JPH0416239A - 排ガス処理方法 - Google Patents
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Landscapes
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は内燃機関等の排気ガス、すなわち、−酸化炭素
(以下、COと略称)、炭化水素(以下、HCと略称)
及び窒素酸化物(以下、NOXと略称)を含有する排ガ
ス、の処理方法に関する。
(以下、COと略称)、炭化水素(以下、HCと略称)
及び窒素酸化物(以下、NOXと略称)を含有する排ガ
ス、の処理方法に関する。
自動車等のガソリンエンジン、トラック、バス等のディ
ーゼルエンジンなどから排出される燃焼排ガス中にはN
Ox、 CD、 I(Cなどの光化学スモッグの原因に
なると言われている有害物質が含まれており、溝境保全
の立場から、その除去方法の開発は重大かつ緊急の社会
的課題である。
ーゼルエンジンなどから排出される燃焼排ガス中にはN
Ox、 CD、 I(Cなどの光化学スモッグの原因に
なると言われている有害物質が含まれており、溝境保全
の立場から、その除去方法の開発は重大かつ緊急の社会
的課題である。
上記物質を同時に除去する触媒としてはPt。
Pd等の貴金属を耐性基材上のアルミナコート層に担持
したものがほとんどである。
したものがほとんどである。
上記3物質を同時に除去できる触媒を通常三元触媒(例
えばPt、 Pd (活性金属”) /AI、口。
えばPt、 Pd (活性金属”) /AI、口。
(担体)/コージライト(ハニカム基材)と呼ばれるが
、これら触媒は排気中の酸素量が理論量(排気中の未燃
焼成分を完全に酸化するのに必要な最少酸素濃度)より
大きくなった場合(リーンバーン)は排気中のNOXを
還元除去することができない点がある。
、これら触媒は排気中の酸素量が理論量(排気中の未燃
焼成分を完全に酸化するのに必要な最少酸素濃度)より
大きくなった場合(リーンバーン)は排気中のNOXを
還元除去することができない点がある。
近年、シリカゲルやゼオライトに銅をイオン交換して得
られた触媒がNOの直接分解に有効であることが報告さ
れた(特開昭60−125250号公報等)。しかし、
この触媒をそのまま自動車エンジンの排ガス処理触媒に
用いるとCD、 HCの燃焼が顕著になり過ぎ、NOx
の還元除去が広温度域には進まないと言う問題があった
。
られた触媒がNOの直接分解に有効であることが報告さ
れた(特開昭60−125250号公報等)。しかし、
この触媒をそのまま自動車エンジンの排ガス処理触媒に
用いるとCD、 HCの燃焼が顕著になり過ぎ、NOx
の還元除去が広温度域には進まないと言う問題があった
。
本発明は上記従来技術の問題点を解決するためのもので
あり、その目的とするところは酸素過剰雰囲気下におい
ても、300℃〜600℃の広温度域において効率よ<
NOx、 CO及びHCを除去することができる排気
ガス処理方法を提供することにある。
あり、その目的とするところは酸素過剰雰囲気下におい
ても、300℃〜600℃の広温度域において効率よ<
NOx、 CO及びHCを除去することができる排気
ガス処理方法を提供することにある。
本発明は排気中の一酸化炭素、炭化水素、窒素酸化物を
除去するに際し、下記A表で示されるX線回折特性を有
し、脱水された状態で酸化物のモル比が (l±0.8)Ran [:aMdL −bAIJsl
ysiOa及び/又は水素、Mは■族金属、希土類
金属、チタン、バナジウム、クロム、ニオブ、アンチモ
ン、ガリウム、ビスマス、タンタルカラなる群から選ば
れた1種以上の元素のイオン、a+b=1.a≧0.b
≧0.y≧11)の化学式で表わされる結晶性シリケー
ト上に活性金属を担持した触媒を用いるにあたり、排気
流入側に高温域で脱硝活性が高い触媒を、排気流出側に
低温域で脱硝活性が高い触媒を直列にて配置して用いる
ことを特徴とする排ガス処理方法。
除去するに際し、下記A表で示されるX線回折特性を有
し、脱水された状態で酸化物のモル比が (l±0.8)Ran [:aMdL −bAIJsl
ysiOa及び/又は水素、Mは■族金属、希土類
金属、チタン、バナジウム、クロム、ニオブ、アンチモ
ン、ガリウム、ビスマス、タンタルカラなる群から選ば
れた1種以上の元素のイオン、a+b=1.a≧0.b
≧0.y≧11)の化学式で表わされる結晶性シリケー
ト上に活性金属を担持した触媒を用いるにあたり、排気
流入側に高温域で脱硝活性が高い触媒を、排気流出側に
低温域で脱硝活性が高い触媒を直列にて配置して用いる
ことを特徴とする排ガス処理方法。
(但し、上記式中、Rはアルカリ土属イオン表 A
なお、本発明において活性金属が銅あるいは銅とマグネ
シウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、リチ
ウム、ナトリウム、カリウム、ホウ素、アルミニウム、
リン、スズ、アンチモン、シリコン、チタニウム、亜鉛
、バナジウム、ニオブ、鉄、コバルト、ニッケル、マン
ガン、ランタン、セリウム、プラセオジウム、ネオジム
、サマリウム、タングステンの中から少なくとも1種以
上含有するものである。
シウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、リチ
ウム、ナトリウム、カリウム、ホウ素、アルミニウム、
リン、スズ、アンチモン、シリコン、チタニウム、亜鉛
、バナジウム、ニオブ、鉄、コバルト、ニッケル、マン
ガン、ランタン、セリウム、プラセオジウム、ネオジム
、サマリウム、タングステンの中から少なくとも1種以
上含有するものである。
〔作 用]
本発明で使用する触媒は結晶性シリケート上の銅イオン
の酸化還元サイフル(Cu”(d Cu“)が容易で酸
素を比較的低温で放出しやすい。さらに、酸素雰囲気に
おける排ガス中のCOやHCを活性化し、活性化したこ
れらのガスがNOxと反応し、脱硝する作用がある。こ
の場合の反応式を模式的に記すと以下のようになる。
の酸化還元サイフル(Cu”(d Cu“)が容易で酸
素を比較的低温で放出しやすい。さらに、酸素雰囲気に
おける排ガス中のCOやHCを活性化し、活性化したこ
れらのガスがNOxと反応し、脱硝する作用がある。こ
の場合の反応式を模式的に記すと以下のようになる。
CsHi + 3/2Dt −3C)+2[1・
・・・ ■に2 3(’H20” + 02 3CD
、 + 3820 ・・・■に3 3CH20・+ 2NO−82+3CD□+3H20・
・・■上述ではHCの1例をCJ6で表わし、活性化さ
れたC5HSをCH,0・で表わしている。上記反応は
触媒上において、炭化水素(HC)が酸素により活性化
され(0式)、活性化されたHCが燃焼する(0式)と
ともにNO除去用の還元剤としても利用される(■式)
。通常、0式と■式は競争反応であり、活性化された炭
化水素は反応条件により消費量が異なる。
・・・ ■に2 3(’H20” + 02 3CD
、 + 3820 ・・・■に3 3CH20・+ 2NO−82+3CD□+3H20・
・・■上述ではHCの1例をCJ6で表わし、活性化さ
れたC5HSをCH,0・で表わしている。上記反応は
触媒上において、炭化水素(HC)が酸素により活性化
され(0式)、活性化されたHCが燃焼する(0式)と
ともにNO除去用の還元剤としても利用される(■式)
。通常、0式と■式は競争反応であり、活性化された炭
化水素は反応条件により消費量が異なる。
自動車等の内燃機関の排ガスは運転条件により種々の組
成、流量、温度を有する。例えば、ガソリン自動車排ガ
スにおいてはリーンバーンエンジン用ではCO: 0.
1〜1.0%、NO:0.05〜0.15%、H2O:
約13%、H2: 0.1〜0.3%、IC(C+換算
):0.1〜1%、SO3:約0.002%、0、 :
0.2〜10%、C02:約12%であり、排ガス流
量は6〜16A/s、排ガス温度300℃〜600℃と
なる。さらに使用する車の種類、排気量等により上記排
ガス条件が大きく変化する。
成、流量、温度を有する。例えば、ガソリン自動車排ガ
スにおいてはリーンバーンエンジン用ではCO: 0.
1〜1.0%、NO:0.05〜0.15%、H2O:
約13%、H2: 0.1〜0.3%、IC(C+換算
):0.1〜1%、SO3:約0.002%、0、 :
0.2〜10%、C02:約12%であり、排ガス流
量は6〜16A/s、排ガス温度300℃〜600℃と
なる。さらに使用する車の種類、排気量等により上記排
ガス条件が大きく変化する。
これまで、上記条件において安全に排ガスを処理するた
めには、単一な触媒−つでは困難であった。そこで、本
発明者は高温において脱硝活性が優れた触媒と低温にて
脱硝活性が優れた触媒を組み合わせて用いることにより
、上記排ガス条件においても完全に排ガス(特にN0x
)を除去することができる方法を見出したものである。
めには、単一な触媒−つでは困難であった。そこで、本
発明者は高温において脱硝活性が優れた触媒と低温にて
脱硝活性が優れた触媒を組み合わせて用いることにより
、上記排ガス条件においても完全に排ガス(特にN0x
)を除去することができる方法を見出したものである。
すなわち、排ガス除去の反応式(■〜■)において、■
、■式の反応速度の違いに注目して、高温にて脱硝活性
の優れた触媒はに2/ks比が小さく低温域では未燃H
CやCOが残る触媒を選定する。一方、低温にて脱硝活
性の優れた触媒はに、。
、■式の反応速度の違いに注目して、高温にて脱硝活性
の優れた触媒はに2/ks比が小さく低温域では未燃H
CやCOが残る触媒を選定する。一方、低温にて脱硝活
性の優れた触媒はに、。
k2. k、ともに前者より大きく、低温域においては
HCやCDがほとんど燃焼除去できる触媒を選定する。
HCやCDがほとんど燃焼除去できる触媒を選定する。
配置方法は排気流入口側に高温にて脱硝活性が優れた触
媒を、排気流出側に低温にて脱硝活性が優れた触媒を直
列に設置する。なお、これら触媒は、触媒を半分に切断
して継ぎ合わせるため、容量は従来のままと考えてよい
。
媒を、排気流出側に低温にて脱硝活性が優れた触媒を直
列に設置する。なお、これら触媒は、触媒を半分に切断
して継ぎ合わせるため、容量は従来のままと考えてよい
。
本発明で使用する触媒の作用については、前述したよう
にイオン交換した銅イオンの酸化還元サイクル(Cu”
;: Cu”)が容易で、酸素を比較的低温で放出しや
すく、結晶性シリケート上の銅がCDやHCを活性化し
、活性化したこれらのガスがNOと反応し、NOxを除
去する作用がある。さらに、銅と他の金属とを共存させ
ることにより活性金属(銅)の耐熱性を向上し、脱硝反
応の選択性を向上することを可能にした。
にイオン交換した銅イオンの酸化還元サイクル(Cu”
;: Cu”)が容易で、酸素を比較的低温で放出しや
すく、結晶性シリケート上の銅がCDやHCを活性化し
、活性化したこれらのガスがNOと反応し、NOxを除
去する作用がある。さらに、銅と他の金属とを共存させ
ることにより活性金属(銅)の耐熱性を向上し、脱硝反
応の選択性を向上することを可能にした。
すなわち、上記金属はCuイオンのN01着能や酸化還
元サイクル能を維持したまま、Cuの高温でのシンタリ
ングを抑制する作用を有するものであり、マグネシウム
(Mg)、カルシウム(Ca)、バリウム(口a)、ス
トロンチウム(Sr)、リチウム(シl)、ナトリウム
(Na)、カリウム(K) ホウ素(B) アルミ
ニウム(A1)、リン(P)、スズ(Sn)、アイチモ
ン(Sb)、シリコン(Si)、チタニウム(Ti)、
亜鉛(2n)、バナジウム(V) ニオブ(Nb)、
鉄(Fe)、コバルト(CO)、ニッケル(N1)、マ
ンガン(Mn)、ランタン(La)、セリウム(Ce)
、プラセオジウム(Pr)、ネオジウム(Nd)、サマ
リウム(Sm)、タングステン(W)の中から少なくと
も1種以上を含有するものである。
元サイクル能を維持したまま、Cuの高温でのシンタリ
ングを抑制する作用を有するものであり、マグネシウム
(Mg)、カルシウム(Ca)、バリウム(口a)、ス
トロンチウム(Sr)、リチウム(シl)、ナトリウム
(Na)、カリウム(K) ホウ素(B) アルミ
ニウム(A1)、リン(P)、スズ(Sn)、アイチモ
ン(Sb)、シリコン(Si)、チタニウム(Ti)、
亜鉛(2n)、バナジウム(V) ニオブ(Nb)、
鉄(Fe)、コバルト(CO)、ニッケル(N1)、マ
ンガン(Mn)、ランタン(La)、セリウム(Ce)
、プラセオジウム(Pr)、ネオジウム(Nd)、サマ
リウム(Sm)、タングステン(W)の中から少なくと
も1種以上を含有するものである。
これらの金属はイオン交換法で特定の結晶構造、特定の
組成を有する結晶性シリケート上に担持させ、銅と共存
させることができる。さらに硝酸塩、塩化物、硫酸塩の
各種塩を含浸法により上記担体上に担持することもでき
る。
組成を有する結晶性シリケート上に担持させ、銅と共存
させることができる。さらに硝酸塩、塩化物、硫酸塩の
各種塩を含浸法により上記担体上に担持することもでき
る。
本発明で使用する特定の結晶性シリケートよりなる担体
上に担持される銅と他の金属の好ましい含有量は担体1
00重量部に対してCuは0.2〜30重量部好ましく
は0.4〜20重量部、一方、他の金属としてMg、
Ca、 Ba、 Sr、 Li、 Na。
上に担持される銅と他の金属の好ましい含有量は担体1
00重量部に対してCuは0.2〜30重量部好ましく
は0.4〜20重量部、一方、他の金属としてMg、
Ca、 Ba、 Sr、 Li、 Na。
K、 B、 A1. P、 Si、 Snは0.2〜
8重量部、sb。
8重量部、sb。
Ti、 Zn、 V、 Nb、 Fe、
Co、 Ni、 Mn、 La、 Ce、
Pr。
Co、 Ni、 Mn、 La、 Ce、
Pr。
Nd、 Sm、 Wは0.1〜6重量部である。
一般的にはCuの含有量の少ない方が高温域での脱硝活
性は高い。通常、反応式は前記したように■、■、■式
で表わされるが、反応速度を支配する触媒の活性因子は
Cuであり、各調製法や組成によって異なるが一般的に
Cuの含有量が0.2≦Cu≦0.4域では高温活性用
(N2/に3−kI)0.4≦Cuでは低温活性用(N
2/ k3= N2)となる。
性は高い。通常、反応式は前記したように■、■、■式
で表わされるが、反応速度を支配する触媒の活性因子は
Cuであり、各調製法や組成によって異なるが一般的に
Cuの含有量が0.2≦Cu≦0.4域では高温活性用
(N2/に3−kI)0.4≦Cuでは低温活性用(N
2/ k3= N2)となる。
(k、<k=)
〔実施例〕
〔実施例1〕
排気の流れに対して、流入側に高温にて脱硝活性が高い
触媒を流出側に低温にて脱硝活性が高い触媒を配置した
排気ガス処理触媒を次のように調製した。
触媒を流出側に低温にて脱硝活性が高い触媒を配置した
排気ガス処理触媒を次のように調製した。
〔触媒1〕
下記のモル比で表わされる結晶性シリケートNa2O”
(0,2Fe、Os ’ 0.8AI203) ”
30SiO□” 1000H,0(X線回折特性はA表
)1kgを、酢酸銅100gを501!の水に溶解した
水溶液の中に入れ、室温にて12時間攪拌し、イオン交
換操作を行った。このイオン交換操作1回後、水洗し、
100℃で12時間乾燥後、触媒Aを得た。この触媒A
のCu担持量は0.35 mmol/ g (結晶性
シリケート)であった。さらに上記操作を5回繰り返し
イオン交換を行い水洗、乾燥後、触媒Bを得た。この触
媒BのCu担持量はQ、55 mmol/gであった。
(0,2Fe、Os ’ 0.8AI203) ”
30SiO□” 1000H,0(X線回折特性はA表
)1kgを、酢酸銅100gを501!の水に溶解した
水溶液の中に入れ、室温にて12時間攪拌し、イオン交
換操作を行った。このイオン交換操作1回後、水洗し、
100℃で12時間乾燥後、触媒Aを得た。この触媒A
のCu担持量は0.35 mmol/ g (結晶性
シリケート)であった。さらに上記操作を5回繰り返し
イオン交換を行い水洗、乾燥後、触媒Bを得た。この触
媒BのCu担持量はQ、55 mmol/gであった。
上記触媒A、B各々に対してシリカゾル(スノーテック
ス・ ・シリカ分20%)とアルミナゾル(アルミナ分
10%)とを触媒粉末100部に対して各々70部、2
0部と水を300部加え、さらに硝酸を加えてpH=
4としてウォッシュコート用スラリーを得た。l mm
目ピッチのコーディエライトハニカム基材(0,5fり
に上記スラリーを浸漬し、切り出し後余分なスラリーを
圧縮空気が吹き払い120℃で約30分間乾燥し、乾燥
後、更にハニカム基材をスラリー溶液に浸漬する。繰り
返し上記操作を行い所定量の触媒(約600/ff12
基材表面)をコートした後、600℃3時間電気炉中で
焼成した。
ス・ ・シリカ分20%)とアルミナゾル(アルミナ分
10%)とを触媒粉末100部に対して各々70部、2
0部と水を300部加え、さらに硝酸を加えてpH=
4としてウォッシュコート用スラリーを得た。l mm
目ピッチのコーディエライトハニカム基材(0,5fり
に上記スラリーを浸漬し、切り出し後余分なスラリーを
圧縮空気が吹き払い120℃で約30分間乾燥し、乾燥
後、更にハニカム基材をスラリー溶液に浸漬する。繰り
返し上記操作を行い所定量の触媒(約600/ff12
基材表面)をコートした後、600℃3時間電気炉中で
焼成した。
〔実施例2〕
実施例1で用いた結晶性シリケートの代わりに下記のモ
ル比を有する結晶性シリケー) (X線回折特性がA表
)を用いて、実施例1と同様の方法にて下記に脱水され
た状態で示す組成のCu担持量の異なる2種の触媒粉末
を得る。
ル比を有する結晶性シリケー) (X線回折特性がA表
)を用いて、実施例1と同様の方法にて下記に脱水され
た状態で示す組成のCu担持量の異なる2種の触媒粉末
を得る。
NazO・Fe20− ・25S102
−触媒2Na20− [0,lLa203−0.9A1
203] −353i02・・・触媒3 Na20− [:0JCr2L−0,3Fe*口、・
0、4A1203] ・30Si ・・・触媒4Na
zQ−[0,56a203・0.5AlzO+] ・
30SiD2・・・触媒5 Na20 # CO,lCo2L @ o、 9A12
0a〕・30S102・・・触媒6 NaJ ” 〔0,lTl2O3” 0.9A1203
] ” 30S102・・・触媒7 Na20・〔o、111b2o3−0.9A1203]
’ 30SiOz・・・触媒8 Na2Q・[0,IVa(]3・0.9Alz[]sl
・35SiOz・・・触媒9 Na20” [0,058i2L ” 0.95A12
03 ] ” 31si[12・・・触媒1O NazO・ [0,lTa205’ 0.9A1203
:] ・30SiO2・・・触媒11 Na20− [0,05Sb20.−0.95^12
03 ] ・ 30SiL・・・触媒12 NaJ ・ C0,INi、0. ・O19^1203
〕 ・28S+Oa・・・触媒13 Na2[] + 9A12Ω3 ・30S102
、、、触媒14〔実施例3〕 実施例1で用いた結晶性シリケート1kgを塩化第2銅
0.5モルと、塩化亜鉛(ZnC12)、塩化カルシウ
ム(CaC12” 2H20) 、塩化バリウム(Ba
C12” 2H20) 、塩化ストロンチウム(SrC
I2・6t120) 、塩化ナトリウム(Na(”1)
、塩化カリウム(KCI) 、ホウ素()IJOa)
、塩化アルミニウム(^lC1,)、塩化スズ(Sn
C12−2H20) 、四塩化ケイ素(SiC1m)を
各々0.5モルを50fの水に共溶解した水溶液に入れ
、各々共イオン交換を1回と5回実施し触媒15〜24
を得た。
−触媒2Na20− [0,lLa203−0.9A1
203] −353i02・・・触媒3 Na20− [:0JCr2L−0,3Fe*口、・
0、4A1203] ・30Si ・・・触媒4Na
zQ−[0,56a203・0.5AlzO+] ・
30SiD2・・・触媒5 Na20 # CO,lCo2L @ o、 9A12
0a〕・30S102・・・触媒6 NaJ ” 〔0,lTl2O3” 0.9A1203
] ” 30S102・・・触媒7 Na20・〔o、111b2o3−0.9A1203]
’ 30SiOz・・・触媒8 Na2Q・[0,IVa(]3・0.9Alz[]sl
・35SiOz・・・触媒9 Na20” [0,058i2L ” 0.95A12
03 ] ” 31si[12・・・触媒1O NazO・ [0,lTa205’ 0.9A1203
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03 ] ・ 30SiL・・・触媒12 NaJ ・ C0,INi、0. ・O19^1203
〕 ・28S+Oa・・・触媒13 Na2[] + 9A12Ω3 ・30S102
、、、触媒14〔実施例3〕 実施例1で用いた結晶性シリケート1kgを塩化第2銅
0.5モルと、塩化亜鉛(ZnC12)、塩化カルシウ
ム(CaC12” 2H20) 、塩化バリウム(Ba
C12” 2H20) 、塩化ストロンチウム(SrC
I2・6t120) 、塩化ナトリウム(Na(”1)
、塩化カリウム(KCI) 、ホウ素()IJOa)
、塩化アルミニウム(^lC1,)、塩化スズ(Sn
C12−2H20) 、四塩化ケイ素(SiC1m)を
各々0.5モルを50fの水に共溶解した水溶液に入れ
、各々共イオン交換を1回と5回実施し触媒15〜24
を得た。
さらに、結晶性シリケートをプロトン化処理し、H型に
変更した後、塩化第2銅と塩化アンチモン(SbC12
) 、四塩化チタン(TIC14) 、三塩化バナジム
(VCl、)、三塩化鉄(PeC1+)、塩化コバルト
(COCl2 ” 6H20) 、塩化ニッケJL/
(NiC1z ・6H20) 、塩化マンガン(MnC
12・4H20)、塩化ランタン(LaC1a) 、塩
化セリウム(CeCL) 、塩化プラセオジウム(Pr
C1+・7)1.[]) 、塩化ネオジム(NbC13
) 、塩化サマリウム(SIIIC13) 、塩化タン
グステン(MC1,)、塩化リチウム(LiC1)、塩
化ニオブ(NbC14)の各水溶液を結晶性シリケート
に対して、原子比にてCu(0,6mmol/ g )
、上記元素(0,2mmol/ g )とCu(0,
35mmol/ g > 、上記元素(,0,2mmo
l/ g )の2種の共担持を含浸法にて実施し、触媒
25〜39を調製し、各々実施例1と同様の手法にてコ
ージュライト基材にコートした。
変更した後、塩化第2銅と塩化アンチモン(SbC12
) 、四塩化チタン(TIC14) 、三塩化バナジム
(VCl、)、三塩化鉄(PeC1+)、塩化コバルト
(COCl2 ” 6H20) 、塩化ニッケJL/
(NiC1z ・6H20) 、塩化マンガン(MnC
12・4H20)、塩化ランタン(LaC1a) 、塩
化セリウム(CeCL) 、塩化プラセオジウム(Pr
C1+・7)1.[]) 、塩化ネオジム(NbC13
) 、塩化サマリウム(SIIIC13) 、塩化タン
グステン(MC1,)、塩化リチウム(LiC1)、塩
化ニオブ(NbC14)の各水溶液を結晶性シリケート
に対して、原子比にてCu(0,6mmol/ g )
、上記元素(0,2mmol/ g )とCu(0,
35mmol/ g > 、上記元素(,0,2mmo
l/ g )の2種の共担持を含浸法にて実施し、触媒
25〜39を調製し、各々実施例1と同様の手法にてコ
ージュライト基材にコートした。
〔試験例1〕
ハニカム触媒1〜38を排気ガス流入側に恒温用脱硝触
媒を流出側を低温用脱硝触媒を充填し、1.61!ガソ
リンエンジン排気系に装着した。
媒を流出側を低温用脱硝触媒を充填し、1.61!ガソ
リンエンジン排気系に装着した。
350℃、500℃の温度における各ガスの浄化率を測
定し表1に示す。エンジンの空燃比はA/F・20([
+2約6%)の状態にて活性評価を実施した。
定し表1に示す。エンジンの空燃比はA/F・20([
+2約6%)の状態にて活性評価を実施した。
〔比較例1〕
比較のため、排気流入側と排気流出側に同一の触媒を充
填して活性評価を実施した。評価条件は試験例1と同一
条件である。評価結果を表1に示す。
填して活性評価を実施した。評価条件は試験例1と同一
条件である。評価結果を表1に示す。
上述のように、本発明の排気ガス処理方法は排気流入側
に高温域で脱硝活性が高い触媒を配置し、排気流出側に
低温域で脱硝活性が高い触媒を配置することにより広温
度域において内燃機関から排出される高02濃度雰囲気
中の排ガス(とりわけN0x)の除去に優れていること
が明らかとなった。
に高温域で脱硝活性が高い触媒を配置し、排気流出側に
低温域で脱硝活性が高い触媒を配置することにより広温
度域において内燃機関から排出される高02濃度雰囲気
中の排ガス(とりわけN0x)の除去に優れていること
が明らかとなった。
Claims (2)
- (1)排気中の一酸化炭素、炭化水素、窒素酸化物を除
去するに際し、下記A表で示されるX線回折特性を有し
、脱水された状態で酸化物のモル比が (1±0.8)R_2O[aM_2O_3・bAl_2
O_3]ySiO_2(但し、上記式中、Rはアルカリ
金属イオ ン及び/又は水素、MはVIII族金属、希土類金属、
チタン、バナジウム、クロム、ニオ ブ、アンチモン、ガリウム、ビスマス、タ ンタルからなる群から選ばれた1種以上の 元素のイオン、a+b=1,a≧0,b≧ 0,y≧11) の化学式で表わされる結晶性シリケート上に活性金属を
担持した触媒を用いるにあたり、排気流入側に高温域で
脱硝活性が高い触媒を、排気流出側に低温域で脱硝活性
が高い触媒を直列にて配置して用いることを特徴とする ガス処理方法。 表A ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ - (2)上記活性金属が銅あるいは銅およびマグネシウム
、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、リチウム、
ナトリウム、カリウム、ホウ素、アルミニウム、リン、
スズ、アンチモン、シリコン、チタニウム、亜鉛、バナ
ジウム、ニオブ、鉄、コバルト、ニッケル、マンガン、
ランタン、セリウム、プラセオジウム、ネオジム、サマ
リウム、タングステンの中から少なくとも1種以上含ま
れる特許請求の範囲第1項記載の排気ガス処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2115816A JP2781639B2 (ja) | 1990-05-07 | 1990-05-07 | 排ガス処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2115816A JP2781639B2 (ja) | 1990-05-07 | 1990-05-07 | 排ガス処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0416239A true JPH0416239A (ja) | 1992-01-21 |
JP2781639B2 JP2781639B2 (ja) | 1998-07-30 |
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ID=14671814
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2115816A Expired - Fee Related JP2781639B2 (ja) | 1990-05-07 | 1990-05-07 | 排ガス処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2781639B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6488903B2 (en) * | 1998-05-29 | 2002-12-03 | Siemens Aktiengesellschaft | Method for cleaning diesel engine exhaust gas |
JP2005224669A (ja) * | 2004-02-10 | 2005-08-25 | Toyota Motor Corp | 排ガス浄化用触媒及び排ガス浄化方法 |
JP2006274552A (ja) * | 2005-03-28 | 2006-10-12 | Fukuvi Chem Ind Co Ltd | 床下収納庫の吊支構造 |
CN104437530A (zh) * | 2014-12-24 | 2015-03-25 | 西安元创化工科技股份有限公司 | 一种脱硝催化剂的制备方法 |
CN104888793A (zh) * | 2015-06-30 | 2015-09-09 | 北京化工大学 | 一种用于催化臭氧氧化挥发性有机物的催化剂及制备方法 |
CN106975513A (zh) * | 2017-05-09 | 2017-07-25 | 河北工业大学 | 一种负载型电气石稀土复合选择性脱硝催化剂 |
CN114682248A (zh) * | 2020-12-30 | 2022-07-01 | 中国石油大学(北京) | 一种低温脱硝催化剂及其制备方法和应用 |
-
1990
- 1990-05-07 JP JP2115816A patent/JP2781639B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6488903B2 (en) * | 1998-05-29 | 2002-12-03 | Siemens Aktiengesellschaft | Method for cleaning diesel engine exhaust gas |
JP2005224669A (ja) * | 2004-02-10 | 2005-08-25 | Toyota Motor Corp | 排ガス浄化用触媒及び排ガス浄化方法 |
JP4529463B2 (ja) * | 2004-02-10 | 2010-08-25 | トヨタ自動車株式会社 | 排ガス浄化用触媒及び排ガス浄化方法 |
JP2006274552A (ja) * | 2005-03-28 | 2006-10-12 | Fukuvi Chem Ind Co Ltd | 床下収納庫の吊支構造 |
CN104437530A (zh) * | 2014-12-24 | 2015-03-25 | 西安元创化工科技股份有限公司 | 一种脱硝催化剂的制备方法 |
CN104888793A (zh) * | 2015-06-30 | 2015-09-09 | 北京化工大学 | 一种用于催化臭氧氧化挥发性有机物的催化剂及制备方法 |
CN106975513A (zh) * | 2017-05-09 | 2017-07-25 | 河北工业大学 | 一种负载型电气石稀土复合选择性脱硝催化剂 |
CN114682248A (zh) * | 2020-12-30 | 2022-07-01 | 中国石油大学(北京) | 一种低温脱硝催化剂及其制备方法和应用 |
CN114682248B (zh) * | 2020-12-30 | 2023-09-08 | 中国石油大学(北京) | 一种低温脱硝催化剂及其制备方法和应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2781639B2 (ja) | 1998-07-30 |
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