(dyne/cm2)(縦軸)を関数関係
として分散特性の異なる(A),(B),(C)及び
(D)の各分散液の流動特性が示され、又該グラフから
マイコンにより計算される各流動特性の羃指数B=1.
0,0.7,0.5及び1.2が示されている。なお縦軸には補助
的に剪断応力τとしてパスカル(Pa)のスケールも示し
た。
【0079】図2において、例えば分散液(A)は、羃
指数Bが1.0の場合であり、剪断速度Dの増大と共に、
剪断応力τが直線的に増大し、かつ粘性係数ηが剪断速
度の変化に係らず一定である所謂ニュートン液体であ
り、理想液体と称される。このような分散液は塗布加工
の過程で粘性の変化がなく物性が安定していて極めて均
質な塗膜が得られる。
指数Bが1.0の場合であり、剪断速度Dの増大と共に、
剪断応力τが直線的に増大し、かつ粘性係数ηが剪断速
度の変化に係らず一定である所謂ニュートン液体であ
り、理想液体と称される。このような分散液は塗布加工
の過程で粘性の変化がなく物性が安定していて極めて均
質な塗膜が得られる。
【0080】本発明においては、前記ニュートン液体の
特性を示す分散液の外、剪断速度Dが増大する過程で分
子間会合等により粘性の増大を伴うものと、分子の配
向、分子の分解、凝集の解離等により粘性の減少を伴う
ものが含まれるが前記粘性の増大を伴う分散液、即ち指
数Bが1.3を越えるものは塗布加工性に乏しく、本発明
においては排除される。
特性を示す分散液の外、剪断速度Dが増大する過程で分
子間会合等により粘性の増大を伴うものと、分子の配
向、分子の分解、凝集の解離等により粘性の減少を伴う
ものが含まれるが前記粘性の増大を伴う分散液、即ち指
数Bが1.3を越えるものは塗布加工性に乏しく、本発明
においては排除される。
【0081】また前記粘性の減少を伴うものとしての分
散液(B)は、羃指数Bが0.7であり、剪断速度Dの増
大の過程で粘性減少を伴うが、塗布加工を行う上で支障
のない範囲であり、本発明の下限である。ところが前記
分散液(C)の場合は、羃指数Bが0.5であって、前記
分散液(B)の羃指数Bの0.7を下廻るもので塗布加工
中粘性等の物性変化が大きく塗布むら、塗布筋、液垂れ
等を生じて不適格であり、本発明の範囲外である。
散液(B)は、羃指数Bが0.7であり、剪断速度Dの増
大の過程で粘性減少を伴うが、塗布加工を行う上で支障
のない範囲であり、本発明の下限である。ところが前記
分散液(C)の場合は、羃指数Bが0.5であって、前記
分散液(B)の羃指数Bの0.7を下廻るもので塗布加工
中粘性等の物性変化が大きく塗布むら、塗布筋、液垂れ
等を生じて不適格であり、本発明の範囲外である。
【0082】即ち本発明では、分散液の良否は、剪断速
度D(1/sec)と剪断応力τ(dyne/cm2)をパラメー
タとして、ロトビスコ流動特性測定器等により測定され
る分散液の流動特性の羃指数Bにより規定され、該指数
Bにより本発明の範囲が限定される。
度D(1/sec)と剪断応力τ(dyne/cm2)をパラメー
タとして、ロトビスコ流動特性測定器等により測定され
る分散液の流動特性の羃指数Bにより規定され、該指数
Bにより本発明の範囲が限定される。
【0083】更に前記のように本発明に係る分散液の良
否は羃指数Bにより規定されるが、同時に該分散液の良
否は分散液の粘性との係り合いが大である。従って本発
明では羃指数Bと共に粘性係数ηを併せて考慮するが、
この粘性係数ηは、 粘性係数η(dyne/cm2・sec) =剪断応力τ(dyne/cm2)/剪断速度D(1/sec) の関係があり、前記ロトビスコ測定器により剪断速度D
に対応する剪断応力が測定される際、同時に演算されて
粘性係数ηが算出される。
否は羃指数Bにより規定されるが、同時に該分散液の良
否は分散液の粘性との係り合いが大である。従って本発
明では羃指数Bと共に粘性係数ηを併せて考慮するが、
この粘性係数ηは、 粘性係数η(dyne/cm2・sec) =剪断応力τ(dyne/cm2)/剪断速度D(1/sec) の関係があり、前記ロトビスコ測定器により剪断速度D
に対応する剪断応力が測定される際、同時に演算されて
粘性係数ηが算出される。
【0084】また前記測定器に表示される単位は、実用
上剪断応力りパスカル(Pa)を用い、粘性係数ηにセン
チポイズ(CP)を用いるので、本発明においてはηの値
は便宜上(CP)で表示される。
上剪断応力りパスカル(Pa)を用い、粘性係数ηにセン
チポイズ(CP)を用いるので、本発明においてはηの値
は便宜上(CP)で表示される。
【0085】ここで前記単位の換算式は以下のようであ
る。
る。
【0086】剪断応力1Pa=10dyne/cm2 粘性係数1dyne/cm2・sec=100CP なお後記実施例で示される粘性係数η(CP)は、測定器
の機能上の制約により慣用粘性係数ηが用いられる。
の機能上の制約により慣用粘性係数ηが用いられる。
【0087】例えば特定の剪断速度300(1/sec)にお
ける剪断応力τの縦軸と分散液(B)又は分散液(C)
の特性曲線との交点と原点とを結ぶ直線の傾きにより示
される。
ける剪断応力τの縦軸と分散液(B)又は分散液(C)
の特性曲線との交点と原点とを結ぶ直線の傾きにより示
される。
【0088】又前記流動特性の測定では剪断速度D=0
(1/sec)から例えばD=300(1/sec)への行きの
測定と、逆にD=0(1/sec)への戻りの測定がある
が、前記戻りの測定においてτ0が有限の値を示すこと
が多い。しかし本発明では前記行きの測定を基準として
いるため、近似的にτ0=0として処理される。
(1/sec)から例えばD=300(1/sec)への行きの
測定と、逆にD=0(1/sec)への戻りの測定がある
が、前記戻りの測定においてτ0が有限の値を示すこと
が多い。しかし本発明では前記行きの測定を基準として
いるため、近似的にτ0=0として処理される。
【0089】
【表1】
【0090】表1に示されるように実施例試料は、光感
度、耐久性、画質ともに良好であるが、比較例試料は白
紙電位が高くかぶりを生じ易い。べた黒中に白点の発生
が起る。
度、耐久性、画質ともに良好であるが、比較例試料は白
紙電位が高くかぶりを生じ易い。べた黒中に白点の発生
が起る。
【0091】
【発明の効果】本発明の構成により、初めてペリレン系
顔料を用いて高感度で且つ電位特性、耐久性及び画質の
良好な感光体がえられる。
顔料を用いて高感度で且つ電位特性、耐久性及び画質の
良好な感光体がえられる。
【図1】流動特性測定器の説明図
【図2】分散液の流動性を説明するための模式的グラフ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−180956(JP,A) 特開 昭63−55553(JP,A) 特開 平4−276761(JP,A) 特開 昭63−210846(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03G 5/06 380 G03G 5/05 101 G03G 5/05 102
Claims (2)
- 【請求項1】 導電性支持体上に構成層として少くとも
バリア層、電荷発生層及び電荷輸送層をこの順に積層し
た電子写真感光体において、前記バリア層の主たる成分
がポリアミド樹脂よりなり、前記電荷発生層がブチラー
ル化度70モル%以上のポリビニルブチラール樹脂に下記
一般式〔I〕で表される化合物及び/又は一般式〔II〕
で表される化合物を電荷発生物質として含みケトン系溶
剤を主たる溶媒として分散、溶解して塗設してなること
を特徴とする電子写真感光体。 【化1】 〔但し一般式〔I〕,〔II〕において、Zは置換、無置
換の2価の芳香環を形成するに必要な原子群である。〕 - 【請求項2】 下記式(1)及び(2)を満足する流動
性を有する前記電荷発生層用塗料を塗設することを特徴
とする請求項1に記載の電子写真感光体。 τ=τ0+ηDB (1) 0.7≦B≦1.3 (2) 〔但し式中、τは塗料の剪断応力(dyne/cm2)、Dは
剪断速度(l/sec)、ηは粘性係数(dyne/cm2・se
c)、τ0はD=0のときのτの値である。BはDの羃指
数である。〕
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05008569A JP3116198B2 (ja) | 1993-01-21 | 1993-01-21 | 電子写真感光体 |
US08/170,855 US5434027A (en) | 1992-12-25 | 1993-12-21 | Photorecptor for electrophotography and image forming method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05008569A JP3116198B2 (ja) | 1993-01-21 | 1993-01-21 | 電子写真感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP3116198B2 true JP3116198B2 (ja) | 2000-12-11 |
Family
ID=11696691
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP05008569A Expired - Lifetime JP3116198B2 (ja) | 1992-12-25 | 1993-01-21 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3116198B2 (ja) |
-
1993
- 1993-01-21 JP JP05008569A patent/JP3116198B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06222584A (ja) | 1994-08-12 |
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