JPH04157638A - 光ディスク基板の製造方法 - Google Patents
光ディスク基板の製造方法Info
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- JPH04157638A JPH04157638A JP28386690A JP28386690A JPH04157638A JP H04157638 A JPH04157638 A JP H04157638A JP 28386690 A JP28386690 A JP 28386690A JP 28386690 A JP28386690 A JP 28386690A JP H04157638 A JPH04157638 A JP H04157638A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、プラスチック製の光ディスク用基板の製造方
法に関する。
法に関する。
［従来の技術］
従来から、プラスチック製の光ディスク用基板材料とし
ては、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等
の熱可塑性樹脂やエポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、
キャストアクリル樹脂等の硬化性樹脂か知られている。
ては、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等
の熱可塑性樹脂やエポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、
キャストアクリル樹脂等の硬化性樹脂か知られている。
上記材料を用いて情報パターン付光ディスク基板を製造
する方法として、下記■、■、■の方法がよく知られて
いる。
する方法として、下記■、■、■の方法がよく知られて
いる。
■情報パターン付スタンパを取り付けた金型内に熱可塑
性樹脂を射出成形する方法。
性樹脂を射出成形する方法。
■予め用意した透明円板の表面に情報パターン付の紫外
線硬化型樹脂薄膜を付着する方法（２Ｐ法）。
線硬化型樹脂薄膜を付着する方法（２Ｐ法）。
■情報パターン付スタンパと紫外線透過性平板との間に
紫外線硬化型樹脂を注入し、紫外線透過性平板の側から
該樹脂に紫外線を照射して樹脂を硬化せしめた後、上記
スタンパと紫外線透過性平板とから離型させる方法。
紫外線硬化型樹脂を注入し、紫外線透過性平板の側から
該樹脂に紫外線を照射して樹脂を硬化せしめた後、上記
スタンパと紫外線透過性平板とから離型させる方法。
［発明か解決しようとする課題］
しかしながら、■の方法で得られる基板は、複屈折やス
タンパからの転写精度に問題があった。
タンパからの転写精度に問題があった。
また、■の方法により得られる基板は、予め透明円板を
準備する必要があることや透明円板と紫外線硬化型樹脂
薄膜の密着信頼性に問題かあった。
準備する必要があることや透明円板と紫外線硬化型樹脂
薄膜の密着信頼性に問題かあった。
一方、■の方法は、■及び■の方法の欠点を解消できる
可能性がある。しかしながら、■の方法は、紫外線透過
性平板の側のみから紫外線を照射して硬化するため、離
型後の情報パターン付基板に反りを生じる結果を招いて
いる。
可能性がある。しかしながら、■の方法は、紫外線透過
性平板の側のみから紫外線を照射して硬化するため、離
型後の情報パターン付基板に反りを生じる結果を招いて
いる。
本発明は、基本的には、この■の方法を採用するもので
あり、ソリの発生しない情報パターン付光ディスク基板
の製造方法を提供することにある。
あり、ソリの発生しない情報パターン付光ディスク基板
の製造方法を提供することにある。
［課題を解決するための手段］
上記課題を解決するため、鋭意研究を行った結果、本発
明者らは、２００ｎｍ 〜４００ｎｍ範囲の波長の光に
対する光透過率が同一の紫外線透過性平板と紫外線透過
性スタンパを用いることにより、上記目的を達成するこ
とを見出し、この知見に基ついて本発明を完成するに至
った。
明者らは、２００ｎｍ 〜４００ｎｍ範囲の波長の光に
対する光透過率が同一の紫外線透過性平板と紫外線透過
性スタンパを用いることにより、上記目的を達成するこ
とを見出し、この知見に基ついて本発明を完成するに至
った。
すなわち、本発明は紫外線硬化型樹脂を紫外線透過性平
板と紫外線透過性スタンパの間に注入し、該樹脂に紫外
線を照射し樹脂を硬化して光ディスク基板を製造する方
法において、波長２００ｎｍ〜４００ｎｍの光に対して
の光透過率か同一である前記紫外線透過性平板と紫外線
透過性スタンパを使用することを特徴とする光ティスフ
基板の製造方法を提供するものである。
板と紫外線透過性スタンパの間に注入し、該樹脂に紫外
線を照射し樹脂を硬化して光ディスク基板を製造する方
法において、波長２００ｎｍ〜４００ｎｍの光に対して
の光透過率か同一である前記紫外線透過性平板と紫外線
透過性スタンパを使用することを特徴とする光ティスフ
基板の製造方法を提供するものである。
本発明に使用される平板とスタンパの材質は、紫外線透
過性を有するものであれば、特に限定はないが、耐久性
の面からガラス製が望ましく、石英ガラス、硼珪酸ガラ
ス、ソータライムガラスか好ましく、平板とスタンパは
、同一材質が良い。
過性を有するものであれば、特に限定はないが、耐久性
の面からガラス製が望ましく、石英ガラス、硼珪酸ガラ
ス、ソータライムガラスか好ましく、平板とスタンパは
、同一材質が良い。
本発明の基板の成形は注型成形により行われ、通常、平
板は上型、スタンパは下型に配置され、紫外線硬化型樹
脂を平板とスタンパの間に注入して行われる。ガラス製
スタンパは、公知の技術により作製され、例えば、リソ
グラフィーとトライ／ウェットエツチング技術を利用し
所望の情報パターンを形成する。
板は上型、スタンパは下型に配置され、紫外線硬化型樹
脂を平板とスタンパの間に注入して行われる。ガラス製
スタンパは、公知の技術により作製され、例えば、リソ
グラフィーとトライ／ウェットエツチング技術を利用し
所望の情報パターンを形成する。
２００ｎｍ〜４００ｎｍの光に対する光透過率は、通常
、スタンパの方が平板よりも小さい。本発明ではこれが
同一であるスタンパと平板を用いることを特徴としてい
るが、スタンパと平板の光透過率を同一にする方法とし
ては、例えば、平板の紫外線硬化型樹脂に接しない側の
面にスタンパと同じ情報パターンを形成する方法がある
。
、スタンパの方が平板よりも小さい。本発明ではこれが
同一であるスタンパと平板を用いることを特徴としてい
るが、スタンパと平板の光透過率を同一にする方法とし
ては、例えば、平板の紫外線硬化型樹脂に接しない側の
面にスタンパと同じ情報パターンを形成する方法がある
。
本発明に使用される紫外線硬化型樹脂は、特に限定され
ず、この種の光ディスク用基板材料として一般的に使用
されるアクリレート又はメタクリレート系紫外線硬化型
樹脂、ポリエン・ポリチオール系紫外線硬化型樹脂、エ
ポキシ系紫外線硬化型樹脂等を使用することができる。
ず、この種の光ディスク用基板材料として一般的に使用
されるアクリレート又はメタクリレート系紫外線硬化型
樹脂、ポリエン・ポリチオール系紫外線硬化型樹脂、エ
ポキシ系紫外線硬化型樹脂等を使用することができる。
ガラスからの離型性向上と金属腐食を回避する観点から
は、アクリル又はメタクリル系紫外線硬化型樹脂を用い
ることが好ましい。
は、アクリル又はメタクリル系紫外線硬化型樹脂を用い
ることが好ましい。
紫外線硬化型樹脂を硬化させるためには通常光重合開始
剤を用いるが、本発明に使用される光重合開始剤は、２
００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲に吸収波長を有するもので
あれば、特に限定されず、公知のもので良い。好適な光
重合開始剤の具体例としては、１−ヒドロキシシクロへ
キシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−
１−フェニルプロパン−１−オン、２，２−ジメト・キ
シ−２−フェニルアセトフェノン、１−（４−イソプロ
ピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン
−１−オン等を挙げることができる。
剤を用いるが、本発明に使用される光重合開始剤は、２
００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲に吸収波長を有するもので
あれば、特に限定されず、公知のもので良い。好適な光
重合開始剤の具体例としては、１−ヒドロキシシクロへ
キシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−
１−フェニルプロパン−１−オン、２，２−ジメト・キ
シ−２−フェニルアセトフェノン、１−（４−イソプロ
ピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン
−１−オン等を挙げることができる。
光重合開始剤は、通常、紫外線硬化型樹脂１００重量部
に対して０．１〜５重量部の範囲で用いられる。
に対して０．１〜５重量部の範囲で用いられる。
本発明では、上下から紫外線か上下型内の紫外線硬化型
樹脂に同エネルギー照射される必要かあり、上下型にお
いて、必すしも紫外線照射の開始あるいは終了時間を同
じにする必要はないか、成形時間短縮の点からは、上下
型の紫外線照射開始時間は、同一である方が望ましい。
樹脂に同エネルギー照射される必要かあり、上下型にお
いて、必すしも紫外線照射の開始あるいは終了時間を同
じにする必要はないか、成形時間短縮の点からは、上下
型の紫外線照射開始時間は、同一である方が望ましい。
［作用］
紫外線硬化型樹脂は、紫外線エネルギーを吸収して硬化
する。一般的に紫外線硬化型樹脂の吸収波長は、２００
ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内で分布を有している。上下型
で形成された厚さ１゜０〜１．５ｏ＋ｍのキャビティ内
に注入された紫外線硬化型樹脂に上型の側から紫外線を
照射し、硬化せしめた場合、硬化基板の厚さ方向の重合
率は、上型から下型方向に指数関数的に減少するため、
基板反りの原因となる。また、光透過率の異なる上下型
から紫外線を照射し、硬化された基板は、初期において
、顕著な反りは認められないものの、蒸着やスパッタに
よる薄膜形成時の熱履歴や、長期保管によって、反りを
発生する。これは、硬化基板内部には、硬化収縮による
応力が存在しており、厚さ方向の応力が不均一なため、
熱などの外部要因によって応力解放が起きた際に基板が
反るものと推定される。
する。一般的に紫外線硬化型樹脂の吸収波長は、２００
ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内で分布を有している。上下型
で形成された厚さ１゜０〜１．５ｏ＋ｍのキャビティ内
に注入された紫外線硬化型樹脂に上型の側から紫外線を
照射し、硬化せしめた場合、硬化基板の厚さ方向の重合
率は、上型から下型方向に指数関数的に減少するため、
基板反りの原因となる。また、光透過率の異なる上下型
から紫外線を照射し、硬化された基板は、初期において
、顕著な反りは認められないものの、蒸着やスパッタに
よる薄膜形成時の熱履歴や、長期保管によって、反りを
発生する。これは、硬化基板内部には、硬化収縮による
応力が存在しており、厚さ方向の応力が不均一なため、
熱などの外部要因によって応力解放が起きた際に基板が
反るものと推定される。
本発明は、紫外領域における光透過率が同一の上下型を
使用し、上下型の両側から紫外線を照射し、紫外線硬化
型樹脂を硬化するので、硬化基板の厚さ方向での内部応
力は、実質的に等しく、応力解放による反りが防止され
るものと考えられる。
使用し、上下型の両側から紫外線を照射し、紫外線硬化
型樹脂を硬化するので、硬化基板の厚さ方向での内部応
力は、実質的に等しく、応力解放による反りが防止され
るものと考えられる。
［実施例］
本発明を、実施例により、更に詳細に説明する。
なお、硬化基板の物性は、下記条件により測定した。
（１）基板反り：光ディスク評価装置（松井製作所Ｈ製
０ＤＳ−４０４−ＸＡ）を用い、基板半径６０ｍｎ＋の
ソリ角を測定した。
０ＤＳ−４０４−ＸＡ）を用い、基板半径６０ｍｎ＋の
ソリ角を測定した。
（２）光透過率：波長２００ｎｍ 〜４００ｎｍにおけ
る平板及びスタンパの光透過率を紫外分光光度計（日立
製作新製Ｕ−３２００）を用いて測定した。
る平板及びスタンパの光透過率を紫外分光光度計（日立
製作新製Ｕ−３２００）を用いて測定した。
実施例１
第１図に示す上下型で形成されたキャビティ内に、２，
２−ビス［４−（メタクリロキシエトキシ）フェニルコ
ブロバン１００重量部、１−ヒドロキシシクロへキシル
フェニルケトン１重量部からなる紫外線硬化型樹脂を注
入し、上下型より各々３０００ｍＪ／ｃｍ” （波長
３６０ｎｍ）の光量の紫外線を照射し、該樹脂を硬化し
た。次いで、キャビティから硬化基板を取り出し直径１
３０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの成形基板を得た。この基板
のソリ角は０．８ミリラジアンであった。続いて、この
基板に１００°Ｃで１時間の熱処理を施したところ、基
板のソリ角は、１．５ミリラジアンであった。
２−ビス［４−（メタクリロキシエトキシ）フェニルコ
ブロバン１００重量部、１−ヒドロキシシクロへキシル
フェニルケトン１重量部からなる紫外線硬化型樹脂を注
入し、上下型より各々３０００ｍＪ／ｃｍ” （波長
３６０ｎｍ）の光量の紫外線を照射し、該樹脂を硬化し
た。次いで、キャビティから硬化基板を取り出し直径１
３０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの成形基板を得た。この基板
のソリ角は０．８ミリラジアンであった。続いて、この
基板に１００°Ｃで１時間の熱処理を施したところ、基
板のソリ角は、１．５ミリラジアンであった。
この値は、規格とされる５ミリラジアンを満足する。
なお、下型は、厚さ８ｍｍの石英製スタンパであり、情
報パターンとしては、幅０．８μｍ１深さ７００ の溝
が１．６μｍピッチでスパイラル状に形成されている。
報パターンとしては、幅０．８μｍ１深さ７００ の溝
が１．６μｍピッチでスパイラル状に形成されている。
上型は、厚さ８ｍｍの石英製ガラス板であり、紫外線硬
化型樹脂に接しない面に下型と同一の情報パターンが形
成されている。
化型樹脂に接しない面に下型と同一の情報パターンが形
成されている。
第２図に示すように、上下型の光透過率は、同一であっ
た。
た。
比較例１
上型として厚さ８ｍｍの石英製ガラス板を使用した以外
は、実施例と同様の条件で成形を行なった。
は、実施例と同様の条件で成形を行なった。
成形基板のソリ角は、７．８ミリラジアンであり、１０
０°Ｃ，１時間加熱後の基板ソリ角は、１６ミリラジア
ンであった。
０°Ｃ，１時間加熱後の基板ソリ角は、１６ミリラジア
ンであった。
第３図に示すように下型の光透過率は、情報パターンに
よる紫外線の散乱、回折によって、上型よりも小さい。
よる紫外線の散乱、回折によって、上型よりも小さい。
比較例２
比較例１と同様の上下型を使用し、下型のランプ位置を
下型に近づけて波長３６０ｎｍにおける照度を上型と等
しくなるように設定した後、実施例と同様の条件で成形
を行なった。成形基板のソリ角は、６．１ミリラジアン
であった。この基板の１００℃、１時間加熱処理後のソ
リ角は、１０゜２ミリラジアンであった。
下型に近づけて波長３６０ｎｍにおける照度を上型と等
しくなるように設定した後、実施例と同様の条件で成形
を行なった。成形基板のソリ角は、６．１ミリラジアン
であった。この基板の１００℃、１時間加熱処理後のソ
リ角は、１０゜２ミリラジアンであった。
以上のように、上下型で光透過率に差異かある場合は、
たとえ、紫外線ランプ位置などを調節しても、特定波長
における照度は一致させられても２００ｎｍ〜４００ｎ
ｍ全域の照度を一致できないので、キャビティ厚さ方向
での紫外線硬化型樹脂を均一に硬化できす、硬化基板に
反りが発生する。
たとえ、紫外線ランプ位置などを調節しても、特定波長
における照度は一致させられても２００ｎｍ〜４００ｎ
ｍ全域の照度を一致できないので、キャビティ厚さ方向
での紫外線硬化型樹脂を均一に硬化できす、硬化基板に
反りが発生する。
［発明の効果］
上記したように、本発明によれば、寸法精度に優れた光
ディスク用基板を、複雑な装置や工程を要することなく
、高速、安価に製造できる。
ディスク用基板を、複雑な装置や工程を要することなく
、高速、安価に製造できる。
第１図は本発明の実施例に用いた成形型の断面図である
。第２図は本発明の実施例における上型、下型の光透過
率を示すグラフである。第３図は本発明の比較例１で使
用した上型、下型の光透過率を示すグラフである。 符号の説明 １ 紫外線ランプ ２ 紫外線 ３ 上型（紫外線透過性平板） ４ 紫外線硬化型樹脂 ５ スペーサ ６ 下型（紫外線透過性スタンパ）
。第２図は本発明の実施例における上型、下型の光透過
率を示すグラフである。第３図は本発明の比較例１で使
用した上型、下型の光透過率を示すグラフである。 符号の説明 １ 紫外線ランプ ２ 紫外線 ３ 上型（紫外線透過性平板） ４ 紫外線硬化型樹脂 ５ スペーサ ６ 下型（紫外線透過性スタンパ）
Claims (1)
- １、紫外線硬化型樹脂を紫外線透過性平板と紫外線透過
性スタンパの間に注入し、該樹脂に紫外線を照射し樹脂
を硬化して光ディスク基板を製造する方法において、波
長２００ｎｍ〜４００ｎｍの光に対しての光透過率が同
一である前記紫外線透過性平板と紫外線透過性スタンパ
を使用することを特徴とする光ディスク基板の製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28386690A JPH04157638A (ja) | 1990-10-22 | 1990-10-22 | 光ディスク基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28386690A JPH04157638A (ja) | 1990-10-22 | 1990-10-22 | 光ディスク基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04157638A true JPH04157638A (ja) | 1992-05-29 |
Family
ID=17671189
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28386690A Pending JPH04157638A (ja) | 1990-10-22 | 1990-10-22 | 光ディスク基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04157638A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998041984A1 (fr) * | 1997-03-18 | 1998-09-24 | Seiko Epson Corporation | Procede de production d'un support de memorisation d'informations |
| US6608675B1 (en) * | 2000-08-28 | 2003-08-19 | Nissan Arc, Ltd. | Method for visualizing higher-order structure of transparent optical polymer molding |
-
1990
- 1990-10-22 JP JP28386690A patent/JPH04157638A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998041984A1 (fr) * | 1997-03-18 | 1998-09-24 | Seiko Epson Corporation | Procede de production d'un support de memorisation d'informations |
| US6284084B1 (en) | 1997-03-18 | 2001-09-04 | Seiko Epson Corporation | Method of manufacturing information record carrier |
| US6608675B1 (en) * | 2000-08-28 | 2003-08-19 | Nissan Arc, Ltd. | Method for visualizing higher-order structure of transparent optical polymer molding |
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