JPH0210539A - 光ディスク基板の製造方法 - Google Patents

光ディスク基板の製造方法

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JPH0210539A
JPH0210539A JP16008088A JP16008088A JPH0210539A JP H0210539 A JPH0210539 A JP H0210539A JP 16008088 A JP16008088 A JP 16008088A JP 16008088 A JP16008088 A JP 16008088A JP H0210539 A JPH0210539 A JP H0210539A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
light
curing
optical disk
stamper
Prior art date
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Pending
Application number
JP16008088A
Other languages
English (en)
Inventor
Toru Yamamoto
徹 山本
Hiroshi Kikuta
菊田 弘
Kazumasa Yamamoto
山元 一正
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0210539A publication Critical patent/JPH0210539A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はレーザー光などの光や熱を利用して情報の記録
、再生を行なうデーターファイル装置などに使われる光
ディスク基板の製造方法に関するものである。
従来の技術 光ディスク基板には、ポリ力等の樹脂から成る樹脂基板
とガラスから成るガラス基板の二種類がある。本発明は
前者に関するものである。
又、樹脂基板の製造方法にはポリ力等の熱可塑性樹脂を
熟成形する射出成形もしくは射出圧縮成形とエポキシ等
の熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂等の液状硬化性樹脂を型
に注液し、硬化させる注型成形の二通りがある。本発明
は後者に関するものである。
従来、射出成形もしくは射出圧縮成形はタクトが速(コ
スト面で大きな利点を持っているが、ゴミの混入や複屈
折の点に問題を有している。一方性型成形の場合は、液
のろ過が可能でゴミの除去ができ、複屈折も小さい利点
がある反面、成形タクトが長く低コスト化がむずかしい
欠点を存する。
そのため成形タクトを短かくする手段として注型用の型
のヒーターや光照射で加熱したり、マイクロ波を照射す
る方法が用いられる。(例えば 特開昭62−2971
21号公報) 発明が解決しようとする課題 しかしながら上記のような方法では、反応時の硬化収縮
によって基板の径方向にすじ(ひけ)や外周部にスタン
パ−と樹脂との剥離(浮き)を生じるという課題を有し
ていた。
ひげや浮きが発生する原因としては、金型温度によって
樹脂の最大反応速度位置は変化するが、通常は金型の中
央部分が最大反応速度となる。
(参考文献、ドウ ヒュンキム アンド スンチュルキ
ム エンジニアリング アナリシス オブ リアクシラ
ン インジェクション モールディング プロセス オ
ブ エポキシ レジン、ポリマー コンボジッツ、シュ
ン、ブイオーエル8゜エヌオー3.ビー209 (19
87) (Do Hyun Kim andSung 
ChulKim Engineering Analy
sis or ReactionInjection 
Molding Process of Bpoxy 
Re5in。
Polymer Composites、 June、
 Vol 8+ No、3  P2O9(1987))
 )。
このため中心部から中央部に向けてひけを発生し、外周
部から中央部に向けて浮きを生じる。
本発明は上記課題に鑑み、成形ダクトが短かくかつひげ
や浮きのない光ディスク基板の製造方法を提供するもの
である。
課題を解決するための手段 上記課題を解決するために本発明の製造方法は、液状硬
化樹脂を型に注液した後、中心部から段階的に外周部へ
硬化させることを特徴とするものである。
作用 本発明は上記した製造方法によって中心部より反応、硬
化を行ない、徐々に外周部へ反応を進めてゆき外周部か
ら内部へ順次樹脂を供給し、ひげや浮きを抑制するもの
である。
本発明では光や熱を中心部から徐々に外周部に加える事
によって最大反応速度位置が中心部から徐々に外周部に
向う。このため硬化時の収縮は外周部からの樹脂供給に
より大きく緩和されることとなる。
実施例 以下本発明の一実施例の光ディスク基板製造方法につい
て、図面を参照しながら説明する。第1図、第2図は本
発明の第1の実施例における加熱ランプによる熱硬化性
樹脂の硬化時の概略図を示すものである。第1図におい
て、11はスタンパ−12はガラス板、13はスタンパ
−固定リング、14は遮光板、15は加熱ランプ、16
は熱硬化性樹脂又第2図において21は遮光板である。
スタンパ−固定リング13によって固定されたφ130
flのスタンパ−11上にガラス板12をのせる。
次にガラス板の中心穴よりビニルエステルを主剤とする
熱硬化性樹脂16を適量注入する。その後第1図に示す
ようにガラス板上にφ80mの穴の開いた遮光板14を
のせ、加熱ランプ15を点灯して樹脂温度を中心部だけ
上げ、反応を進める。数分間光を照射した後、遮光板を
第2図に示すようにφ100鰭の穴の開いた遮光板21
に替えて再び数分間光を照射する。次に遮光板を除去し
てガラス板全体に5〜6分間光を照射し、硬化を行なう
。この後、スタンパ−およびガラス板から硬化した基板
をはずし、内、外周径を各々φ15鶴、φ13抛醜に切
断した後、真空中100℃6時間後硬化を行ない光ディ
スク基板を完成した。
第3図、第4図は本発明の第2図の実施例における紫外
線ランプによる紫外線硬化樹脂の硬化時の概略図を示す
ものである。第3図において、31は遮光板、32は紫
外線ランプ、33は紫外線硬化樹脂である。
スタンパ−とガラス板間に紫外線硬化樹脂を注入した後
、第3図に示すようにガラス板上にφ80鶴の穴の開い
た遮光板31をのせ、その上方から紫外線ランプ32(
高圧水銀灯)で30秒間照射する。
(照度20mW / cd )次に第4図に示すように
遮光板を徐々に紫外線ランプに近づけ、樹脂全体を照射
、硬化してゆく。この後、スタンパ−およびガラス基板
から樹脂を剥離し、その後前記と同一方法で後硬化を行
ない光ディスク基板を完成した。
以上のように本実施例によれば、液状硬化性樹脂を中心
部から段階的に外周部へ硬化させてゆ(ことにより、径
方向のひげや外周部での浮きの発生を抑えることができ
る。
発明の効果 以上のように本発明は液状硬化性樹脂を中心部から段階
的に外周部へ硬化させてゆくことにより、径方向のひけ
や外周部での浮きがなくなり、トラッキングエラーのな
い高CN比の光ディスク基板を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図は本発明の第1の一実施例における加熱
ランプによる熱硬化性樹脂の硬化時の概略図、第3図、
第4図は本発明の第2の一実施例における紫外線ランプ
による紫外線硬化樹脂の硬化時の概略図である。 11・・・・・・スタンパ−212・・・・・・ガラス
板、13・・・・・・スタンパ−固定リング、14・・
・・・・遮光板、15・・・・・・加熱ランプ、16・
・・・・・熱硬化性樹脂、21・・・・・・遮光板、3
1・・・・・・遮光板、32・・・・・・紫外線ランプ
、33・・・・・・紫外線硬化樹脂。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか1名城

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)スタンパーと鏡面板の間にエポキシ樹脂、ビニル
    エステル樹脂または紫外線硬化樹脂等の液状硬化性樹脂
    を注入し、注入後前記樹脂を中心部から段階的に外周部
    へ硬化させることを特徴とする光ディスク基板の製造方
    法。
  2. (2)硬化の加速手段として光を使用し、段階的硬化の
    ために鏡面板上方に小口径の穴の開いたマスタを設け、
    その上方から光を照射し、まず中心部を硬化し、次に中
    口径の穴の開いたマスクを設け、上方から光を照射して
    中口径程度まで硬化し、最後に鏡面板全体に光を照射し
    て液状硬化性樹脂を硬化させることを特徴とする請求項
    (1)記載の光ディスク基板の製造方法。
  3. (3)硬化の加速手段として光を使用し、段階的硬化の
    ために鏡面板上方に小口径の穴の開いたマスクを設け、
    その上方から光を照射し、次に時間の経過とともに前記
    マスクを光源側に近づけ、光の照射部を広げ硬化を徐々
    に外周まで行うことを特徴とする請求項(1)記載の光
    ディスク基板の製造方法。
JP16008088A 1988-06-28 1988-06-28 光ディスク基板の製造方法 Pending JPH0210539A (ja)

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