JPS6242345A - 光デイスク用基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は音声１画像、情報などを保存、記録。

再生する光ディスク用基板の製造方法に関するものであ
る。

〔発明の背景〕

従来よりディジタルオーディオディスク、ビデオディス
ク、光ディスク記録媒体、光磁気ディスクなどの光ディ
スク用基板においては、厚さ約１鰭の透明板の表面に、
溝やピットなどの情報パターンを形成したものが使用、
される。

従来、上記光ディスク用基板を製造する場合には、つぎ
の３方法が知られている。すなわち、（イ）溝やピント
などの情報パターンを有する金属製スタンパを配置した
金型内に、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレー
トなどの高分子材料を射出成形する方法。〔日経メカニ
カル第３４頁（１９８２−２−１）　、　　日経エレク
トロニクス第１３３頁（１９８２−６−７）　） （ｏ）あらかじめ用意された透明支持板の表面に情報パ
ターン付の光硬化性樹脂を付着させる方法。

（特開昭５３−８６７５６　、特開昭５５−１５２０２
８）（ハ）情報パターンを有するスタンパと光透過性平
板とを対向させて形成された空間に光硬化性樹脂を注入
し、光透過性平板の側から光を照射して光硬化性樹脂を
硬化させたのち、上記スタンパと、光透過性平板とを取
り除いた光硬化性樹脂硬化物からなる情報パターン付透
明板を得る方法。（特開昭５５−１６０３３８．特開昭
５７−２５９２１）がある。

しかるに前記（イ）の方法によって得られる光ディスク
用基板においては、高分子材料が流動、固化するさいに
発生する分子配向を完全に除去することが困難であるた
め、基板内に光学的異方性が発生し易く、かつ情報パタ
ーンの形状がスタンパから基板に忠実に転写しにくいた
め、光ディスクの動作時の特性が低下する傾向にある。

また前記（ロ）の方法によって得られる光ディスク用基
板においては、あらかじめ透明支持板を製作しておかな
ければならないため、製作日数が増加して高価格になる
傾向にある。

さらに前記（ハ）の方法は、前記（イ）および（Ｄ）の
方法の欠点を解決する可能性を有するが、その反面つぎ
に述べるような問題点がある。

すなわち、一般的に使用されている前記（ハ）の方法は
たとえば第５図および第６図に示すように、ガラスなど
の透明板で形成された平板１と情報パターン付スタンパ
２とを情報パターン付スタンパ２の外周に配置された外
周リング３を介して空間４を有する如く平行に対向配置
させ、この空間４内に情報パターン付スタンパ２の中心
部に形成された注入口５から光硬化性樹脂６を注入した
のち、この光硬化性樹脂６を透明板１を介して照射され
る光源６によりのエネルギー線によって硬化させている
。

ここで一般に使用されているアクリレートまたはメタク
リレート系光硬化性樹脂およびポリエン・ポリチオール
系光硬化性樹脂は、硬化時に体積が収縮するので、これ
によって硬化物の外周部にひげやボイドを発生ずる問題
がある。

そこで上記の問題を解決するため、従来たとえばスタン
プ部を可動式にしたり　（特開昭５５−１６０３３８あ
るいは弾力性の外周リングを使用したり　（特開昭５７
−２５９２１）　して上記の硬化物の収縮を緩和するこ
とが提案されている。

しかるに上記の方法では、光硬化性樹脂硬化物からなる
基板の厚さが不均一になったり、外径寸法の管理が困難
になったり、外周リングとスタンパ、または外周リング
と透明板の間に入ったｍｌの光硬化性樹脂が空気中の酸
素により硬化不良を発生して未硬化樹脂が基板を汚染し
たり、半硬化の付着性残留物が堆積したりして型の寸法
精度を低下させる問題がある。

〔発明の目的〕

本発明の目的は前記従来の問題点を解決し、光学的異方
性が小さく、低欠陥で高精度かつ安価を可能とする光デ
ィスク用基板の製造方法を提供することにある。

〔発明の概要〕

本発明は前記の目的を達成するため、情報パターン付ス
タンパと光透過性平板とを間隔を有する如く対向配置し
、上記間隔内にその間隔の一部を微小な間隙なる如くノ
ツチ用リングを介挿して間隔内を主空間と、その主空間
の外周の樹脂溜り空間とに分割し、上記主空間内に注入
ノズルをその軸心方向に移動しつつ主空間内全体および
樹脂溜り空間の一部に光硬化性樹脂を注入し、この光硬
化性樹脂を外部のエネルギー源よりのエネルギーの照射
によって硬化させたのち、主空間内の光硬化性樹脂硬化
物から上記情報パターン付スタンパおよび光透過性平板
を取り除くとともに樹脂溜り空間内の光硬化性樹脂硬化
物を除去して光ディスク用基板を製造するもので、上記
可動式注入ノズルにより液状で主空間内に注入された光
硬化性樹脂に気泡を巻き込むことなく液の流れを均一化
して異常な分子配向の防止を可能にし、かつ主空間内の
光硬化性樹脂の硬化収縮によって主空間内に空隙を発生
するのを樹脂溜り空間内の光硬化性樹脂の補充によりこ
れを防止し、これによって光ディスク用基板の外周部に
ひげが発生するの防止し、板厚の均一化、外周寸法精度
の向上を可能にするとともに光ディスク用基板および型
が硬化不良樹脂による汚染を防止可能にすることを特徴
とするものである。これに加えて本発明はエネルギー源
と透過性平板との間にマスクを介挿して樹脂溜り空間内
の光硬化性樹脂の硬化を制御し、主空間内の光硬化性樹
脂の硬化時に樹脂溜り空間内の光硬化性樹脂が主空間内
に容易に流入可能にしたことを特徴とするものである。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の実施例を示す第２図乃至第５図により説
明する。

〔実施例１〕 第１図は本発明の第１の実施例を示す光ディスク用基板
製造プロセスの説明図である。

同図において、７ａは平板にして厚さ１ｆｌ、外径２０
０ｆｉの強化ガラス板にして形成され、下面中心部には
黒色のマスク８ａを固嵌している。９ａはスタンパにし
て、外径１３０　ｍｍのＮｉにて形成され、上記平板７
ａと間隔１．３　ｔｍを有する如く平行に対向配置され
ている。１０ａは外周リングにして、断面を」形状をし
、内径１３０鶴に形成して上記スタンパ９ａを固嵌し、
高さ１１１に形成してその上面ヲ平板７ａの下面外周部
に対接し、これによって平板７ａＸタンパ９ａとの間に
空間１１ａを形成している。また外周リング１０ａはそ
の内径周囲の上面には上記空間１１ａ内に突出してその
頂部と上記平板７ａの下面との間に微小な間隙１２ａを
有する如く断面３角形状をしたノツチ用リング１３ａを
固定し、このノツチ用リング１３ａにより上記空間１１
ａを主空間１４ａと樹脂溜り空間１５ａとに分割し、一
方の主空間１４ａにて型１４ａ′を形成している。

１６ａはパイプ状をした注入ノズルにして、上記スタン
パ９ａの中心部に図示しない移動機構により上下方向に
移動しろる如く遊嵌し、上面がスタンパ９ａの上面と一
致したとき上昇移動しつつ供給源（図示せず）よりアク
リル系およびメタクリル系光硬化性樹脂〔ジペンタエリ
スリトールへキサアクリレート３０重量％、イソホロン
ジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシエチルアクリ
レート２モルとの反応生成物４０重量％、イソボルニル
メタクリレート２９重量％、１−ヒドロキシシクロへキ
シルフェニルケトン１重量％）〕（以下第１光硬化性樹
脂という）１７ａを型１４３′内に注入し、この第１光
硬化性樹脂１７ａが型１４ａ′内を充満し、ノツチ用リ
ング１３ａと平板７ａとの微小間隙１２ａを通過し樹脂
溜り空間１５ａ内に約手分位注入して該注入ノズル１６
ａの上面がマスク８ａに対接したとき、注入を停止する
如くしている。１８ａは光源にして、上記平板７ａ上方
位置に配置され、上記型１４ａ′内および樹脂溜り空間
１５ａ内にそれぞれ光硬化性樹脂１７ａ、　１７ａ　’
の注入が完了したとき、エネルギー線（図示せず）を上
記平板７ａを介して第１光硬化性樹脂１７ａ、　１７ａ
　’に照射する如くしている。

本発明は前記の如く構成されているものであるから、注
入ノズル１６ａ上面がスタンパ９ａの上面に一致したと
き、注入ノズル１６ａが上昇移動しつつ供給源より第１
光硬化性樹脂１７ａが型１４ａ′内に注入する。

しかるのち第１光硬化性樹脂１７ａが型１４ａ′内を充
満し、ノツチ用リング１３ａと平板７ａの微小間隙１２
ａを通過して樹脂溜り空間１５ａ内に約半分位注入し、
上記注入ノズル１６ａの上面が鎖線にて示す如くマスク
８ａに対接すると、第１光硬化性樹脂１７ａの注入が完
了する。

ついで光源１８ａよりのエネルギー線が平＋Ｈ７ａを介
して型１４ａ′内の第１光硬化性樹脂１７ａおよび樹脂
溜り空間１５ａ内の第１光硬化性樹脂１７ａ′を照射し
て、これらの第１光硬化性樹脂１７ａ、　１７ａ　’を
それぞれ硬化させる。

しかるのち、第１光硬化性樹脂１７ａ、１７ａ′がそれ
ぞれ硬化したとき、型１４ａ′内の第１光硬化性樹脂１
７ａより平板７ａ、スタンパ９ａおよび外周リング１０
ａを取り外し、樹脂溜り空間１５ａ内の第１光硬化性樹
脂１７ａ′を除去すると、上記型１４８′内の第１光硬
化性樹脂１７ａの硬化物から情報パターン付の光ディス
ク用基板が得られた。

上記によって得られた光ディスク用基板は外径が１３０
±０．１ｆｌ、そりが０．１鶴以下、板厚の変動が±０
．０５ｍ、８３０日光に対する光学的レタデーション５
ｎｍ以下（ダブルバス）であり、ボイド、ひけなどがな
く実用可能な性能を有していた。また硬化不良樹脂によ
る汚染は樹脂溜り空間１５ａ内の第１光硬化性樹脂１７
ａ′のみに認められたが、樹脂溜り空間１５ａ内の第１
光硬化性樹脂１７ａ′のみを取り除くだけで、つぎの型
１４ａ′内の成型が可能であるから特別に型１４ａ′内
の清掃が不用である。

〔実施例２〕 第２図は本発明の第２の実施例を示す光ディスク用基板
製造ブスセスの説明図である。

同図において７ｂは平板にして、厚さ１０ｍｍ、外径１
８０　ｍｍのガラス板にて形成され、上面中心部には黒
色のマスク８ｂを固嵌している。９ｂはスタンパにして
、外径２００　ｍｍのＮｊ板にて形成され上記平板７ｂ
と間隔１．３鶴を有する如く平行に対向配置されている
。１０ｂは外周リングにして上面に上記スタンパ９ｂの
下面を対接し、内周面に上記スタンパ９ｂと間隔１．３
ｆｌを保持する如く平板７ｂの外周部を固嵌支持し、こ
れによって平板７ｂとスタンパ９ｂとの間に空間１１ｂ
を形成している。

１３ｂはノツチ用リングにして、断面３角形状をしてそ
の頂部とスタンパ９ｂの下面との間に微小な間隙１２ｂ
を有する如く平板７ｂの上面に固定され該ノツチ用リン
グ１３ｂにて上記空間１１ｂ内を主空間１４ｂと樹脂溜
り用空間１５ａとに分割し、一方の主空間１４ｂにて型
１４ｂ′を形成している。１６ｂはパイプ状をした注入
ノズルにして上記スタンパ９ｂの中心部に図示しない移
動機構により上下方向に移動しうる如く遊嵌し、上面が
スタンパ９ｂの上面と一致したとき、上昇移動しつつ供
給源（図示せず）よりアクリル系およびメタクリル系光
硬化性樹脂〔ジペンタエリスリトールへキサアクリレー
ト３０重量％、１．１’−メチレンビス（４−イソシア
ナトシクロヘキサン）１モルと２−ヒドロキシエチルア
クリレート２モルとの反応生成物４０重量％、ボルニル
メタクリレート２９重量％、１−ヒドロキシシクロへキ
シルフェニルケトン１重量％）〕（以下第２光硬化性樹
脂という）１７ｂを型１４ｂ′内に注入し、この第２光
硬化性樹脂１７ｂが型１４ｂ′内を充満し、ノツチ用リ
ング１３ｂと平板７ｂとの微小間隙１２ｂを通過し樹脂
溜り空間１５ｂ内に約手分位注入して該注入ノズル１６
ｂの下面がマスク８ｂに対接したとき、注入を停止する
如くしている、１８ｂは光源にして上記平板７ｂの下方
位置に配置され、上記エネルギー線（図示せず）を平板
７ｂを介して型１４ｂ′内および樹脂溜り空間１５ｂ内
の光硬化性樹脂１７ｂ、１７ｂ’に照射する如くしてい
る。

本発明は前記の如く構成されているものであるから、注
入ノズル１６ｂの上面がスタンパ９ｂの上面に一致した
とき、注入ノズル１６ｂが下降移動しつつ供給源より第
２光硬化性樹脂１７ｂが型１４ｂ′内に注入する。

しかるのち、第２光硬化性樹脂１７ｂが型１４ｂ′内に
充満し、ノツチ用リング１３ｂとスタンパ９ｂの下面と
の微小間隙１２ｂを通って樹脂溜り空間１５ｂ内の約手
分位注入して、該注入ノズル１６ｂの下面がマスク８ｂ
に対接すると、第２光硬化性樹脂１７ｂの注入が完了す
る。

ついで光源１８ｂよりエネルギー線が平板７ｂを介して
型１４ｂ′内の第２光硬化性樹脂１７ｂおよび樹脂溜り
空間１５ｂ内の第２光硬化性樹脂１７ｂ′を照射して、
これらの第２光硬化性樹脂１７ｂ、　１７ｂ’をそれぞ
れ硬化させる。

しかるのち、第２光硬化性樹脂１７ｂ、　１７ｂ　’が
それぞれ硬化したとき、型１４ｂ内の第２光硬化性樹脂
１７ｂより平板７ｂ、スタンパ９ｂおよび外周リング１
０ｂを取り外し、樹脂溜り空間１５ｂ内の第２光硬化性
樹脂１７ｂ′を除去すると上記型１４ｂ′内の第２光硬
化性樹脂１７ｂの硬化から情報パターン付の光ディスク
用基板が得られる。

上記によって得られた光ディスク用基板は外径が１３（
１±０．１ｍ、そりが０．１ｍｍ以下、板厚の変動が±
０．０５ｓｎ、　８３０　ｗ光に対する光学的レタデー
ション５ｎ以下（ダブルバス）であり、ボイド、ひけな
どがなく実用可能な性能を有していた。また硬化不良樹
脂による汚染は樹脂溜り空間１５ｂ内の第２光硬化性樹
脂１７ｂ′のみに認められたが、樹脂溜り空間１５ａ内
の第２光硬化性樹脂１７ｂ′のみを取り除くだけでつぎ
の型１４ｂ′内の成形が可能であるから、特別に型１４
ｂ′内の清掃が不用になる。

〔実施例３〕 第３図は本発明の第３の実施例を示す光ディスク用基板
製造プロセスの説明図である。

本実施例においては、前記第１の実施例と同様厚さ１鶴
、外径２５０ｆｌの強化ガラス製の平板７ｃと外径２０
０ｗのＮｉ製のスタンパ９ｃとを間隔１．３鶴を保持し
て平行に対向配置し、高さ１鶴、内径２００　ｍｍのノ
ツチ用リング１３ｃを有する外周リング１０ｃを組み合
せて上記平板７ｃとスタンパ９ｃとの間の空間１１ｃを
主空間１４ｃと樹脂溜り空間１５ｃとに分割し一方の主
空間１４ｃに型１４ｃ′を形成している。またスタンパ
９ｃの中心部には上下動自在に注入ノズル１６ｃを遊嵌
している。

本実施例において第１の実施例の異なる点は上記平板７
ｃと光源１８Ｃとの間に光源１８ｃよりのエネルギー線
（図示せず）が樹脂溜り空間１５Ｃ内に注入した光硬化
性樹脂１７′に照射するのを遮断するための黒色マスク
１９ａを設置したことにある。

すなわち、前記第１の実施例と同様な方法により型１４
０′内に光硬化性樹脂１７を充満し、ノツチ用リング１
３ｃと平板７ｃとの微小間隙１２ｃを通って樹脂溜り空
間１５ｃ間に約手分位注入したのち、光源１８ｃよりの
エネルギー線を型１４０′内の光硬化性樹脂ＩＴおよび
樹脂溜り空間１５ｃ内の光硬化性樹脂１７′に照射して
これら光硬化性樹脂１７および１７′を硬化させて情報
パターン付光ディスク用基板を作製した結果、型１４′
内の光硬化性樹脂１７が硬化収縮により主空間１４Ｃと
の間に真空の空隙が発生し、これに起因するひげが外周
リング１０ｃに接する部分に発生した。

そこで本実施例においては、光源１８ｃよりのエネルギ
ー線を黒色マスク１９ａの大向を通って型１４０′内の
光硬化性樹脂１７のみに照射して光硬化性樹脂エフのみ
を硬化させ、このとき光硬化性樹脂１７が収縮する場合
には型１４０′内と樹脂溜り空間１５ｃ左の圧力差によ
り自動的に樹脂溜り空間１５Ｃ内の硬化していない光硬
化性樹脂１７′をノツチ用リング１３Ｃと平板７ｃとの
微小間隙１２Ｃを通って型１４ｃ　’内に補給させて上
記型１４０′内に空隙の発生防止している。

しかるのち、型１４０′内の光硬化性樹脂１７が硬化完
了したとき、上記黒色マスク１９を取り外して光源１８
Ｃよりのエネルギー線を樹脂溜り空間１５ｃ内の光硬化
性樹脂１７′に照射してこれを硬化させた結果、情報パ
ターン付基板の外周リング１０ｃに接する部分のひげを
防止することができた。

〔実施例４〕 第４図は本発明の第４の実施例を示す光ディスク用基板
製造プロセスの説明図である。

本実施例においては、前記第２の実施例と同様厚さ１０
１１鳳、外径２４０ｆｌのガラス製の平板７ｄに高さ１
１票、内径２００龍のガラス製のノツチ用リング１３ｄ
を固定し、これに平行に対向する如くＮｉ製のスタンパ
９ｄを配置し、これら平板７ｄおよびスタンパ９ｄを外
周リング１０ｄにより間隔１．３１を有する如く保持し
ている。

本実施例において前記第２の実施例と異なる点は前記第
３実施例において述べたと同一理由により上記平板７ｄ
と光源１８ｄとの間に光源１８ｄよりのエネルギー線（
図示せず）が樹脂溜り空間１５ｄ内に注入した光硬化性
樹脂１７′に照射するのを遮断するための黒色マスク１
９ｂを設置したことにある。

その結果本実施例においても前記第３の実施例と同様光
ディスク用基板の外周部のひけの発生を防止することが
できた。

〔比較例１〕 第５図に示す平板１を厚さ１日、外径１５０龍の強化ガ
ラスにて形成し、スタンパ２を外径１３０ｎのＮｉ製に
て形成し、これら平板ｌおよびスタンパ２を外周リング
３′にて間隔を１．３鶴に保持して平行に対向配置する
如く組付け、注入口５より上記平板１とスタンパ２との
間の空間４内に前記実施例１で使用したと同様の第１光
硬化性樹脂１７ａを注入してこれに光源６よりエネルギ
ー線を照射して硬化させたのち、第１光硬化性樹脂１７
ａの硬化物より平板１およびスタンパ板２を取り外して
情報パターン付基板を得た。

しかるにこの基板は外周部に樹脂の硬化収縮に起因する
ひけが多量に発生し、かつ空気に接触した部分で硬化不
良を発生した樹脂により広範囲に亘って汚染され、到底
実用できる状態でなかった。

また硬化不良を発生した半固形状の樹脂が強化ガラス製
の平板ｌと外周リング３との接触点を汚染したためこれ
を除去しなければつぎの成形が困難な状態であった。

〔比較例２〕 第６図に示す平板１を厚さ１０龍、外径１４０ｎのガラ
ス板に内径１３０Ｍの外周リング３を固定し、スタンパ
２をＮｉにて形成し、これら平板１および２スタンパ２
を外周りング３にて間隔１．３ｍｍを保持して平行に対
向配置する如く組付け、注入口５より上記平板１とスタ
ンパ２との間の空間４内に前記実施例２で使用したと同
様の第２光硬化性樹脂１７ｂ注入してこれに光源６にり
エネルギー線を照射して硬化させたのち、第２光硬化性
樹脂１７ｂの硬化物より平板１およびスタンパ２を取外
して情報パターン付基板を得た。

しかるにこの基板は外周部に樹脂の硬化収縮に起因する
ひげが多量に発生しかつ空気に接触した部分で硬化不良
を発生した樹脂により広範囲に亘って汚染され到底実用
できる状態でなかった。

また硬化不良を発生した半固形の樹脂強化ガラス製の平
板１と外周リング３との接触点を汚染したため、これを
除去しなければつぎの成形が困難な状態であった。

〔発明の効果〕

以上述べたる如くであるから、本発明によれば光学的歪
が少なく、耐熱性があり、かつ機械的強度および精度の
優れた透明度の高い光ディスク用基板を高速かつ低価格
で供給することができる効果を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１の実施例を示す光ディスク用基板
製造プロセスの説明図、第２図は本発明°゛の第２の実
施例を示す光ディスク用基板製造プロセスの説明図、第
３図は本発明の第３の実施例を示す光ディスク用基板製
造プロセスの説明図、第４図は本発明の第４の実施例を
示す光ディスク用基板プロセスの説明図、第５図は従来
の光ディスク用基板の製造プロセスの一例を示す説明図
、第６図は従来の光ディスク用基板の製造プロセスの他
の一例を示す説明図である。 ７．７ａ、７ｂ、７ｃｍ−−平板、８，３ａ、ｓｂ。 １９ａ、１９ｂ−マスク、９ａ、９ｂ、９ｃ、９ｄ−ス
タンパ、１０ａ　、　１０ｂ、　１０ｃ、　１０ｄ−・
−外周リング、１１ａ、　ｌｌｂ、　１ｌｃ−空間、１
４ａ、　１４ｂ、　１４ｃ　−主空間、１４ａ　’　、
　１４ｂ　’　、　１４ｃ　’−・−型、１５ａ、　１
５ｂ、　１５ｃ、　１５ｄ・・・樹脂溜り空間、１６ａ
、　１６ｂ、　１６ｃ・・・注入ノズル、１７、１７ａ
、　１７ｂ、　１７’　、　１７ａ　’　、　１７ｂ　
’　−−−光硬化性樹脂、１８ａ、　１８ｂ、　１８ｃ
、　１８ｄ・・−光源。 代理人　弁理士　　秋　本　正　実 第１図 第　２　図 第３図 第４図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、情報パターン付スタンパと、光透過性平板とを間隔
   を有する如く対向配置し、上記間隔内にその間隔の一部
   を微小な間隙に形成する如くノッチ用リングを介挿して
   間隔内を主空間とその主空間の外周の樹脂溜り空間とに
   分割し、注入口より主空間内全体および樹脂溜り空間の
   一部に光硬化性樹脂を注入し、この光硬化性樹脂を外部
   のエネルギー源よりのエネルギーの照射によって硬化さ
   せたのち、主空間内の光硬化性樹脂物から上記情報パタ
   ーン付スタンパおよび光透過性平板を取り除くとともに
   樹脂溜り空間内の光硬化性樹脂硬化物を除去して光ディ
   スク用基板を得ることを特徴とする光ディスク用基板の
   製造方法。２、情報パターン付スタンパと、光透過性平
   板とを間隔を有する如く対向配置し、上記間隔内にその
   間隔の一部を微小間隙に形成する如くノッチ用リングを
   介挿して間隔内を主空間とその主空間の外周の樹脂溜り
   空間とに分割し、注入口より主空間内全体および樹脂溜
   り空間の一部に光硬化性樹脂を注入し、これらの光硬化
   性樹脂と外部のエネルギー源との間に介挿されたマスク
   によりエネルギー源よりのエネルギー線を主空間内の光
   硬化性樹脂のみに照射して硬化させたのち、樹脂溜り空
   間の光硬化性樹脂に照射して硬化させ、空間内の光硬化
   性樹脂硬化物から上記情報パターン付スタンパおよび光
   透過性平板を取り除くとともに樹脂溜り空間内の光硬化
   性樹脂硬化物を除去して光ディスク用基板を得ることを
   特徴とする光ディスク用基板の製造方法。 ３、前記注入口は光硬化性樹脂の注入とともに主空間内
   に挿入することを特徴とする特許請求の範囲第１項また
   は第２項記載の光ディスク用基板の製造方法。