JPH06222584A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 電位特性、耐久性及び画質のよい感光体の提
供。 【構成】 バリア層をポリアミド樹脂とし、電荷発生層
をブチラール化度70モル％以上のポリビニルブチラール
樹脂、ビスイミダゾピリドノペリレンをケトン系溶剤に
溶かして流動性を規制し塗布形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関し、
特に構成層の構成要件に関する。

【０００２】

【従来技術】電子写真感光体としては、無機光導電体又
は、有機光導電体を使用したものとがある。有機光導電
体は、無公害、高生産性、低コストなどの利点があり、
近年多く使用されるようになってきた。

【０００３】前記有機光導電体の可視光を吸収して電荷
を発生する物質は、電荷保持力に乏しく、逆に、電荷保
持力が良好で、成膜性に優れた物質は、一般に可視光に
よる光導電性がに乏しいという欠点がある。この問題を
解決するため、感光層を可視光を吸収して電荷を発生す
る電荷発生層（ＣＧＬ）と、その電荷の輸送を行う電荷
輸送層（ＣＴＬ）とに機能分離した積層型のものとする
ことが行われている。従って、電荷発生物質（ＣＧＭ）
と電荷輸送物質（ＣＴＭ）とを別個に選択できるように
なり、それぞれの材料の選択基準を拡げることができ
る。

【０００４】従来より、ＣＧＭとしては、多環キノン顔
料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾ
ール顔料、キナクリドン顔料、フタロシアニン顔料、モ
ノアゾ顔料、ジスアゾ顔料、トリスアゾ又はポリアゾ顔
料などが知られ、又、ＣＴＭとしては、アミン系化合
物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾー
ル化合物、オキサジアゾール化合物、スチルベン化合
物、カルバゾール化合物等が知られている。例えば、ペ
リレン系顔料を用いるものとしては、特公昭61-8423
号、特開昭57-192958号、同59-59686号及び同60-122954
号等に開示がある。

【０００５】更に構成層としてＣＧＬ，ＣＴＬの外バリ
ア層（ＢＡＬ）、保護層、接着層等の補助層或は積層順
について検討が進められている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】前述のようにＣＧＬと
ＣＴＬとに機能分離された積層型の電子写真感光体にお
いて、満足のいく電子写真特性を得るためには、（１）
ＣＧＭが吸収した光に対して効率良く電荷を発生するこ
と、（２）発生した電荷が効率良くＣＴＭに注入され搬
送されることの条件が満たされることが必要とされる。
すなわち、（１）の条件が満たされていても、（２）の
条件が満たされていない場合には、満足のいく光応答性
を得ることはできない。

【０００７】又、電子写真感光体が、ＣＧＬ、ＣＴＬの
順に積層されたもので、光照射がＣＴＬ側よりなされる
場合には、高い感度を得る上で具備すべき条件として、
ＣＴＬがＣＧＬに活性な光に対して十分透明であること
が必要である。

【０００８】上記公知のＣＧＭ及びＣＴＭを使用して電
子写真感光体を作成するためには、上記した条件を満足
するものであって、感度、受容電位、電位保持性、電位
安定性、残留電位、分光特性などの電子写真特性、強
度、耐久性、耐汚染性、耐刷性などの使用特性、及び塗
布によって製造する際の製造安定性、品質安定性など、
すべての点にわたって満足されるべき材料を選択しなけ
ればならない。しかしながら、これ等すべての点を満足
するような材料の組合せを選択することは非常に困難な
ことであった。

【０００９】本発明は、上記のような事情に鑑み、電子
写真感光体として要求される事項を満足する要件を見出
すことにより、電位特性、耐久性、画質の優れた電子写
真感光体を提供することを目的とするものである。特に
ビスイミダゾピリドノペリレンを初めとするペリレン顔
料は電荷発生材料としては旧くから研究されているが、
これら顔料は顔料分散液の安定性、微粒分散性、アルミ
基体上への均質な塗布性等の課題が解決されず、これま
で高感度で耐久性が良く且つ良好な画質が得られる感光
体を実現することは出来なかった。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者らは感光体構成
層の構成要件について、多岐に亘る観点からの検討の結
果、本発明の課題は；導電性支持体上に構成層として少
くともバリア層、電荷発生層及び電荷輸送層をこの順に
積層した電子写真感光体において、前記バリア層の主た
る成分がポリアミド樹脂よりなり、前記電荷発生層がブ
チラール化度70モル％以上のポリビニルブチラール樹脂
に前記〔化１〕に記載の構成諸元を特定した一般式
〔I〕で表される化合物及び／又は一般式〔II〕で表さ
れる化合物を電荷発生物質として含みケトン系溶剤を主
たる溶媒として分散、溶解して塗設してなることを特徴
とする電子写真感光体によって解決される。

【００１１】尚本発明の態様は電荷発生層用塗料の流動
性を； τ＝τ₀＋ηＤ^B 0.7≦Ｂ≦1.3 を満足するように規制することが好ましい。前記式にお
いτは剪断応力、Ｄは剪断速度、ηは粘性係数、τ₀は
Ｄ＝０のときのτ値である。更にＢはＤの羃指数であ
る。

【００１２】前記本発明の構成要件は互に相乗的に作用
し合って感度特性、帯電特性、塗布特性、膜物性につい
ての目標規準を達成するものである。

【００１３】即ちＣＧＭとしてＢＩＰＰ、バインダとし
てブチラール化度70％以上のポリビニルブチラール樹脂
とをケトン系溶媒に分散溶解し好ましくはその流動性を
前記の如く規制し、これによってえられるＣＧＬにポリ
アミド樹脂からなるＢＡＬを下接させることによって、
著しく高感度で電位安定性のよい、画質が高くかつ耐用
性の長い感光体が構成することができる。

【００１４】前記一般式〔I〕又は〔II〕で表される化
合物；ビスイミダゾピリドノペリレン（ＢＩＰＰと標
記）において、Ｚで表される芳香族環の好ましい例とし
ては、例えばベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン
環、フェナンスレン環、ピリジン環、ピリミジン環、ピ
ラゾール環、アントラキノン環等が挙げられ、特にベン
ゼン環又はナフタレン環であることが好ましい。またＺ
で表される芳香族環は置換されていてもよく、置換基と
しては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、アシール基、アシロキシ基、アミノ基、
カルバモイル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基な
どを挙げることができる。

【００１５】以下本発明に用いられるＢＩＰＰの具体例
を示すが、本発明はこれらによって限定されるものでは
ない。

【００１６】

【化２】

【００１７】これ等のＢＩＰＰの特徴は、光の吸収が大
きく、高効率で電荷の発生と放射ができること、化学的
安定性が高く、熱や光などによって劣化しにくいこと、
分散性が良好で、塗料としての安定性も良好であるこ
と、等があげられる。ＢＩＰＰは、単独の種類を用いて
もよいが、感光波長域を広げるために、分光吸収波長が
異なる複数の種類のものを用いることもできる。本発明
において、これ等ＢＩＰＰの粒径は、２μｍ以下である
ことが好ましい。

【００１８】ＢＩＰＰを分散させるバインダ樹脂として
ポリビニルブチラール樹脂が必須に含まれる。かつ、Ｂ
ＩＰＰの分散性を考慮するとポリビニルブチラール樹脂
のブチラール化度は70モル％以上であることを必要とす
る。

【００１９】また、ＣＴＬを塗布形成する場合、浸漬塗
布が好適であるが、この方法では下層であるＣＧＬの膨
潤、溶解が生じやすいためポリビニルブチラール樹脂の
重合度は、高い方が好ましい。具体的には重合度300以
上が好適である。

【００２０】また、ＣＧＭと樹脂の割合は、10/1〜1/2
が好ましい。これ以上では、分散性が低下し、均一な薄
膜が形成できない。また、これ以下では、光感度が低下
し好ましくない。更に好ましくは8/1〜2/1である。

【００２１】また、分散に用いる溶媒はアセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルイソ
プロピルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒剤
が好ましい。他の溶剤を溶媒に用いた場合は分散安定性
が低下する。

【００２２】本発明の電子写真感光体においては、構成
層として導電性支持体の上にＢＡＬを設ける。ＢＡＬ
は、導電性支持体からの不必要な電荷の注入を阻止する
ために有効であり、構成層の帯電性を高くする作用があ
る。更に、構成層と導電性支持体との接着性を向上させ
る作用もある。ＢＡＬを構成する材料としては、ポリア
ミド樹脂が好ましい。

【００２３】他の樹脂を用いた場合は、ＣＧＬやＣＴＬ
を塗布形成する際、ＢＡＬがその溶媒に侵され本来の機
能を発揮できなかったり、電位特性に悪影響を与える。

【００２４】本発明に係るバリア層（ＢＡＬ）はポリア
ミド樹脂をアルコール系溶媒に溶解し支持体上或は接着
層上に塗布し形成される。

【００２５】ポリアミド樹脂としてはナイロン樹脂と通
称するものが用いられ、ナイロン６、ナイロン66、ナイ
ロン610、ナイロン11、ナイロン12等の共重合体や変性
ナイロンが挙げられる。

【００２６】また溶解に用いられるアルコール系溶媒と
してはメチルアルコール、エチルアルコール、ブチルア
ルコール等が挙げられる。

【００２７】ＢＡＬの膜厚は、0.05〜２μｍに設定す
る。

【００２８】感光体の層構成には種々の形態が知られて
いるが、本発明の感光体は積層型の機能分離型感光体と
する層構成は、導電性支持体上にＢＡＬを設け、その上
にＣＧＭを含有するＣＧＬを形成し、これに電荷輸送物
質（ＣＴＭ）を含有するＣＴＬを積層して形成したもの
である。また構成層と導電性支持体の間に接着層などの
補助層を設けてもよいし、最表層にはさらに保護層を設
けてもよい。

【００２９】ＣＧＬは、例えば下記に示す方法によって
作製された塗布液を導電性支持体上に直接、あるいは必
要に応じて接着層を設けた上にＢＡＬを設けてその上に
塗布することにより形成することができる。

【００３０】 前記ＣＧＭを適当な溶媒に溶解した溶
液、あるいは更に必要におうじてバインダ樹脂を加え混
合溶解した溶液。

【００３１】 前記ＣＧＭをボールミル、サンドグラ
インダ等を用いて分散媒中で微細粒子（好ましくは粒径
５μｍ以下、更に好ましくは１μｍ以下）とし、必要に
応じてバインダ樹脂および／又はＣＴＭを加え混合分散
した分散液。

【００３２】また、ＣＧＬ中にＣＴＭを含有する場合に
は、ＣＧＭとＣＴＭとの割合は重量比で10：０〜10：10
00であることが好ましく、特に好ましくは10：０〜10：
100である。

【００３３】形成されるＣＧＬの膜厚は、好ましくは0.
01〜10μｍである。

【００３４】本発明に用いられるＣＴＭとしては、例え
ばオキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チア
ゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘
導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミ
ダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリ
ル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン誘導体、アミ
ン誘導体、オキサゾロン誘導体、ベンゾチアゾール誘導
体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベ
ンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導
体、アミノスチルベン誘導体、ポリ-N-ビニルカルバゾ
ール、ポリ-1-ビニルピレン、ポリ-9-ビニルアントラセ
ン等が挙げられる。

【００３５】ただし本発明においてＣＴＭは、光照射時
に発生するホールの感光体表面側または支持体側への輸
送能力の他、前記ＢＩＰＰ等のＣＧＭとの組合せも考慮
して選択されることが好ましく、かかるＣＴＭとしては
下記一般式〔Ｔ〕で表される化合物を挙げることができ
る。

【００３６】

【化３】

【００３７】但し一般式〔Ｔ〕において、Ａr₁，Ａr₂お
よびＡr₄は夫々置換又は無置換のアリール基Ａr₃は置換
又は無置換のアリーレン基を表し、Ｒ₁及びＲ₂は水素原
子、アルキル基、アリール基を表し、これらの基は置換
基を有してよい。またｎは１〜２の整数である。

【００３８】このような化合物の具体例は特開昭58-654
40号の第３〜４頁及び同第58-198043号の第３〜６頁に
詳細に記載されている。

【００３９】またＣＴＬのバインダには機械的強度、電
子写真性能からポリカーボネートが好ましく、機械的強
度からはＭw10万以上のポリカーボネートが好ましい。
Ｍw10万以下では耐刷性等に対する強度が不足する。

【００４０】ポリカーボネートとしてはビスフェノール
Ａ型更に好ましくはビスフェノールＺ型と称されるベン
ゼン環間に介在する炭素原子に立体的に複雑な置換基好
ましくは環状の置換基を有するものである。

【００４１】また、前記のようにして形成されるＣＴＬ
において、ＣＴＭはＣＴＬ中のバインダ樹脂100重量部
当り20〜200重量部が好ましく、特に好ましくは30〜150
重量部である。

【００４２】また、形成されるＣＴＬの厚さは、好まし
くは５〜60μｍ、特に好ましくは10〜40μｍである。

【００４３】本発明の電子写真感光体に用いられる導電
性支持体としては、合金を含めた金属板、金属ドラムま
たは導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物
や合金を含めたアルミニウム、パラジウム、金等の金属
薄層を塗布、蒸着あるいはラミネートして、導電性化さ
れた紙、プラスチックフィルム等が挙げられる。

【００４４】本発明の構成層にはＣＧＭの電荷発生機能
を改善する目的で有機アミン類を添加することができ、
特に２級アミンを添加するのが好ましい。

【００４５】かかる２級アミンとしては、例えばジメチ
ルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジ-イ
ソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジ-イソブチルア
ミン、ジアミルアミン、ジ-イソアミルアミン、ジヘキ
シルアミン、ジ-イソヘキシルアミン、ジペンチルアミ
ン、ジ-イソペンチルアミン、ジ-オクチルアミン、ジ-
イソオクチルアミン、ジノニルアミン、ジ-イソノニル
アミン、ジデシルアミン、ジ-イソデシルアミン、ジモ
ノデシルアミン、ジ-イソモノデシルアミン、ジドデシ
ルアミン、ジ-イソドデシルアミン等を挙げることがで
きる。

【００４６】かかる有機アミン類の添加量としては、Ｃ
ＧＭの等量以下、好ましくは0.2倍〜0.005倍の範囲のモ
ル数とするのがよい。

【００４７】本発明においてＣＧＬには感度の向上、残
留電位乃至反復使用時の疲労低減等を目的として、一種
又は二種以上の電子受容性物質を含有せしめることがで
きる。

【００４８】ここに用いることのできる電子受容性物質
としては、例えば無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロ
ム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フ
タル酸、テトラブロム無水フタル酸、3-ニトロ無水フタ
ル酸、4-ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無
水メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキ
ノジメタン、o-ジニトロベンゼン、m-ジニトロベンゼ
ン、1,3,5-トリニトロベンゼン、パラニトロベンゾニト
リル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、クロ
ラニル、ブルマニル、ジクロルジシアノパラベンゾキノ
ン、アントラキノン、ジニトロアントラキノン、2,7-ジ
ニトロフルオレノン、2,4,7-トリニトロフルオレノン、
2,4,5,7-テトラニトロフルオレノン、9-フルオレニリデ
ン[ジシアノメチレンマロノジニトリル]、ポリニトロ-9
-フルオレニリデン-[ジシアノメチレンマロノジニトリ
ル]、ピクリル酸、o-ニトロ安息香酸、p-ニトロ安息香
酸、3,5-ジニトロ安息香酸、ペンタフルオル安息香酸、
5-ニトロサリチル酸、3,5-ジニトロサリチル酸、フタル
酸、メリット酸、その他の電子親和力の大きい化合物を
挙げることができる。

【００４９】電子受容性物質の添加量は、重量比で電荷
発生物質：電子受容性物質＝100：0.01〜200、好ましく
は100：0.1〜100である。

【００５０】電子受容性物質はＣＴＬに添加してもよ
い。かかる層への電子受容性物質の添加量は重量比でＣ
ＴＭ：電子受容性物質＝100：0.01〜100、好ましくは10
0：0.1〜50である。

【００５１】また本発明の感光体には、その他、必要に
より感光性を保護する目的で酸化防止剤、紫外線吸収剤
等を含有してもよく、また感色性補正の染料を含有して
もよい。

【００５２】前記の組成構成を有する構成層は塗布むら
なく支持体上に塗設することが必要である。特に膜厚の
薄いＣＧＬには層厚均一性が強く要求される。

【００５３】しかしながら一般に樹脂溶液に固体微粒子
を懸濁させた液体については均一塗布に関しレオロジイ
的に問題が多く、懸濁質の懸濁媒への分散性、親和性、
粒子大きさ等の相互関係、粘度等から屡々揺変性、擬塑
性流動を示し、塗布技術上様々の支障を与える。

【００５４】本発明は塗布に用いる塗料の流動性を塗布
制御容易なニュートン流動性に近づけるものである。

【００５５】本発明においては特に膜厚均一性の必要な
ＣＧＬに着目し、懸濁質、懸濁媒となる樹脂溶液の要件
を定め流動性を調整した。

【００５６】具体的には、ＣＧＬにブチラール化度70モ
ル％以上のポリビニルブチラール樹脂をケトン系溶剤に
溶かし、微粒子がえられ易く、粒状均一性及び該樹脂溶
液中での均一分散性がよくかつ分散安定性のよいＢＩＰ
Ｐを選定することによって、ＣＧＬ用塗料に前記式
（１）のＤの羃指数Ｂに0.7≦Ｂ≦1.3を与え、ηを調節
して、良好な塗布性を与えた。

【００５７】

【実施例】以下実施例を用いて本発明を更に詳しく説明
するが、本発明はこれらにより限定されるものではな
い。尚感光体試料は直径80mm、長さ355.5mmのアルミニ
ウム基体上に下記の塗料を浸漬塗布によって作成した。

【００５８】実施例１ まず共重合ポリアミド樹脂（東レ（株）製CM8000）50g
をメタノール900ml、1-ブタノール100mlの混合溶媒中に
溶解した液にアルミニウム基体を浸漬、引き上げる事に
より厚さ0.3μｍのＢＡＬを塗布した。

【００５９】次いでポリビニルブチラール樹脂（積水化
学工業（株）製エスレックBH-S；ブチラール化度70％）
３gをMEK300ml、シクロヘキサノン50mlの混合溶媒中に
溶解した液に例示化合物Ａ−１；６gを加え、サンドグ
ラインダを用いて５時間分散し、ＣＧＬ形成用塗料を得
た。この液を用いて浸漬塗布によりＢＡＬ上に厚さ0.3
μｍのＣＧＬを形成した。塗布には問題を生じなかっ
た。

【００６０】次にジクロルエタン1000mlにポリカーボネ
ート樹脂（帝人化成(株)製パンライトTS-2050）100gと
ＣＴＭ（下記Ｔ−１）100gを溶解した液を用いてＣＧＬ
上に浸漬塗布後、100℃で１時間乾燥し厚さ20μｍのＣ
ＴＬを形成し、感光体をえた。

【００６１】実施例２ 共重合ポリアミド樹脂（東レ（株）製CM8000）を変性ポ
リアミド樹脂（大日本インキ化学工業（株）製ラッカマ
イド5003）に変更した他は実施例１と同様にしてＢＡＬ
を形成した。次いでポリビニルブチラール樹脂（積水化
学工業（株）製エスレックBH-S）をポリビニルブチラー
ル樹脂（積水化学工業（株）製BL-S；ブチラール化度70
％）に変更した他は同様にしてＣＧＬを形成した。塗布
には問題を生じなかった。

【００６２】次にＣＴＭを下記Ｔ−２に変更した他は実
施例１と同様にしてＣＴＬを形成した。

【００６３】実施例３ ＢＡＬ及びＣＴＬは実施例１と同様に形成した。

【００６４】ＣＧＬは溶媒をメチルイソプロピルケトン
に変更した他は実施例１と同様にしてＣＧＬを形成し
た。塗布には問題を生じなかった。

【００６５】実施例４ ＢＡＬ及びＣＴＬは実施例１と同様に形成した。ＣＧＬ
は実施例１のブチラール樹脂を電気化学工業（株）の＃
4000-1（ブチラール化度75％）にかえて形成した。塗布
には問題を生じなかった。

【００６６】実施例５ ＢＡＬ及びＣＴＬは実施例１と同様に形成した。ＣＧＬ
は実施例１のブチラール樹脂を電気化学工業（株）の＃
5000-A（ブチラール化度80％）にかえて形成した。塗布
には問題を生じなかった。

【００６７】比較例（１） ＢＡＬ，ＣＴＬは実施例１と同様とし、ＣＧＬはＣＧＭ
を下記Ｃ-1に変更した他は実施例１と同様にしてＣＧＬ
を形成した。塗布には問題を生じなかった。

【００６８】

【化４】

【００６９】比較例（２） ＢＡＬ，ＣＴＬは実施例１と同様とし、ＣＧＬはポリビ
ニルブチラール樹脂（積水化学工業（株）製エスレック
BH-S）をポリエステル樹脂化東洋紡（株）製バイロン-2
00に変更した他は実施例１と同様にして形成した。塗膜
はやや凝集を生じていた。

【００７０】比較例（３） ＢＡＬ，ＣＴＬは実施例１と同様とし、ＣＧＬは溶媒を
ジクロルエタンに変更した他は実施例１と同様にして形
成した。塗膜にはやや凝集を生じていた。

【００７１】比較例（４） 共重合ポリアミド樹脂（東レ（株）製CM8000）を塩化ビ
ニル系樹脂（積水化学工業（株）製エスレックMF-10）
に変更したほかは実施例１と同様にしてＢＡＬを形成し
た。またＣＧＬは実施例１と同様にして形成した。塗膜
にはやや凝集を生じていた。ＣＴＬは実施例１と同様に
形成した。

【００７２】比較例（５） ＢＡＬ，ＣＴＬは実施例１と同様とし、ＣＧＬは実施例
１のブチラール樹脂を積水化学（株）エスレックBM-1
（ブチラール化度65％）に換えて形成した。

【００７３】このようにして得た感光体をコニカ（株）
製乾式複写機U-Bix 4045を用いて表面電位、画像の評価
を行った。表面電位は、帯電電流、露光光量を一定と
し、表面電位計のプローブを現像器位置に取り付けて黒
紙、白紙原稿について行った。又、この測定を10万コピ
ーの耐久試験後にも行った。

【００７４】画像は、画像露光光量を適正値に設定した
後、べた黒画像、べた白画像、中間調画像を複写し画像
サンプルを目視により観察し画像欠陥の有無を調べた。

【００７５】試験結果を表１に示す。尚表中のＢ値は式
（１）における剪断速度Ｄの羃指数である。

【００７６】前記分散液の流動特性は例えば市販のロト
ビスコRV100型流動特性測定器によって測定される。

【００７７】この測定器は、図１に示すようにモータＭ
により回転駆動される外筒と、該外筒内の分散液に浸漬
され、支持枠にばねを介して支持された内筒とから構成
されている。前記外筒がモータＭにより剪断速度Ｄ（１
／sec）で回転駆動されるとき、内筒には介在する分散
液の粘性係数η（dyne/cm²・sec）に基づくトルクを生
じ、このトルクはばねの捩れを生ずる。このばねの捩れ
角をトルクセンサにより検知し、分散液の剪断応力τ
（dyne/cm²）が測定される。

【００７８】図２は、式（１） τ＝τ₀＋ηＤ^B・・・（１） で示される分散液の流動特性を説明するための模式的グ
ラフである。該グラフには、分散速度Ｄ（１／sec）
（横軸）と剪断応力τ（dyne/cm²）（縦軸）を関数関係
として分散特性の異なる（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）及び
（Ｄ）の各分散液の流動特性が示され、又該グラフから
マイコンにより計算される各流動特性の羃指数Ｂ＝1.
0，0.7，0.5及び1.2が示されている。なお縦軸には補助
的に剪断応力τとしてパスカル（Pa）のスケールも示し
た。

【００７９】図２において、例えば分散液（Ａ）は、羃
指数Ｂが1.0の場合であり、剪断速度Ｄの増大と共に、
剪断応力τが直線的に増大し、かつ粘性係数ηが剪断速
度の変化に係らず一定である所謂ニュートン液体であ
り、理想液体と称される。このような分散液は塗布加工
の過程で粘性の変化がなく物性が安定していて極めて均
質な塗膜が得られる。

【００８０】本発明においては、前記ニュートン液体の
特性を示す分散液の外、剪断速度Ｄが増大する過程で分
子間会合等により粘性の増大を伴うものと、分子の配
向、分子の分解、凝集の解離等により粘性の減少を伴う
ものが含まれるが前記粘性の増大を伴う分散液、即ち指
数Ｂが1.3を越えるものは塗布加工性に乏しく、本発明
においては排除される。

【００８１】また前記粘性の減少を伴うものとしての分
散液（Ｂ）は、羃指数Ｂが0.7であり、剪断速度Ｄの増
大の過程で粘性減少を伴うが、塗布加工を行う上で支障
のない範囲であり、本発明の下限である。ところが前記
分散液（Ｃ）の場合は、羃指数Ｂが0.5であって、前記
分散液（Ｂ）の羃指数Ｂの0.7を下廻るもので塗布加工
中粘性等の物性変化が大きく塗布むら、塗布筋、液垂れ
等を生じて不適格であり、本発明の範囲外である。

【００８２】即ち本発明では、分散液の良否は、剪断速
度Ｄ（１／sec）と剪断応力τ（dyne/cm²）をパラメー
タとして、ロトビスコ流動特性測定器等により測定され
る分散液の流動特性の羃指数Ｂにより規定され、該指数
Ｂにより本発明の範囲が限定される。

【００８３】更に前記のように本発明に係る分散液の良
否は羃指数Ｂにより規定されるが、同時に該分散液の良
否は分散液の粘性との係り合いが大である。従って本発
明では羃指数Ｂと共に粘性係数ηを併せて考慮するが、
この粘性係数ηは、 粘性係数η（dyne/cm²・sec） ＝剪断応力τ（dyne/cm²）／剪断速度Ｄ（１／sec） の関係があり、前記ロトビスコ測定器により剪断速度Ｄ
に対応する剪断応力が測定される際、同時に演算されて
粘性係数ηが算出される。

【００８４】また前記測定器に表示される単位は、実用
上剪断応力りパスカル（Pa）を用い、粘性係数ηにセン
チポイズ（CP）を用いるので、本発明においてはηの値
は便宜上（CP）で表示される。

【００８５】ここで前記単位の換算式は以下のようであ
る。

【００８６】剪断応力１Ｐa＝10dyne/cm² 粘性係数１dyne/cm²・sec＝100CP なお後記実施例で示される粘性係数η（CP）は、測定器
の機能上の制約により慣用粘性係数ηが用いられる。

【００８７】例えば特定の剪断速度300（１／sec）にお
ける剪断応力τの縦軸と分散液（Ｂ）又は分散液（Ｃ）
の特性曲線との交点と原点とを結ぶ直線の傾きにより示
される。

【００８８】又前記流動特性の測定では剪断速度Ｄ＝０
（１／sec）から例えばＤ＝300（１／sec）への行きの
測定と、逆にＤ＝０（１／sec）への戻りの測定がある
が、前記戻りの測定においてτ₀が有限の値を示すこと
が多い。しかし本発明では前記行きの測定を基準として
いるため、近似的にτ₀＝０として処理される。

【００８９】

【表１】

【００９０】表１に示されるように実施例試料は、光感
度、耐久性、画質ともに良好であるが、比較例試料は白
紙電位が高くかぶりを生じ易い。べた黒中に白点の発生
が起る。

【００９１】

【発明の効果】本発明の構成により、初めてペリレン系
顔料を用いて高感度で且つ電位特性、耐久性及び画質の
良好な感光体がえられる。

【図面の簡単な説明】

【図１】流動特性測定器の説明図

【図２】分散液の流動性を説明するための模式的グラフ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性支持体上に構成層として少くとも
   バリア層、電荷発生層及び電荷輸送層をこの順に積層し
   た電子写真感光体において、前記バリア層の主たる成分
   がポリアミド樹脂よりなり、前記電荷発生層がブチラー
   ル化度70モル％以上のポリビニルブチラール樹脂に下記
   一般式〔I〕で表される化合物及び／又は一般式〔II〕
   で表される化合物を電荷発生物質として含みケトン系溶
   剤を主たる溶媒として分散、溶解して塗設してなること
   を特徴とする電子写真感光体。 【化１】 〔但し一般式〔I〕，〔II〕において、Ｚは置換、無置
   換の２価の芳香環を形成するに必要な原子群である。〕
2. 【請求項２】 下記式（１）及び（２）を満足する流動
   性を有する前記電荷発生層用塗料を塗設することを特徴
   とする請求項１に記載の電子写真感光体。 τ＝τ₀＋ηＤ^B （１） 0.7≦Ｂ≦1.3 （２） 〔但し式中、τは塗料の剪断応力（dyne／cm²）、Ｄは
   剪断速度（ｌ／sec）、ηは粘性係数（dyne／cm²・se
   c）、τ₀はＤ＝０のときのτの値である。ＢはＤの羃指
   数である。〕