JP3182629B2

JP3182629B2 - 電子写真感光体

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Publication number: JP3182629B2
Application number: JP00856893A
Authority: JP
Inventors: 嘉彦江藤; 武雄大柴; 朝夫松島
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1993-01-21
Filing date: 1993-01-21
Publication date: 2001-07-03
Anticipated expiration: 2016-07-03
Also published as: JPH06222596A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関し、
特に構成層の構成要件に関する。

【０００２】

【従来技術】電子写真感光体としては、無機光導電体又
は、有機光導電体を使用したものがある。有機光導電体
は、無公害、高生産性、低コストなどの利点があり、近
年多く使用されるようになってきた。

【０００３】前記有機光導電体の可視光を吸収して電荷
を発生する物質は、電荷保持力に乏しく、逆に、電荷保
持力が良好で、成膜性に優れた物質は、一般に可視光に
よる光導電性が乏しいという欠点がある。この問題を解
決するため、感光層を可視光を吸収して電荷を発生する
電荷発生層（ＣＧＬ）と、その電荷の輸送を行う電荷輸
送層（ＣＴＬ）とに機能分離した積層型のものとするこ
とが行われている。従って、電荷発生物質（ＣＧＭ）と
電荷輸送物質（ＣＴＭ）とを別個に選択できる様にな
り、それぞれの材料の選択基準を拡げることができる。

【０００４】従来より、ＣＧＭとしては、多環キノン顔
料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾ
ール顔料、キナクリドン顔料、フタロシアニン顔料、モ
ノアゾ顔料、ジスアゾ顔料、トリスアゾ又はポリアゾ顔
料などが知られ、又、ＣＴＭとしては、アミン系化合
物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾー
ル化合物、オキサジアゾール化合物、スチルベン化合
物、カルバゾール化合物等が知られている。例えば、ペ
リレン系顔料を用いるものとしては、特公昭61-8423
号、特開昭57-192958号、同59-59686号及び同60-122954
号等に開示がある。

【０００５】更に構成層としてＣＧＬ，ＣＴＬの外バリ
ア層（ＢＡＬ）、保護層、接着層等の補助層或は積層順
について検討が進められている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】前述のようにＣＧＬと
ＣＴＬとに機能分離された積層型の電子写真感光体にお
いて、満足のいく電子写真特性を得るためには、（１）
ＣＧＭが吸収した光に対して効率良く電荷を発生するこ
と、（２）発生した電荷が効率良くＣＴＭに注入され搬
送されることの条件が満たされることが必要とされる。
すなわち、（１）の条件が満たされていても、（２）の
条件が満たされていない場合には、満足のいく光応答性
を得ることはできない。

【０００７】又、電子写真感光体が、ＣＧＬ、ＣＴＬの
順に積層されたもので、光照射がＣＴＬ側よりなされる
場合には、高い感度を得る上で具備すべき条件として、
ＣＴＬがＣＧＬに活性な光に対して十分透明であること
が必要である。

【０００８】上記公知のＣＧＭ及びＣＴＭを使用して電
子写真感光体を作成するためには、上記した条件を満足
するものであって、感度、受容電位、電位保持性、電位
安定性、残留電位、分光特性などの電子写真特性、強
度、耐久性、耐汚染性、耐刷性などの使用特性、及び塗
布によって製造する際の製造安定性、品質安定性など、
すべての点にわたって満足させる材料を選択しなければ
ならない。しかしながら、これ等すべての点を満足する
ような材料の組合せを選択することは非常に困難なこと
であった。特に帯電特性、感度特性の初期特性が良好で
且つこれらの特性が長時間使用された後も十分に安定な
特性を有する感光体を得ることはきわめて困難なことで
あった。

【０００９】本発明は、上記のような事情に鑑み、電子
写真感光体として要求される基本特性の他に帯電特性及
び感度特性が初期は勿論のこと長時間使用後も高感度で
且つ電位安定性の優れた電子写真感光体を提供すること
を目的とするものである。

【００１０】特に高感度特性が期待されるペリレン系顔
料を電子写真感光体の電荷発生物質として使用した場合
に長時間使用後も高感度で且つ電位安定性の優れた感光
体を提供することを目的とするものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、感光体構
成層の構成要件について多岐にわたる観点より検討した
結果、本発明の課題は；導電性支持体上に構成層として
少なくともバリア層、電荷発生層及び電荷輸送層をこの
順に設けた電子写真感光体において、前記バリア層がア
ルコール可溶性の共重合ポリアミド樹脂よりなり、前記
電荷発生層に前記〔化１〕に記載の構成諸元を特定した
一般式〔Ｉ〕で表される化合物及び／又は一般式〔Ｉ
Ｉ〕で表される化合物を含み、かつ前記電荷輸送層がＭ
ｗ１０万以上のポリカーボネートをメチレンクロライド
に溶解して塗接してなることを特徴とする電子写真感光
体によって解決された。

【００１２】また、本発明の課題は、前述の電子写真感
光体の他に、導電性支持体上に構成層として少なくとも
バリア層、電荷発生層及び電荷輸送層をこの順に設けた
電子写真感光体において、前記バリア層がアルコール可
溶性の共重合ポリアミド樹脂よりなり、前記電荷発生層
に前記〔化１〕に記載の構成諸元を特定した一般式
〔Ｉ〕で表される化合物及び／又は一般式〔ＩＩ〕で表
される化合物を含み、かつ前記電荷輸送層がＭｗ１０万
以上のポリカーボネートをテトラヒドロフランに溶解し
て塗設してなる電子写真感光体、及び、導電性支持体上
に構成層として少なくともバリア層、電荷発生層及び電
荷輸送層をこの順に設けた電子写真感光体において、前
記バリア層がアルコール可溶性の共重合ポリアミド樹脂
よりなり、前記電荷発生層に前記〔化１〕に記載の構成
諸元を特定した一般式〔Ｉ〕で表される化合物及び／又
は一般式〔ＩＩ〕で表される化合物を含み、かつ前記電
荷輸送層がＭｗ１０万以上のポリカーボネートをクロロ
ホルムに溶解して塗設してなる電子写真感光体によって
解決された。また、ＣＴＬに含まれるＣＴＭは前記〔化
２〕に記載の構成諸元を特定した一般式〔Ｔａ〕及び／
又は〔Ｔｂ〕で示される化合物であることが好ましい。

【００１３】以上のような構成にすることにより初期か
ら長時間使用後にわたり著しく高感度でしかも電位特性
の安定した優れた感光体を得ることができる。

【００１４】ここで本発明の構成要件であるアルコール
可溶性の共重合ポリアミド樹脂，電荷発生物質である
〔化１〕、〔化２〕に記載の化合物及びＭw10万以上の
ポリカーボネートの溶媒溶液から得られる電荷輸送層の
どの１つを欠いても上記特性を示す電子写真感光体に仕
上げることは不可能である。

【００１５】即ち前記３つの構成要件のどの１つが欠け
ても初期及び長時間使用後の感度及び帯電特性を十分に
満足させることはできない。

【００１６】例えば本発明以外のＣＧＭを用いると初期
感度は十分でも長時間での安定性が十分でない。又、バ
リア層を他の樹脂（例えばウレタン樹脂）で構成すると
同様に初期及び長時間使用後の感度及び帯電特性を劣化
させる。又、ＣＴＬのバインダ樹脂としてＭw10万未満
のポリカーボネートを採用すると長時間使用後の感度帯
電電位を著しく劣化させると云う現象が生じる。

【００１７】さらにＣＴＬは、ＣＴＭとバインダ樹脂を
有機溶媒に溶解した溶液を塗布することにより得る場合
が多いが、高分子量のポリカーボネートを用いた場合そ
の溶液粘度が高く、塗布が困難になるという問題があっ
た。

【００１８】これに対してポリカーボネートに高い溶解
性をもつ溶媒を用いることが考えられるが、これは、下
層即ちＢＡＬやＣＧＬの膨潤、溶解さらには、ＣＴＬと
の溶解、混交を生じ、感度が低下したり、残留電位が上
昇するなどの不都合を生じ、好ましくなかった。

【００１９】これに関し、検討を加えた結果、ＢＡＬの
主成分をアルコール可溶性の共重合ポリアミド樹脂と
し、更にＣＧＬに本発明の顔料を含有させることにより
前記の問題点が解消された。

【００２０】前記一般式〔I〕又は〔II〕で表される化
合物；ビスイミダゾピリドノペリレン（ＢＩＰＰと標
記）において、Ｚで表される芳香族環の好ましい例とし
ては、例えばベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン
環、フェナンスレン環、ピリジン環、ピリミジン環、ピ
ラゾール環、アントラキノン環等が挙げられ、特にベン
ゼン環又はナフタレン環であることが好ましい。またＺ
で表される芳香族環は置換されていてもよく、置換基と
しては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、アシール基、アシロキシ基、アミノ基、
カルバモイル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基な
どを挙げることができる。

【００２１】以下本発明に用いられるＢＩＰＰの具体例
を示すが、本発明はこれらによって限定されるものでは
ない。

【００２２】

【化３】

【００２３】感光体の層構成は種々の形態が知られてい
るが、本発明の感光体は積層型の機能分離型感光体とす
る。該層構成は、導電性支持体上にＢＡＬを設け、その
上にＣＧＭを含有するＣＧＬを形成し、これに電荷輸送
物質（ＣＴＭ）を含有するＣＴＬを積層して形成したも
のである。また構成層と導電性支持体の間に接着層など
の補助層を設けてもよいし、最表層にはさらに保護層を
設けてもよい。

【００２４】本発明に係るバリア層（ＢＡＬ）は共重合
ポリアミド樹脂をアルコール系溶媒に溶解し支持体上或
は接着層上に塗布し形成される。

【００２５】共重合ポリアミド樹脂としてはナイロン樹
脂と通称するものが用いられ、ナイロン６、ナイロン6
6、ナイロン610、ナイロン11、ナイロン12等の共重合体
が挙げられる。

【００２６】また溶解に用いられるアルコール系溶媒と
してはメチルアルコール、エチルアルコール、ブチルア
ルコール等が挙げられる。

【００２７】ＣＧＬは、例えば下記に示す方法によって
作製された塗布液を導電性支持体上に直接、あるいは必
要に応じて接着層を設けた上にＢＡＬを設けてその上に
塗布することにより形成することができる。

【００２８】前記ＣＧＭを適当な溶媒に溶解した溶
液、あるいは更に必要に応じてバインダ樹脂加え混合溶
解した溶液。

【００２９】前記ＣＧＭをボールミル、サンドグライ
ンダ等を用いて分散を行い、微細粒子（好ましくは粒径
５μm以下、更に好ましくは１μm以下）とし、必要に応
じてバインダ樹脂および／又はＣＴＭを加え混合分散し
た分散液。

【００３０】ＣＧＬの形成に使用される溶媒あるいは分
散媒としては、ブチルアミン、ジエチルアミン、エチレ
ンジアミン、イソプロパノールアミン、トリエタノール
アミン、トリエチレンジアミン、N,N-ジメチルホルムア
ミド、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、クロロホルム、1,2-ジクロルエタン、1,2-ジク
ロルプロパン、1,1,2-トリクロルエタン、1,1,1-トリク
ロルエタン、トリクロルエチレン、テトラクロルエタ
ン、ジクロルメタン、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、酢酸
エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド、メチルセ
ロソルブ等が挙げられるが、本発明はこれらに限定され
るものではない。

【００３１】ＣＧＬの形成に用いられるバインダ樹脂は
任意のものを用いることができるが、疎水性で、かつ誘
電率が高く、電気絶縁性のフィルム形成性高分子重合体
を用いることが好ましい。このような高分子重合体とし
ては、例えば次のものを挙げることができるが、これら
に限定されるものではない。

【００３２】Ｐ−１）ポリカーボネートＰ−２）ポリエステルＰ−３）メタクリル酸Ｐ−４）ポリアクリル樹脂Ｐ−５）ポリ塩化ビニルＰ−６）ポリ塩化ビニリデンＰ−７）ポリスチレンＰ−８）ポリビニルアセテートＰ−９）スチレン-プタジエン共重合体Ｐ−10）塩化ビニリデン-アクリロニトリル共重合体Ｐ−11）塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体Ｐ−12）塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸共重
合体Ｐ−13）シリコーン樹脂Ｐ−14）シリコーン-アルキッド樹脂Ｐ−15）フェノールホルムアルデヒド樹脂Ｐ−16）スチレン-アルキッド樹脂Ｐ−17）ポリ-N-ビニルカルバゾールＰ−18）ポリビニルブチラールＰ−19）ポリビニルフォルマールこれらのバインダ樹脂は、単独であるいは２種以上の混
合物として用いることができる。

【００３３】以上のようにして形成されるＣＧＬにおい
て、一般式〔Ｉ〕および／または一般式〔II〕で表され
るＢＩＰＰからなるＣＧＭとバインダとの重量比は好ま
しくは100：10〜1000である。ＣＧＭの含有割合がこれ
より少いと光感度が低く、残留電位の増加を招き、また
これにより多いと暗減衰及び受容電位が低下する。

【００３４】また、ＣＧＬ中にＣＴＭを含有する場合に
は、ＣＧＭとＣＴＭとの割合は重量比で10：０〜10：10
00であることが好ましく、特に好ましくは10：０〜10：
100である。

【００３５】形成されるＣＧＬの膜厚は、好ましくは0.
01〜10μmである。

【００３６】本発明に係るＣＴＬにはＭw10万以上のポ
リカーボネートが必須に含有される。Ｍw10万以下では
耐刷性等に対する強度が不足する。

【００３７】カーボネートとしてはビスフェノールＡ
型、更に好ましくはビスフェノールＺ型と称される２つ
のベンゼン間に介在する炭素原子に立体的に複雑な置換
基好ましくは環状の置換基を有するものである。

【００３８】該樹脂には一般にポリカーボネートを溶解
する溶媒を用いることができるが、特に好ましくはメチ
レンクロライド、テトラヒドロフラン、クロロホルムを
用いた時良好な感度及び電位安定性を達成する事がで
き、かつ塗布性が良好となる。

【００３９】本発明に用いられるＣＴＭとしては、例え
ばオキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チア
ゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘
導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミ
ダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリ
ル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン誘導体、アミ
ン誘導体、オキサゾロン誘導体、ベンゾチアゾール誘導
体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベ
ンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導
体、アミノスチルベン誘導体、ポリ-N-ビニルカルバゾ
ール、ポリ-1-ビニルピレン、ポリ-9-ビニルアントラセ
ン等が挙げられる。

【００４０】ただし本発明においてＣＴＭは、光照射時
に発生するホールの感光体表面側または支持体側への輸
送能力の他、前記ＢＩＰＰ等のＣＧＭとの組合せも考慮
して選択されることが好ましく、かかるＣＴＭとしては
前記〔化２〕に記載した構成諸元を特定した一般式〔Ｔ
ａ〕及び／又は〔Ｔｂ〕で表される化合物を挙げること
ができる。

【００４１】このような化合物の具体例は特開昭58-654
40号の第３〜４頁及び同第58-198043号の第３〜６頁に
詳細に記載されている。

【００４２】また、前記のようにして形成されるＣＴＬ
において、ＣＴＭはＣＴＬ中のバインダ樹脂100重量部
当り20〜200重量部が好ましく、特に好ましくは30〜150
重量部である。

【００４３】また、形成されるＣＴＬの厚さは、好まし
くは５〜60μm、特に好ましくは10〜40μmである。本発
明の電子写真感光体に用いられる導電性支持体として
は、合金を含めた金属板、金属ドラムまたは導電性ポリ
マー、酸化インジウム等の導電性化合物や合金を含めた
アルミニウム、パラジウム、金等の金属薄層を塗布、蒸
着あるいはラミネートして、導電性化された紙、プラス
チックフィルム等が挙げられる。

【００４４】本発明の構成層にはＣＧＭの電荷発生機能
を改善する目的で有機アミン類を添加することができ、
特に２級アミンを添加するのが好ましい。

【００４５】かかる２級アミンとしては、例えばジメチ
ルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジ-イ
ソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジ-イソブチルア
ミン、ジアミルアミン、ジ-イソアミルアミン、ジヘキ
シルアミン、ジ-イソヘキシルアミン、ジペンチルアミ
ン、ジ-イソペンチルアミン、ジ-オクチルアミン、ジ-
イソオクチルアミン、ジノニルアミン、ジ-イソノニル
アミン、ジデシルアミン、ジ-イソデシルアミン、ジモ
ノデシルアミン、ジ-イソモノデシルアミン、ジドデシ
ルアミン、ジ-イソドデシルアミン等を挙げることがで
きる。

【００４６】かかる有機アミン類の添加量としては、Ｃ
ＧＭの等量以下、好ましくは0.2倍〜0.005倍の範囲のモ
ル数とするのがよい。

【００４７】本発明においてＣＧＬには感度の向上、残
留電位乃至反復使用時の疲労低減等を目的として、一種
又は二種以上の電子受容性物質を含有せしめることがで
きる。

【００４８】ここに用いることのできる電子受容性物質
としては、例えば無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロ
ム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フ
タル酸、テトラブロム無水フタル酸、3-ニトロ無水フタ
ル酸、4-ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無
水メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキ
ノジメタン、o-ジニトロベンゼン、m-ジニトロベンゼ
ン、1,3,5-トリニトロベンゼン、パラニトロベンゾニト
リル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、クロ
ラニル、ブルマニル、ジクロルジシアノパラベンゾキノ
ン、アントラキノン、ジニトロアントラキノン、2,7-ジ
ニトロフルオレノン、2,4,7-トリニトロフルオレノン、
2,4,5,7-テトラニトロフルオレノン、9-フルオレニリデ
ン[ジシアノメチレンマロノジニトリル]、ポリニトロ-9
-フルオレニリデン-[ジシアノメチレンマロノジニトリ
ル]、ピクリル酸、o-ニトロ安息香酸、p-ニトロ安息香
酸、3,5-ジニトロ安息香酸、ペンタフルオル安息香酸、
5-ニトロサリチル酸、3,5-ジニトロサリチル酸、フタル
酸、メリット酸、その他の電子親和力の大きい化合物を
挙げることができる。

【００４９】電子受容性物質の添加量は、重量比で電荷
発生物質：電子受容性物質＝100：0.01＝200、好ましく
は100：0.1〜100である。

【００５０】電子受容性物質はＣＴＬに添加してもよ
い。かかる層への電子受容性物質の添加量は重量比でＣ
ＴＭ：電子受容性物質＝100：0.01〜100、好ましくは10
0：0.1〜50である。

【００５１】また本発明の感光体には、その他、必要に
より感光性を保護する目的で酸化防止剤や紫外線吸収剤
等を含有してもよく、また感色性補正の染料を含有して
もよい。

【００５２】

【実施例】以下実施例を用いて本発明を更に詳しく説明
するが、本発明はこれらにより限定されるものではな
い。

【００５３】支持体として直径80mm、長さ355.5mmのア
ルミニウム基体を用意した。

【００５４】実施例１共重合ポリアミド樹脂（東レ(株)製CM8000）50gをメタ
ノール900ml、1-ブタノール100mlの混合溶媒中に溶解し
た液にアルミニウム基体を浸漬、引き上げる事により厚
さ0.3μmのＢＡＬを塗布した。

【００５５】次いでポリビニルブチラール樹脂（積水化
学工業(株)製エスレックBL-S）３ｇをＭＥＫ３００ｍ
ｌ、シクロヘキサノン50mlの混合溶媒中に溶解した液に
例示化合物Ａ−１；６gを加え、サンドグラインダを用
いて５時間分散し、ＣＧＬ形成用塗布液を得た。この液
を用いて浸漬塗布によりＢＡＬ上に厚さ0.3μmのＣＧＬ
を形成した。

【００５６】ジクロロメタン1000mlにポリカーボネート
樹脂（帝人化成(株)製パンライトTS-2050、Mw14.5万）1
50gとＣＴＭとして下記Ｔ−１；110gを溶解した液を用
いてＣＧＬ上に浸漬塗布後、100℃で１時間乾燥し厚さ2
0μmのＣＴＬを形成した。

【００５７】実施例２ポリアミド樹脂を共重合ポリアミド樹脂（デュポン(株)
製エルバマイド8061）に変更した他は実施例１と同様に
してＢＡＬを形成した。

【００５８】ＣＧＬ及びＣＴＬは実施例１と同様にして
感光体をえた。

【００５９】実施例３実施例１と同様のＢＡＬを形成し次のＣＧＬ，ＣＴＬを
形成した。

【００６０】ポリビニルブチラール樹脂をポリビニルブ
チラール樹脂（積水化学工業(株)製エスレックBH-S）
に、溶媒をメチルエチルケトンに変更した他は実施例１
と同様にしてＣＧＬを形成した。

【００６１】次いで溶媒をテトラヒドロフランに、ＣＴ
Ｍを下記Ｔ−２に変更した他は実施例１と同様にしてＣ
ＴＬを形成した。

【００６２】実施例４ＢＡＬ及びＣＧＬを実施例３と同様に形成し、溶媒をク
ロロホルムにＣＴＭを下記Ｔ−３に変更した他は実施例
３と同様にして前記のＣＴＬを積層し、感光体をえた。

【００６３】実施例５ＢＡＬ及びＣＧＬを実施例３と同様に形成し、ポリカー
ボネート樹脂を三菱瓦斯化学(株)製ユーピロンPCZ-400
（Mw11.5万）に変更した他は実施例１と同様にしてＣＴ
Ｌを積層し、感光体をえた。

【００６４】実施例６ＢＡＬ及びＣＧＬを実施例３と同様に形成し、ポリカー
ボネート樹脂を三菱瓦斯化学(株)製ユーピロンPCZ-800
（Mw24.5万）に変更した他は実施例１と同様にしてＣＴ
Ｌを積層し、感光体をえた。

【００６５】比較例（１）ポリアミド樹脂を変性ポリアミド樹脂（ダイセルヒュル
ス(株)製X-1874M）に変更した他は実施例１と同様にし
てＢＡＬを形成した。この上に実施例１と同様のＣＧ
Ｌ，ＣＴＬを積層して感光体をえた。

【００６６】比較例（２）ＢＡＬ，ＣＧＬは実施例１と同様とし、ポリカーボネー
ト樹脂を三菱瓦斯化学(株)製ユーピロンPCZ-300（Mw8.5
万）に、ＣＴＭを下記Ｔ−３に変更した他は実施例１と
同様にしてＣＴＬを形成した。

【００６７】

【化４】

【００６８】比較例（３）ポリアミド樹脂を変性ポリアミド樹脂（大日本インキ化
学工業(株)製ラッカマイド5003）に変更した他は実施例
１と同様にしてＢＡＬを形成した。この上に実施例１と
同じＣＧＬ、比較例（２）と同じＣＴＬを形成した。

【００６９】比較例（４）ＢＡＬ及びＣＴＬは実施例１と同様にしＣＧＬのＣＧＭ
を下記Ｇ−１に、ポリビニルブチラール樹脂をポリビニ
ルブチラール樹脂（積水化学工業(株)製エスレックBX-
1）に変更した他は実施例１と同様にしてＣＴＬを形成
した。

【００７０】比較例（５）ＢＡＬ及びＣＴＬは実施例１と同様にし、ＣＧＭを下記
Ｇ−２に、溶媒をメチルイソプロピルケトンに変更した
他は実施例１と同様にしてＣＧＬを形成した。

【００７１】比較例（６）ＢＡＬは実施例と同様にし、ポリビニルブチラール樹脂
をポリビニルブチラール樹脂（積水化学工業(株)製エス
レックBH-S）に、溶媒をメチルエチルケトンに変更した
他は実施例１と同様にしてＣＴＬを形成し、更にポリカ
ーボネート樹脂を三菱瓦斯化学(株)製ユーピロンPCZ-20
0（Ｍw5.2万）に変更した他は実施例１と同様にしてＣ
ＴＬを形成した。

【００７２】比較例（７）ＢＡＬは実施例１と同様、ＣＧＬは比較例（６）と同様
とし、溶媒をジクロルエタンに変更した他は実施例１と
同様にしてＣＴＬを形成した。

【００７３】前記のようにしてえられた感光体試料に対
して下記の特性チェックを行った。

【００７４】

【化５】

【００７５】「U-Bix 4045」を用いて10万コピーの実写
試験を行い、１回目と10万回目の黒紙、白紙電位及び残
留電位Ｖr（ｖ）を測定した。またこの間の膜厚の減耗
量（μm／100kc）を求めた。

【００７６】白低電位；濃度0.0の原稿面を複写すると
きのドラムの表面電位，Ｖw（ｖ）黒紙電位；濃度1.30の原稿面を複写するときのドラムの
表面電位，Ｖb（Ｖ）更にＣＴＬの塗布状態を観察した。

【００７７】上記結果を表１に示す。

【００７８】

【表１】

【００７９】

【発明の効果】高感度で、かつ長時間使用に対しても著
しく安定性のよい電子写真感光体を構成することがで
き、かつＣＴＬ溶媒としてメチレンクロライド、テトラ
ヒドロフラン、クロロホルムを用いることで、上記高感
度、高安定性を有し、かつ生産性の高い電子写真感光体
を得ることができる。

フロントページの続き (56)参考文献特開平４−186364（ＪＰ，Ａ) 特開平４−186363（ＪＰ，Ａ) 特開平４−344651（ＪＰ，Ａ) 特開平３−171055（ＪＰ，Ａ) 特開平５−6015（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03G 5/00 - 5/16

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】導電性支持体上に構成層として少なくと
もバリア層、電荷発生層及び電荷輸送層をこの順に設け
た電子写真感光体において、前記バリア層がアルコール
可溶性の共重合ポリアミド樹脂よりなり、前記電荷発生
層に下記一般式〔Ｉ〕で表される化合物及び／又は一般
式〔ＩＩ〕で表される化合物を含み、かつ、前記電荷輸
送層がＭｗ１０万以上のポリカーボネートをメチレンク
ロライドに溶解して塗設してなることを特徴とする電子
写真感光体。【化１】〔但し、一般式〔Ｉ〕、〔ＩＩ〕において、Ｚは置換、
無置換の２価の芳香環を形成するのに必要な原子群であ
る。〕
【請求項２】導電性支持体上に構成層として少なくと
もバリア層、電荷発生層及び電荷輸送層をこの順に設け
た電子写真感光体において、前記バリア層がアルコール
可溶性の共重合ポリアミド樹脂よりなり、前記電荷発生
層に下記一般式〔Ｉ〕で表される化合物及び／又は一般
式〔ＩＩ〕で表される化合物を含み、かつ、前記電荷輸
送層がＭｗ１０万以上のポリカーボネートをテトラヒド
ロフランに溶解して塗設してなることを特徴とする電子
写真感光体。【化２】〔但し、一般式〔Ｉ〕、〔ＩＩ〕において、Ｚは置換、
無置換の２価の芳香環を形成するのに必要な原子群であ
る。〕
【請求項３】導電性支持体上に構成層として少なくと
もバリア層、電荷発生層及び電荷輸送層をこの順に設け
た電子写真感光体において、前記バリア層がアルコール
可溶性の共重合ポリアミド樹脂よりなり、前記電荷発生
層に下記一般式〔Ｉ〕で表される化合物及び／又は一般
式〔ＩＩ〕で表される化合物を含み、かつ、前記電荷輸
送層がＭｗ１０万以上のポリカーボネートをクロロホル
ムに溶解して塗設してなることを特徴とする電子写真感
光体。【化３】〔但し、一般式〔Ｉ〕、〔ＩＩ〕において、Ｚは置換、
無置換の２価の芳香環を形成するのに必要な原子群であ
る。〕
【請求項４】前記電荷輸送層に含まれる電荷輸送物質
が、下記一般式〔Ｔａ〕及び／又は〔Ｔｂ〕で示される
化合物であることを特徴とする請求項１〜３に記載の電
子写真感光体。【化４】〔ただし、一般式〔Ｔａ〕、〔Ｔｂ〕において、Ａ
ｒ₁ 、Ａｒ₂ 、Ａｒ₄ 、Ａｒ₅及びＡｒ₇はそれぞれ置換又
は無置換のアリール基、Ａｒ₃及びＡｒ₆は置換又は無置
換のアリーレン基を表し、Ｒ₁及びＲ₂は水素原子、アル
キル基、アリール基を表し、これらの基は置換基を有し
てもよい。また、ｎは１〜２の整数である。〕