JP2781639B2 - 排ガス処理方法 - Google Patents
排ガス処理方法Info
- Publication number
- JP2781639B2 JP2781639B2 JP2115816A JP11581690A JP2781639B2 JP 2781639 B2 JP2781639 B2 JP 2781639B2 JP 2115816 A JP2115816 A JP 2115816A JP 11581690 A JP11581690 A JP 11581690A JP 2781639 B2 JP2781639 B2 JP 2781639B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- exhaust gas
- exhaust
- gas treatment
- treatment method
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 12
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 63
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 26
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 26
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 21
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 18
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 16
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 16
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 7
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 7
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims description 5
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical group O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 4
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 3
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 3
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 3
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 3
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 3
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 2
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001430 chromium ion Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical group Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 3
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 3
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 3
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005191 Ga 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021380 Manganese Chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- GLFNIEUTAYBVOC-UHFFFAOYSA-L Manganese chloride Chemical compound Cl[Mn]Cl GLFNIEUTAYBVOC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 101100496858 Mus musculus Colec12 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 P. Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021551 Vanadium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K antimony trichloride Chemical compound Cl[Sb](Cl)Cl FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WDIHJSXYQDMJHN-UHFFFAOYSA-L barium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ba+2] WDIHJSXYQDMJHN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001626 barium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- VYLVYHXQOHJDJL-UHFFFAOYSA-K cerium trichloride Chemical compound Cl[Ce](Cl)Cl VYLVYHXQOHJDJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000002860 competitive effect Effects 0.000 description 1
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 1
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICAKDTKJOYSXGC-UHFFFAOYSA-K lanthanum(iii) chloride Chemical compound Cl[La](Cl)Cl ICAKDTKJOYSXGC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011565 manganese chloride Substances 0.000 description 1
- 235000002867 manganese chloride Nutrition 0.000 description 1
- 229940099607 manganese chloride Drugs 0.000 description 1
- SNMVRZFUUCLYTO-UHFFFAOYSA-N n-propyl chloride Chemical compound CCCCl SNMVRZFUUCLYTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATINCSYRHURBSP-UHFFFAOYSA-K neodymium(iii) chloride Chemical compound Cl[Nd](Cl)Cl ATINCSYRHURBSP-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I pentachloroniobium Chemical compound Cl[Nb](Cl)(Cl)(Cl)Cl YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- LHBNLZDGIPPZLL-UHFFFAOYSA-K praseodymium(iii) chloride Chemical compound Cl[Pr](Cl)Cl LHBNLZDGIPPZLL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- BHXBZLPMVFUQBQ-UHFFFAOYSA-K samarium(iii) chloride Chemical compound Cl[Sm](Cl)Cl BHXBZLPMVFUQBQ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 229910001631 strontium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- AHBGXTDRMVNFER-UHFFFAOYSA-L strontium dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Sr+2] AHBGXTDRMVNFER-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOUIDGQAIILFBW-UHFFFAOYSA-J tetrachlorotungsten Chemical compound Cl[W](Cl)(Cl)Cl YOUIDGQAIILFBW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- HQYCOEXWFMFWLR-UHFFFAOYSA-K vanadium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[V+3] HQYCOEXWFMFWLR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は内燃機関等の排気ガス、すなわち、一酸化炭
素(以下、COと略称)、炭化水素(以下、HCと略称)及
び窒素酸化物(以下、NOxと略称)を含有する排ガス、
の処理方法に関する。
素(以下、COと略称)、炭化水素(以下、HCと略称)及
び窒素酸化物(以下、NOxと略称)を含有する排ガス、
の処理方法に関する。
自動車等のガソリンエンジン、トラック、バス等のデ
ィーゼルエンジンなどから排出される燃焼排ガス中には
NOx,CO,HCなどの光化学スモッグの原因となると言われ
ている有害物質が含まれており、環境保全の立場から、
その除去方法の開発は重大かつ緊急の社会的課題であ
る。
ィーゼルエンジンなどから排出される燃焼排ガス中には
NOx,CO,HCなどの光化学スモッグの原因となると言われ
ている有害物質が含まれており、環境保全の立場から、
その除去方法の開発は重大かつ緊急の社会的課題であ
る。
上記物質を同時に除去する触媒としてはPt,Pd等の貴
金属を耐性基材上のアルミナコート層に担持したものが
ほとんどである。
金属を耐性基材上のアルミナコート層に担持したものが
ほとんどである。
上記3物質を同時に除去できる触媒を通常三元触媒
(例えばPt,Pd(活性金属)/Al2O3(担体)/コージラ
イト(ハニカム基材)と呼ばれるが、これら触媒は排気
中の酸素量が理論量(排気中の未燃焼成分を完全に酸化
するのに必要な最少酸素濃度)より大きくなった場合
(リーンバーン)は排気中のNOxを還元除去することが
できない点がある。
(例えばPt,Pd(活性金属)/Al2O3(担体)/コージラ
イト(ハニカム基材)と呼ばれるが、これら触媒は排気
中の酸素量が理論量(排気中の未燃焼成分を完全に酸化
するのに必要な最少酸素濃度)より大きくなった場合
(リーンバーン)は排気中のNOxを還元除去することが
できない点がある。
近年、シリカゲルやゼオライトに銅をイオン交換して
得られた触媒がNOの直接分解に有効であることが報告さ
れた(特開昭60−125250号公報等)。しかし、この触媒
をそのまま自動車エンジンの排ガス処理触媒に用いると
CO,HCの燃焼が顕著になり過ぎ、NOxの還元除去が広温度
域には進まないと言う問題があった。
得られた触媒がNOの直接分解に有効であることが報告さ
れた(特開昭60−125250号公報等)。しかし、この触媒
をそのまま自動車エンジンの排ガス処理触媒に用いると
CO,HCの燃焼が顕著になり過ぎ、NOxの還元除去が広温度
域には進まないと言う問題があった。
本発明は上記従来技術の問題点を解決するためのもの
であり、その目的とするところは酸素過剰雰囲気下にお
いても、300℃〜600℃の広温度域において効率よくNOx,
CO及びHCを除去することができる排気ガス処理方法を提
供することにある。
であり、その目的とするところは酸素過剰雰囲気下にお
いても、300℃〜600℃の広温度域において効率よくNOx,
CO及びHCを除去することができる排気ガス処理方法を提
供することにある。
本発明は排気中の一酸化炭素、炭化水素、窒素酸化物
を除去するに際し、下記A表で示されるX線回折特性を
有し、脱水された状態で酸化物のモル比が (1±0.8)R2O〔aM2O3・bAl2O3〕ySiO2 (但し、上記式中、Rはアルカリ金属イオン及び/又は
水素、MはVIII族金属、希土類金属、チタン、バナジウ
ム、クロム、ニオブ、アンチモン、ガリウム、ビスマ
ス、タンタルからなる群から選ばれた1種以上の元素の
イオン、a+b=1,a≧0,b≧0,y≧11) の化学式で表わされる結晶性シリケート上に活性金属を
担持した触媒を用いるにあたり、排気流入側に高温域で
脱硝活性が高い触媒を、排気流出側に低温域で脱硝活性
が高い触媒を直列にて配置して用いることを特徴とする
排ガス処理方法。
を除去するに際し、下記A表で示されるX線回折特性を
有し、脱水された状態で酸化物のモル比が (1±0.8)R2O〔aM2O3・bAl2O3〕ySiO2 (但し、上記式中、Rはアルカリ金属イオン及び/又は
水素、MはVIII族金属、希土類金属、チタン、バナジウ
ム、クロム、ニオブ、アンチモン、ガリウム、ビスマ
ス、タンタルからなる群から選ばれた1種以上の元素の
イオン、a+b=1,a≧0,b≧0,y≧11) の化学式で表わされる結晶性シリケート上に活性金属を
担持した触媒を用いるにあたり、排気流入側に高温域で
脱硝活性が高い触媒を、排気流出側に低温域で脱硝活性
が高い触媒を直列にて配置して用いることを特徴とする
排ガス処理方法。
なお、本発明において活性金属が銅あるいは銅とマグ
ネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、リ
チウム、ナトリウム、カリウム、ホウ素、アルミニウ
ム、リン、スズ、アンチモン、シリコン、チタニウム、
亜鉛、バナジウム、ニオブ、鉄、コバルト、ニッケル、
マンガン、ランタン、セリウム、プラセオジウム、ネオ
ジム、サマリウム、タングステンの中から少なくとも1
種以上含有するものである。
ネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、リ
チウム、ナトリウム、カリウム、ホウ素、アルミニウ
ム、リン、スズ、アンチモン、シリコン、チタニウム、
亜鉛、バナジウム、ニオブ、鉄、コバルト、ニッケル、
マンガン、ランタン、セリウム、プラセオジウム、ネオ
ジム、サマリウム、タングステンの中から少なくとも1
種以上含有するものである。
本発明で使用する触媒は結晶性シリケート上の銅イオ
ンの酸化還元サイクル(Cu2+Cu+)が容易で酸素を比
較的低温で放出しやすい。さらに、酸素雰囲気における
排ガス中のCOやHCを活性化し、活性化したこれらのガス
がNOxと反応し、脱硝する作用がある。この場合の反応
式を模式的に記すと以下のようになる。
ンの酸化還元サイクル(Cu2+Cu+)が容易で酸素を比
較的低温で放出しやすい。さらに、酸素雰囲気における
排ガス中のCOやHCを活性化し、活性化したこれらのガス
がNOxと反応し、脱硝する作用がある。この場合の反応
式を模式的に記すと以下のようになる。
上述ではHCの1例をC3H6で表わし、活性化されたC3H6
を で表わしている。上記反応は触媒上において、炭化水素
(HC)が酸素により活性化され(式)、活性化された
HCが燃焼する(式)とともにNO除去用の還元剤として
も利用される(式)。通常、式と式は競争反応で
あり、活性化された炭化水素は反応条件により消費量が
異なる。
を で表わしている。上記反応は触媒上において、炭化水素
(HC)が酸素により活性化され(式)、活性化された
HCが燃焼する(式)とともにNO除去用の還元剤として
も利用される(式)。通常、式と式は競争反応で
あり、活性化された炭化水素は反応条件により消費量が
異なる。
自動車等の内燃機関の排ガスは運転条件により種々の
組成、流量、温度を有する。例えば、ガソリン自動車排
ガスにおいてはリーンバーンエンジン用ではCO:0.1〜1.
0%、NO:0.05〜0.15%、H2O:約13%、H2:0.1〜0.3%、H
C(C1換算):0.1〜1%、SO2:約0.002%、C2:0.2〜10
%、CO2:約12%であり、排ガス流量は6〜16/s、排ガ
ス温度300℃〜600℃となる。さらに使用する車の種類、
排気量等により上記排ガス条件が大きく変化する。
組成、流量、温度を有する。例えば、ガソリン自動車排
ガスにおいてはリーンバーンエンジン用ではCO:0.1〜1.
0%、NO:0.05〜0.15%、H2O:約13%、H2:0.1〜0.3%、H
C(C1換算):0.1〜1%、SO2:約0.002%、C2:0.2〜10
%、CO2:約12%であり、排ガス流量は6〜16/s、排ガ
ス温度300℃〜600℃となる。さらに使用する車の種類、
排気量等により上記排ガス条件が大きく変化する。
これまで、上記条件において安全に排ガスを処理する
ためには、単一な触媒一つでは困難であった。そこで、
本発明者は高温において脱硝活性が優れた触媒と低温に
て脱硝活性が優れた触媒を組み合わせて用いることによ
り、上記排ガス条件においても完全に排ガス(特にNO
x)を除去することができる方法を見出したものであ
る。
ためには、単一な触媒一つでは困難であった。そこで、
本発明者は高温において脱硝活性が優れた触媒と低温に
て脱硝活性が優れた触媒を組み合わせて用いることによ
り、上記排ガス条件においても完全に排ガス(特にNO
x)を除去することができる方法を見出したものであ
る。
すなわち、排ガス除去の反応式(〜)において,
、式の反応速度の違いに注目して、高温にて脱硝活
性の優れた触媒はk2/k3比が小さく低温域では未燃HCやC
Oが残る触媒を選定する。一方、低温にて脱硝活性の優
れた触媒はk1,k2,k3ともに前者より大きく、低温域にお
いてはHCやCOがほとんど燃焼除去できる触媒を選定す
る。配置方法は排気流入口側に高温にて脱硝活性が優れ
た触媒を、排気流出側に低温にて脱硝活性が優れた触媒
を直列に設置する。なお、これら触媒は、触媒を半分に
切断して継ぎ合わせるため、容量は従来のままと考えて
よい。
、式の反応速度の違いに注目して、高温にて脱硝活
性の優れた触媒はk2/k3比が小さく低温域では未燃HCやC
Oが残る触媒を選定する。一方、低温にて脱硝活性の優
れた触媒はk1,k2,k3ともに前者より大きく、低温域にお
いてはHCやCOがほとんど燃焼除去できる触媒を選定す
る。配置方法は排気流入口側に高温にて脱硝活性が優れ
た触媒を、排気流出側に低温にて脱硝活性が優れた触媒
を直列に設置する。なお、これら触媒は、触媒を半分に
切断して継ぎ合わせるため、容量は従来のままと考えて
よい。
本発明で使用する触媒の作用については、前述したよ
うにイオン交換した銅イオンの酸化還元サイクル(Cu2+
Cu+)が容易で、酸素を比較的低温で放出しやすく、
結晶性シリケート上の銅がCOやHCを活性化し、活性化し
たこれらのガスがNOと反応し、NOxを除去する作用があ
る。さらに、銅と他の金属とを共存させることにより活
性金属(銅)の耐熱性を向上し、脱硝反応の選択性を向
上することを可能にした。
うにイオン交換した銅イオンの酸化還元サイクル(Cu2+
Cu+)が容易で、酸素を比較的低温で放出しやすく、
結晶性シリケート上の銅がCOやHCを活性化し、活性化し
たこれらのガスがNOと反応し、NOxを除去する作用があ
る。さらに、銅と他の金属とを共存させることにより活
性金属(銅)の耐熱性を向上し、脱硝反応の選択性を向
上することを可能にした。
すなわち、上記金属はCuイオンのNO吸着能や酸化還元
サイクル能を維持したまま、Cuの高温でのシンタリング
を抑制する作用を有するものであり、マグネシウム(M
g),カルシウム(Ca)、バリウム(Ba)、ストロンチ
ウム(Sr)、リチウム(Li)、ナトリウム(Na)、カリ
ウム(K)、ホウ素(B)、アルミニウム(Al)、リン
(P)、スズ(Sn)、アンチモン(Sb)、シリコン(S
i)、チタニウム(Ti)、亜鉛(Zn)、バナジウム
(V)、ニオブ(Nb)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、ニ
ッケル(Ni)、マンガン(Mn)、ランタン(La)、セリ
ウム(Ce)、プラセオジウム(Pr)、ネオジム(Nd)、
サマリウム(Sm)、タングステン(W)の中から少なく
とも1種以上を含有するものである。
サイクル能を維持したまま、Cuの高温でのシンタリング
を抑制する作用を有するものであり、マグネシウム(M
g),カルシウム(Ca)、バリウム(Ba)、ストロンチ
ウム(Sr)、リチウム(Li)、ナトリウム(Na)、カリ
ウム(K)、ホウ素(B)、アルミニウム(Al)、リン
(P)、スズ(Sn)、アンチモン(Sb)、シリコン(S
i)、チタニウム(Ti)、亜鉛(Zn)、バナジウム
(V)、ニオブ(Nb)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、ニ
ッケル(Ni)、マンガン(Mn)、ランタン(La)、セリ
ウム(Ce)、プラセオジウム(Pr)、ネオジム(Nd)、
サマリウム(Sm)、タングステン(W)の中から少なく
とも1種以上を含有するものである。
これらの金属はイオン交換法で特定の結晶構造、特定
の組成を有する結晶性シリケート上に担持させ、銅と共
存させることができる。さらに硝酸塩、塩化物、硫酸塩
の各種塩を含浸法により上記担体上に担持することもで
きる。
の組成を有する結晶性シリケート上に担持させ、銅と共
存させることができる。さらに硝酸塩、塩化物、硫酸塩
の各種塩を含浸法により上記担体上に担持することもで
きる。
本発明で使用する特定の結晶性シリケートよりなる担
体上に担持される銅と他の金属の好ましい含有量は担体
100重量部に対してCuは0.2〜30重量部好ましくは0.4〜2
0重量部、一方、他の金属としてMg,Ca,Ba,Sr,Li,Na,K,
B,Al,P.Si,Snは0.2〜8重量部、Sb,Ti,Zn,V,Nb,Fe,Co,N
i,Mn,La,Ce,Pr,Nd,Sm,Wは0.1〜6重量部である。
体上に担持される銅と他の金属の好ましい含有量は担体
100重量部に対してCuは0.2〜30重量部好ましくは0.4〜2
0重量部、一方、他の金属としてMg,Ca,Ba,Sr,Li,Na,K,
B,Al,P.Si,Snは0.2〜8重量部、Sb,Ti,Zn,V,Nb,Fe,Co,N
i,Mn,La,Ce,Pr,Nd,Sm,Wは0.1〜6重量部である。
一般的にはCuの含有量の少ない方が高温域での脱硝活
性は高い。通常、反応式は前記したように,,式
で表わされるが、反応速度を支配する触媒の活性因子は
Cuであり、各調製法や組成によって異なるが一般的にCu
の含有量が0.2≦Cu≦0.4域では高温活性用(k2/k3=
k1)、0.4≦Cuでは低温活性用(k2/k3=k2)となる。
(k1<k2) 〔実施例〕 〔実施例1〕 排気の流れに対して、流入側に高温にて脱硝活性が高
い触媒を流出側に低温にて脱硝活性が高い触媒を配置し
た排気ガス処理触媒を次のように調製した。
性は高い。通常、反応式は前記したように,,式
で表わされるが、反応速度を支配する触媒の活性因子は
Cuであり、各調製法や組成によって異なるが一般的にCu
の含有量が0.2≦Cu≦0.4域では高温活性用(k2/k3=
k1)、0.4≦Cuでは低温活性用(k2/k3=k2)となる。
(k1<k2) 〔実施例〕 〔実施例1〕 排気の流れに対して、流入側に高温にて脱硝活性が高
い触媒を流出側に低温にて脱硝活性が高い触媒を配置し
た排気ガス処理触媒を次のように調製した。
〔触媒1〕 下記のモル比で表わされる結晶性シリケートNa2O・
(0.2Fe2O3・0.8Al2O3)・30SiO2・1000H2O(X線回折
特性はA表)1kgを、酢酸銅100gを50の水に溶解した
水溶液の中に入れ、室温にて12時間撹拌し、イオン交換
操作を行った。このイオン交換操作1回後、水洗し、10
0℃で12時間乾燥後、触媒Aを得た。この触媒AのCu担
持量は0.35mmol/g(結晶性シリケート)であった。さら
に上記操作を5回繰り返しイオン交換を行い水洗、乾燥
後、触媒Bを得た。この触媒BのCu担持量は0.55mmol/g
であった。
(0.2Fe2O3・0.8Al2O3)・30SiO2・1000H2O(X線回折
特性はA表)1kgを、酢酸銅100gを50の水に溶解した
水溶液の中に入れ、室温にて12時間撹拌し、イオン交換
操作を行った。このイオン交換操作1回後、水洗し、10
0℃で12時間乾燥後、触媒Aを得た。この触媒AのCu担
持量は0.35mmol/g(結晶性シリケート)であった。さら
に上記操作を5回繰り返しイオン交換を行い水洗、乾燥
後、触媒Bを得た。この触媒BのCu担持量は0.55mmol/g
であった。
上記触媒A、B各々に対してシリカゾル(スノーテッ
クス・・・シリカ分20%)とアルミナゾル(アルミナ分
10%)とを触媒粉末100部に対して各々70部、20部と水
を300部加え、さらに硝酸を加えてpH=4としてウォッ
シュコート用スラリーを得た。1mm目のピッチのコーデ
ィエライトハニカム基材(0.5)に上記スラリーを浸
漬し、切り出し後余分なスラリーを圧縮空気が吹き払い
120℃で約30分間乾燥し、乾燥後、更にハニカム基材を
スラリー溶液に浸漬する。繰り返し上記操作を行い所定
量の触媒(約600/m2基材表面)をコートした後、600℃
3時間電気炉中で焼成した。
クス・・・シリカ分20%)とアルミナゾル(アルミナ分
10%)とを触媒粉末100部に対して各々70部、20部と水
を300部加え、さらに硝酸を加えてpH=4としてウォッ
シュコート用スラリーを得た。1mm目のピッチのコーデ
ィエライトハニカム基材(0.5)に上記スラリーを浸
漬し、切り出し後余分なスラリーを圧縮空気が吹き払い
120℃で約30分間乾燥し、乾燥後、更にハニカム基材を
スラリー溶液に浸漬する。繰り返し上記操作を行い所定
量の触媒(約600/m2基材表面)をコートした後、600℃
3時間電気炉中で焼成した。
〔実施例2〕 実施例1で用いた結晶性シリケートの代わりに下記の
モル比を有する結晶性シリケート(X線回折特性がA
表)を用いて、実施例1と同様の方法にて下記に脱水さ
れた状態で示す組成のCu担持量の異なる2種の触媒粉末
を得る。
モル比を有する結晶性シリケート(X線回折特性がA
表)を用いて、実施例1と同様の方法にて下記に脱水さ
れた状態で示す組成のCu担持量の異なる2種の触媒粉末
を得る。
Na2O・Fe2O3・25SiO2 …触媒2 Na2O・〔0.1La2O3・0.9Al2O3〕・35SiO2 …触媒3 Na2O・〔0.3Cr2O3・0.3Fe2O3・0.4Al2O3〕・30SiO2 …触媒4 Na2O・〔0.5Ga2O3・0.5Al2O3〕・30SiO2 …触媒5 Na2O・〔0.1Co2O3・0.9Al2O3〕・30SiO2 …触媒6 Na2O・〔0.1Ti2O3・0.9Al2O3〕・30SiO2 …触媒7 Na2O・〔0.1Nb2O3・0.9Al2O3〕・30SiO2 …触媒8 Na2O・〔0.1V2O3・0.9Al2O3〕・35SiO2 …触媒9 Na2O・〔0.05Bi2O3・0.95Al2O3〕・31SiO2 …触媒10 Na2O・〔0.1Ta2O3・0.9Al2O3〕・30SiO2 …触媒11 Na2O・〔0.05Sb2O3・0.95Al2O3〕・30SiO2 …触媒12 Na2O・〔0.1Ni2O3・0.9Al2O3〕・28SiO2 …触媒13 Na2O・Al2O3・30SiO2 …触媒14 〔実施例3〕 実施例1で用いた結晶性シリケート1kgを塩化第2銅
0.5モルと、塩化亜鉛(ZnCl2)、塩化カルシウム(CaCl
2・2H2O)、塩化バリウム(BaCl2・2H2O)、塩化ストロ
ンチウム(SrCl2・6H2O)、塩化ナトリウム(NaCl)、
塩化カリウム(KCl)、ホウ酸(H3BO3)、塩化アルミニ
ウム(AlCl3)、塩化スズ(SnCl2・2H2O)、四塩化ケイ
素(SiCl4)を各々0.5モルを50の水に共溶解した水溶
液に入れ、各々共イオン交換を1回と5回実施し触媒15
〜24を得た。
0.5モルと、塩化亜鉛(ZnCl2)、塩化カルシウム(CaCl
2・2H2O)、塩化バリウム(BaCl2・2H2O)、塩化ストロ
ンチウム(SrCl2・6H2O)、塩化ナトリウム(NaCl)、
塩化カリウム(KCl)、ホウ酸(H3BO3)、塩化アルミニ
ウム(AlCl3)、塩化スズ(SnCl2・2H2O)、四塩化ケイ
素(SiCl4)を各々0.5モルを50の水に共溶解した水溶
液に入れ、各々共イオン交換を1回と5回実施し触媒15
〜24を得た。
さらに、結晶性シリケートをプロトン化処理し、H型
に変更した後、塩化第2銅と塩化アンチモン(SbC
l2)、四塩化チタン(TiCl4)、三塩化バナジム(VC
l3)、三塩化鉄(FeCl3)、塩化コバルト(CoCl2・6H
2O)、塩化ニッケル(NiCl2・6H2O)、塩化マンガン(M
nCl2・4H2O)、塩化ランタン(LaCl3)、塩化セリウム
(CeCl3)、塩化プラセオジウム(PrCl3・7H2O)、塩化
ネオジム(NdCl3)、塩化サマリウム(SmCl3)、塩化タ
ングステン(WCl6)、塩化リチウム(LiCl)、塩化ニオ
ブ(NbCl4)の各水溶液を結晶性シリケートに対して、
原子比にてCu(0.6mmol/g)、上記元素(0.2mmol/g)と
Cu(0.35mmol/g)、上記元素(0.2mmol/g)の2種の共
担持を含浸法にて実施し、触媒25〜39を調製し、各々実
施例1と同様の手法にてコージュライト基材にコートし
た。
に変更した後、塩化第2銅と塩化アンチモン(SbC
l2)、四塩化チタン(TiCl4)、三塩化バナジム(VC
l3)、三塩化鉄(FeCl3)、塩化コバルト(CoCl2・6H
2O)、塩化ニッケル(NiCl2・6H2O)、塩化マンガン(M
nCl2・4H2O)、塩化ランタン(LaCl3)、塩化セリウム
(CeCl3)、塩化プラセオジウム(PrCl3・7H2O)、塩化
ネオジム(NdCl3)、塩化サマリウム(SmCl3)、塩化タ
ングステン(WCl6)、塩化リチウム(LiCl)、塩化ニオ
ブ(NbCl4)の各水溶液を結晶性シリケートに対して、
原子比にてCu(0.6mmol/g)、上記元素(0.2mmol/g)と
Cu(0.35mmol/g)、上記元素(0.2mmol/g)の2種の共
担持を含浸法にて実施し、触媒25〜39を調製し、各々実
施例1と同様の手法にてコージュライト基材にコートし
た。
〔試験例1〕 ハニカム触媒1〜39を、排気ガス流入側が高温用脱硝
触媒、流出側が低温用脱硝触媒となるように充填し、1.
6ガソリンエンジン排気系に装着した。350℃、500℃
の温度における各ガスの浄化率を測定し表1に示す。エ
ンジンの空燃比はA/F・20(O2約6%)の状態にて活性
評価を実施した。
触媒、流出側が低温用脱硝触媒となるように充填し、1.
6ガソリンエンジン排気系に装着した。350℃、500℃
の温度における各ガスの浄化率を測定し表1に示す。エ
ンジンの空燃比はA/F・20(O2約6%)の状態にて活性
評価を実施した。
なお、表1においてイオン交換により調製した触媒1
〜24には、イオン交換されていないNa2Oが若干残存して
いるものもあるが、便宜上記載を省略し、基本骨格のみ
を示した。触媒25〜39はプロトン処理してH型に交換し
たのち、含浸法により調製しているのでNa2Oは残存して
いない。
〜24には、イオン交換されていないNa2Oが若干残存して
いるものもあるが、便宜上記載を省略し、基本骨格のみ
を示した。触媒25〜39はプロトン処理してH型に交換し
たのち、含浸法により調製しているのでNa2Oは残存して
いない。
〔比較例1〕 比較のため、排気流入側と排気流出側に同一の触媒を
充填して活性評価を実施した。評価条件は試験例1と同
一条件である。評価結果を表1に示す(触媒40,41)。
充填して活性評価を実施した。評価条件は試験例1と同
一条件である。評価結果を表1に示す(触媒40,41)。
〔発明の効果〕 上述のように、本発明の排気ガス処理方法は排気流入
側に高温域で脱硝活性が高い触媒を配置し、排気流出側
に低温域で脱硝活性が高い触媒を配置することにより広
温度域において内燃機関から排出される高O2濃度雰囲気
中の排ガス(とりわけNOx)の除去に優れていることが
明らかとなった。
側に高温域で脱硝活性が高い触媒を配置し、排気流出側
に低温域で脱硝活性が高い触媒を配置することにより広
温度域において内燃機関から排出される高O2濃度雰囲気
中の排ガス(とりわけNOx)の除去に優れていることが
明らかとなった。
Claims (2)
- 【請求項1】排気中の一酸化炭素、炭化水素、窒素酸化
物を除去するに際し、下記A表で示されるX線回折特性
を有し、脱水された状態で酸化物のモル比が (1±0.8)R2O〔aM2O3・bAl2O3〕ySiO2 (但し、上記式中、Rはアルカリ金属イオン及び/又は
水素、MはVIII族金属、希土類金属、チタン、バナジウ
ム、クロム、ニオブ、アンチモン、ガリウム、ビスマ
ス、タンタルからなる群から選ばれた1種以上の元素の
イオン、a+b=1,a≧0,b≧0,y≧11) の化学式で表わされる結晶性シリケート上に活性金属を
担持した触媒を用いるにあたり、排気流入側に高温域で
脱硝活性が高い触媒を、排気流出側に低温域で脱硝活性
が高い触媒を直列にて配置して用いることを特徴とする
排ガス処理方法。 - 【請求項2】上記活性金属が銅あるいは銅およびマグネ
シウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、リチ
ウム、ナトリウム、カリウム、ホウ素、アルミニウム、
リン、スズ、アンチモン、シリコン、チタニウム、亜
鉛、バナジウム、ニオブ、鉄、コバルト、ニッケル、マ
ンガン、ランタン、セリウム、プラセオジウム、ネオジ
ル、サマリウム、タングステンの中から少なくとも1種
以上含まれる特許請求の範囲第1項記載の排気ガス処理
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2115816A JP2781639B2 (ja) | 1990-05-07 | 1990-05-07 | 排ガス処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2115816A JP2781639B2 (ja) | 1990-05-07 | 1990-05-07 | 排ガス処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0416239A JPH0416239A (ja) | 1992-01-21 |
JP2781639B2 true JP2781639B2 (ja) | 1998-07-30 |
Family
ID=14671814
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2115816A Expired - Fee Related JP2781639B2 (ja) | 1990-05-07 | 1990-05-07 | 排ガス処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2781639B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ATE236706T1 (de) * | 1998-05-29 | 2003-04-15 | Siemens Ag | Verfahren zur reinigung dieselmotorischen abgases |
JP4529463B2 (ja) * | 2004-02-10 | 2010-08-25 | トヨタ自動車株式会社 | 排ガス浄化用触媒及び排ガス浄化方法 |
JP4909522B2 (ja) * | 2005-03-28 | 2012-04-04 | フクビ化学工業株式会社 | 床下収納庫の吊支構造 |
CN104437530B (zh) * | 2014-12-24 | 2016-05-25 | 西安元创化工科技股份有限公司 | 一种脱硝催化剂的制备方法 |
CN104888793B (zh) * | 2015-06-30 | 2017-04-12 | 北京化工大学 | 一种用于催化臭氧氧化挥发性有机物的催化剂及制备方法 |
CN106975513A (zh) * | 2017-05-09 | 2017-07-25 | 河北工业大学 | 一种负载型电气石稀土复合选择性脱硝催化剂 |
CN114682248B (zh) * | 2020-12-30 | 2023-09-08 | 中国石油大学(北京) | 一种低温脱硝催化剂及其制备方法和应用 |
-
1990
- 1990-05-07 JP JP2115816A patent/JP2781639B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0416239A (ja) | 1992-01-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2771321B2 (ja) | 排気ガス浄化用触媒組成物、排気ガス浄化用触媒及びその製造方法 | |
JP3098083B2 (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
EP0522490B1 (en) | Catalyst and method for exhaust gas purification | |
JP2781639B2 (ja) | 排ガス処理方法 | |
JPH11104493A (ja) | 排気ガス浄化用触媒及び使用方法 | |
JP3219480B2 (ja) | 排気ガス処理方法及び触媒 | |
JP2778801B2 (ja) | 排ガス処理触媒 | |
JP3276678B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒及びこれを使用した排ガスの浄化方法 | |
JP3251009B2 (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
JPH06296870A (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
JP3510908B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
JP3129346B2 (ja) | 排ガス処理触媒及び排ガス処理方法 | |
JP2772117B2 (ja) | 排気ガス処理触媒の製造法 | |
JPH07194973A (ja) | 排ガス浄化触媒 | |
JPH06190282A (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
JP3129348B2 (ja) | 排ガス処理触媒 | |
JP3300721B2 (ja) | 排気ガス浄化触媒 | |
JP3276193B2 (ja) | 排気処理触媒 | |
JP3219815B2 (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
WO2021187304A1 (ja) | 炭化水素吸着材 | |
JP2000093803A (ja) | 排気ガス浄化用触媒及び排気ガス浄化方法 | |
JPH04193347A (ja) | 排気ガス浄化触媒 | |
JP2999039B2 (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
JPH06190279A (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
JP3097363B2 (ja) | 排気ガス浄化用触媒 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |