JPS63109013A - 光記録媒体用基板の成形に用いる型の製造方法 - Google Patents
光記録媒体用基板の成形に用いる型の製造方法Info
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- JPS63109013A JPS63109013A JP25362186A JP25362186A JPS63109013A JP S63109013 A JPS63109013 A JP S63109013A JP 25362186 A JP25362186 A JP 25362186A JP 25362186 A JP25362186 A JP 25362186A JP S63109013 A JPS63109013 A JP S63109013A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光によって再生又は記録／再生する光記録媒
体用基板の製造に用いる型、特に基板表面にトラッキン
グガイドあるいは情報ピットなどを転写複製するために
用いる型の製造方法に関する。
体用基板の製造に用いる型、特に基板表面にトラッキン
グガイドあるいは情報ピットなどを転写複製するために
用いる型の製造方法に関する。
（従来の技術）
情報やトラッキングガイドを凹凸として形成した光記録
媒体が広く知られている。その基板として大晴の複製物
を低いコストで作成できることがら、ＰＭＭＡやポリカ
ーボネートなどのプラスチック成形基板がよく使用され
ている。これらの基板の上に反射膜、追記可能な記録ｎ
ｑあるいは書替可能な記録膜等を成膜することによって
、光記録媒体とされる。
媒体が広く知られている。その基板として大晴の複製物
を低いコストで作成できることがら、ＰＭＭＡやポリカ
ーボネートなどのプラスチック成形基板がよく使用され
ている。これらの基板の上に反射膜、追記可能な記録ｎ
ｑあるいは書替可能な記録膜等を成膜することによって
、光記録媒体とされる。
上記成形基板の作成時、その表面に凹凸を転写する型と
して従来からスタンバ−と呼ばれる０、３ｍｍ程度のＰ
スさのニッケルＴｊ、鋳板が一般的に使用されている。
して従来からスタンバ−と呼ばれる０、３ｍｍ程度のＰ
スさのニッケルＴｊ、鋳板が一般的に使用されている。
スタンバの製造方法は第２図に示すように研摩した７面
性のよいガラス板１１にフォトレンジスト１２を塗布し
、これに対して情報ビットやトラッキングガイドと同じ
幅に集束したレーザビームを走査しながら照射しく露光
工程（ａ））。
性のよいガラス板１１にフォトレンジスト１２を塗布し
、これに対して情報ビットやトラッキングガイドと同じ
幅に集束したレーザビームを走査しながら照射しく露光
工程（ａ））。
現像することでまず原盤を作成する（現像工程（ｂ））
。次に、この丑にニッケル１３を厚さ０．３［０ｍ位に
電鋳しく電鋳工程（Ｃ））、原盤から剥す（ｄ）と、ニ
ッケルスタンバが完成する。このようにしてできたスタ
ンバを成形用型に取り付は射出成形によりプラスチック
の成形基板を得る。
。次に、この丑にニッケル１３を厚さ０．３［０ｍ位に
電鋳しく電鋳工程（Ｃ））、原盤から剥す（ｄ）と、ニ
ッケルスタンバが完成する。このようにしてできたスタ
ンバを成形用型に取り付は射出成形によりプラスチック
の成形基板を得る。
（発明が解決しようとする問題点〕
ところが、スタンバはその製法上、電鋳に要する時間が
かかりすぎる、内部応力が大きくなってそる等の理由か
ら厚くすることが困難で薄く、強度が不足しているため
、基板成形時にスタンバに加わる種々の力によって変形
し、特にその平面性が悪くなるという間通があった。ス
タンバの平面性は成形基板にも当然転写されるため成形
基板の平面性も悪くなり、特にピッチの小さいうねりが
光ヘッドのオートフォーカスサーボの追従能力以トにな
ると、光ヘッドが追従できなくなり、信号の記録、再生
、トラッキングに支障をきたす。この問題は高速回転で
使用するときにより顕著となる。
かかりすぎる、内部応力が大きくなってそる等の理由か
ら厚くすることが困難で薄く、強度が不足しているため
、基板成形時にスタンバに加わる種々の力によって変形
し、特にその平面性が悪くなるという間通があった。ス
タンバの平面性は成形基板にも当然転写されるため成形
基板の平面性も悪くなり、特にピッチの小さいうねりが
光ヘッドのオートフォーカスサーボの追従能力以トにな
ると、光ヘッドが追従できなくなり、信号の記録、再生
、トラッキングに支障をきたす。この問題は高速回転で
使用するときにより顕著となる。
本発明は上記の問題点を解決するために成されたもので
あり、その目的は、平面度がよく、しかも基板成形時に
実質的に変形しない光記録媒体用基板成形時に用いる型
を、簡単に作成する方法を提供することにある。
あり、その目的は、平面度がよく、しかも基板成形時に
実質的に変形しない光記録媒体用基板成形時に用いる型
を、簡単に作成する方法を提供することにある。
（問題点を解決するための手段）
上記の目的は以下の本発明によって達成できる。即ち、
光記録媒体用の基板Ｃ情報及び／またはトラッキングガ
イドを転写形成するためそれらに対応するくぼみをもっ
た型を製造する方法において、実質的に慴らな面（前記
欠点を除くために光記録媒体用の基板に要求される平面
度に、対応する平面度をもつ面）を仔する板状の型材を
用い、その表面にエツチングガスを導入すると共に光ビ
ームを照射して前記くぼみを形成することを特徴とする
製造方法である。
光記録媒体用の基板Ｃ情報及び／またはトラッキングガ
イドを転写形成するためそれらに対応するくぼみをもっ
た型を製造する方法において、実質的に慴らな面（前記
欠点を除くために光記録媒体用の基板に要求される平面
度に、対応する平面度をもつ面）を仔する板状の型材を
用い、その表面にエツチングガスを導入すると共に光ビ
ームを照射して前記くぼみを形成することを特徴とする
製造方法である。
本発明に用いる板状の型材としては、光記録媒体用基板
成形時に加わる力に耐え、その力によっては実質的に変
形しないものを選べばよい。なお、従来のスタンバはそ
の製法に帰因して必然的に薄くなっていたが、本発明に
用いる型材は製法に帰因する厚さの制限を受けないので
、ある物を上記要件を満たす型材とするには、その厚さ
の調整によることもできる。また、型材の硬度は、光ビ
ームとエツチングガスとによりエツチング可能な範囲内
でできるだけ硬い方がよい。
成形時に加わる力に耐え、その力によっては実質的に変
形しないものを選べばよい。なお、従来のスタンバはそ
の製法に帰因して必然的に薄くなっていたが、本発明に
用いる型材は製法に帰因する厚さの制限を受けないので
、ある物を上記要件を満たす型材とするには、その厚さ
の調整によることもできる。また、型材の硬度は、光ビ
ームとエツチングガスとによりエツチング可能な範囲内
でできるだけ硬い方がよい。
型材の材質の具体例として、金属（例えば、Ｎｉ、Ｔｉ
、Ｃｒ、Ｍｏ ） 、合金（ＹＡＧ鋼等）、セラミック
（ＳｉＣ，Ａ１７０３． ＡＩＮ、 Ｓｉ２ Ｎ ４
等）、石英、ガラス等が挙げられる。型材料には、硬度
を高くして耐久性をもたせる目的で、表面を窒化処理、
炭化処理したり、窒化物、炭化物等の表面層を設けても
よい。
、Ｃｒ、Ｍｏ ） 、合金（ＹＡＧ鋼等）、セラミック
（ＳｉＣ，Ａ１７０３． ＡＩＮ、 Ｓｉ２ Ｎ ４
等）、石英、ガラス等が挙げられる。型材料には、硬度
を高くして耐久性をもたせる目的で、表面を窒化処理、
炭化処理したり、窒化物、炭化物等の表面層を設けても
よい。
上記のような型材をエツチングするために、本発明では
前記したように光ビームとエツチングガスとを利用する
。即ち、エツチングしようとする部分に対して光ビーム
を照射すると共に、その付近にエツチングガスを導入す
る。この操作を実施すると、■エツチングガスの分解及
び■光ビームが照射された部分における型材と該分解生
成物との反応が促進される。主に■の作用によると考え
られるが、上記操作によって、光ビーム照射部のみをエ
ツチングすることができる。
前記したように光ビームとエツチングガスとを利用する
。即ち、エツチングしようとする部分に対して光ビーム
を照射すると共に、その付近にエツチングガスを導入す
る。この操作を実施すると、■エツチングガスの分解及
び■光ビームが照射された部分における型材と該分解生
成物との反応が促進される。主に■の作用によると考え
られるが、上記操作によって、光ビーム照射部のみをエ
ツチングすることができる。
一般にエツチングのためにエツチング液を用いることも
できるが、光記録媒体に使用される情報ピットやトラッ
キングガイドの寸法は１μ程度であり要求される精度は
非常に厳しいので本発明においては、ヒ述したようにガ
ス（エツチングガス）を用いる。エツチングガスは、型
材構成元素と反応して、それをガス化する性質をもつ気
体をいい、代表的には塩素ガス、塩素含有ガス、弗素ガ
ス、弗素含有ガス等が挙げられる。光ビームとしては、
各種のレーザー光が制限なく使用できるが、代表的には
紫外領域の発振波長をもったエキシマレーザ−などが挙
げられる。かかる光ビームの幅により、エツチングされ
るくぼみの幅か、また、光ビームのエネルギーによりそ
の深さがコントロールできる。
できるが、光記録媒体に使用される情報ピットやトラッ
キングガイドの寸法は１μ程度であり要求される精度は
非常に厳しいので本発明においては、ヒ述したようにガ
ス（エツチングガス）を用いる。エツチングガスは、型
材構成元素と反応して、それをガス化する性質をもつ気
体をいい、代表的には塩素ガス、塩素含有ガス、弗素ガ
ス、弗素含有ガス等が挙げられる。光ビームとしては、
各種のレーザー光が制限なく使用できるが、代表的には
紫外領域の発振波長をもったエキシマレーザ−などが挙
げられる。かかる光ビームの幅により、エツチングされ
るくぼみの幅か、また、光ビームのエネルギーによりそ
の深さがコントロールできる。
本発明の製造法において、所望のＭ報信号やトラッキン
グガイドに応したパターンにエツチングするには、従来
原盤上のフォトレジスト層を露光してパターンを形成し
たのと同様の装置を少し改良したものを利用することが
できる。
グガイドに応したパターンにエツチングするには、従来
原盤上のフォトレジスト層を露光してパターンを形成し
たのと同様の装置を少し改良したものを利用することが
できる。
その装置の一例の概略を第１図に示す。この装置は、（
イ）光記録媒体１を載置し、回転しながら矢印Ａのよう
に移動するターンテーブル２と、（ロ）レーザー光源３
、変調器４及び集束レンズ５より成るレーザー照射系と
、（ハ）エツチングガスボンベ６、流量調整器７及び排
気プロワ−８より成るエツチングガス導入排出系とから
成る。
イ）光記録媒体１を載置し、回転しながら矢印Ａのよう
に移動するターンテーブル２と、（ロ）レーザー光源３
、変調器４及び集束レンズ５より成るレーザー照射系と
、（ハ）エツチングガスボンベ６、流量調整器７及び排
気プロワ−８より成るエツチングガス導入排出系とから
成る。
レーザー光源をエツチングに通した紫外線領域のものに
し、光学系をそれに合わせて設計したこと、エツチング
ガス導入系を設けたことが改良点である。
し、光学系をそれに合わせて設計したこと、エツチング
ガス導入系を設けたことが改良点である。
実施例１
型材として、研摩したディスク状ＹＡＧｊｌｌ（厚さ５
ｍｍ、φ２００ｖａ ）の上に反応性イオンブレーティ
ング法によってＴｉＮを１μの厚さに成膜して硬度をあ
げたものを用いた。これを第１図に示したような装置の
ターンテーブル２にセットし、この型材表面にピッ≠１
．６μのスパイラル状のトラッキングガイドをφ１２０
〜φ６０ｍ＋ｏの範囲に形成するために、ターンテーブ
ルを毎分９００回転させながら矢印Ａのように移動させ
た。レーザー光源３にはＸｅＣＩエキシマレーザを用い
、型材に照射した。波長３０８ｍｍ 、出力ＩＷである
。このレーザーのビーム径をレンズで０．８μに絞り、
オートフォーカスサーボにより型材表面に焦点を常に合
わせた。エツチングガスはＣ１２ガスをＩＯｊ！／ｍｉ
ｎ流し、ノズルからレーザ照射部に噴射した。以上のよ
うにして型材をエツチングし、幅約０．８鱗、深さ０．
１−のトラッキングガイドを有する型を得た。
ｍｍ、φ２００ｖａ ）の上に反応性イオンブレーティ
ング法によってＴｉＮを１μの厚さに成膜して硬度をあ
げたものを用いた。これを第１図に示したような装置の
ターンテーブル２にセットし、この型材表面にピッ≠１
．６μのスパイラル状のトラッキングガイドをφ１２０
〜φ６０ｍ＋ｏの範囲に形成するために、ターンテーブ
ルを毎分９００回転させながら矢印Ａのように移動させ
た。レーザー光源３にはＸｅＣＩエキシマレーザを用い
、型材に照射した。波長３０８ｍｍ 、出力ＩＷである
。このレーザーのビーム径をレンズで０．８μに絞り、
オートフォーカスサーボにより型材表面に焦点を常に合
わせた。エツチングガスはＣ１２ガスをＩＯｊ！／ｍｉ
ｎ流し、ノズルからレーザ照射部に噴射した。以上のよ
うにして型材をエツチングし、幅約０．８鱗、深さ０．
１−のトラッキングガイドを有する型を得た。
実施例２
エツチングガスとしてｍ Ｗｋ ８ Ｉｔ ／ ｗｉｎ
のｃｃｉ。
のｃｃｉ。
を用いたこと、及びレーザ出力を３Ｗとしたこと以外は
実施例１と同様にして、上記とほぼ同様のトラッキング
ガイドを有する型を形成した。
実施例１と同様にして、上記とほぼ同様のトラッキング
ガイドを有する型を形成した。
実施例３
エツチングガスとして流量８ ｊ！ ／ ｍｉｎのＣＦ
、を用いたこと、及びレーザ出力を３Ｗとしたこと以外
は実施例１と同様にして、上記とほぼ同様のトラッキン
グガイドを有する型を形成した。
、を用いたこと、及びレーザ出力を３Ｗとしたこと以外
は実施例１と同様にして、上記とほぼ同様のトラッキン
グガイドを有する型を形成した。
実施例４
書替形光磁気ディスク用基板を作るために利用する、ト
ラッキングガイドとプリフォーマット信号ビットのある
型を次のように作成した。レーザビームを２本に分け、
その２木のうちリフオーマット信号をエツチングする方
は、ＡＯ変調器を通して信号に対応して出力を制御した
。ピーク出力は２．５Ｗである。一方、トラッキングガ
イド用のビームはＩＷで一定とした。ビーム径は各々０
．６鱗に絞った。その他は実施例！と同じようにした。
ラッキングガイドとプリフォーマット信号ビットのある
型を次のように作成した。レーザビームを２本に分け、
その２木のうちリフオーマット信号をエツチングする方
は、ＡＯ変調器を通して信号に対応して出力を制御した
。ピーク出力は２．５Ｗである。一方、トラッキングガ
イド用のビームはＩＷで一定とした。ビーム径は各々０
．６鱗に絞った。その他は実施例！と同じようにした。
完成した型において、トラッキングガイドは幅０．６μ
、深さ０．８μｓ、プリフォーマット信号のピットは幅
０．６鱗、深さ１．４μであった。
、深さ０．８μｓ、プリフォーマット信号のピットは幅
０．６鱗、深さ１．４μであった。
比較例１〜４
実施例１〜４の各々と同じ程度の幅、深さ、ピッチのト
ラッキングガイドまたはプリフォーマット信号をもつ型
を従来法に従って作製した。
ラッキングガイドまたはプリフォーマット信号をもつ型
を従来法に従って作製した。
各々の厚さは約０．３ｍｏ＋であった。
（評価）
前記実施例と比較例とに従って作製した原盤の各々を射
出成形用の型に組み込みポリカーボネート樹脂を射出し
、光デイスク用の基板を成形した。その結果、比較例に
よる従来の薄いスタンパを用いて成形した基板と比べ、
実施例による型で面振れの少ない基板が安定に大量に作
製できた。
出成形用の型に組み込みポリカーボネート樹脂を射出し
、光デイスク用の基板を成形した。その結果、比較例に
よる従来の薄いスタンパを用いて成形した基板と比べ、
実施例による型で面振れの少ない基板が安定に大量に作
製できた。
実施例、比較例による型からできた基板を用いた光記録
媒体をドライブ装置にかけて、フォーカスサーボ、トラ
ッキングサーボの安定性を調べたところ、実施例による
ものは３６００ｒｐｍでも安定していたが、比較例（従
来法）によるものは３６００ｒｐｏ＋で不安定であった
。
媒体をドライブ装置にかけて、フォーカスサーボ、トラ
ッキングサーボの安定性を調べたところ、実施例による
ものは３６００ｒｐｍでも安定していたが、比較例（従
来法）によるものは３６００ｒｐｏ＋で不安定であった
。
以上詳細に説明したように、本発明によれば、平面度が
高く且つ極めて変形しにくい、トラッキングガイド等を
転写するための型が容易に作製できる。また、従来法の
ように１度転写工程を経て作製するのでなく型材から直
接作製するために、製造工程も短かくて済み、偏心も少
ない型が得られる。この結果、本発明によって、信頼性
が極めて高い光記録媒体を得ることが可能となった。
高く且つ極めて変形しにくい、トラッキングガイド等を
転写するための型が容易に作製できる。また、従来法の
ように１度転写工程を経て作製するのでなく型材から直
接作製するために、製造工程も短かくて済み、偏心も少
ない型が得られる。この結果、本発明によって、信頼性
が極めて高い光記録媒体を得ることが可能となった。
第１図は本発明の型作成方法を実施するための装置の一
形態を示す概念図、第２図は従来のスタンバの作成工程
を示す模式断面図である。 １・・・・・・型、 ２・・・・・・ターン
テーブル、３−−−−−レーザ源、 ４−−−−−変
調器、Ｓ −−−−集束レンズ、 ６・・・・・・エツチングガスボンベ、７・・・−・流
量調整器、 ８−−−−−排気プロワ−，１１−−−−
−−ガラス板、 １２−−−−フォトレジスト、＋
３−−−−−ニッケルスタンバ。
形態を示す概念図、第２図は従来のスタンバの作成工程
を示す模式断面図である。 １・・・・・・型、 ２・・・・・・ターン
テーブル、３−−−−−レーザ源、 ４−−−−−変
調器、Ｓ −−−−集束レンズ、 ６・・・・・・エツチングガスボンベ、７・・・−・流
量調整器、 ８−−−−−排気プロワ−，１１−−−−
−−ガラス板、 １２−−−−フォトレジスト、＋
３−−−−−ニッケルスタンバ。
Claims (1)
- １）光記録媒体用の基板に情報及び／またはトラッキン
グガイドを転写形成するためそれらに対応するくぼみを
もった型を製造する方法において、実質的に平らな面を
有する板状の型材を用い、その表面にエッチングガスを
導入すると共に光ビームを照射して前記くぼみを形成す
ることを特徴とする製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25362186A JPS63109013A (ja) | 1986-10-27 | 1986-10-27 | 光記録媒体用基板の成形に用いる型の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25362186A JPS63109013A (ja) | 1986-10-27 | 1986-10-27 | 光記録媒体用基板の成形に用いる型の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63109013A true JPS63109013A (ja) | 1988-05-13 |
Family
ID=17253903
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25362186A Pending JPS63109013A (ja) | 1986-10-27 | 1986-10-27 | 光記録媒体用基板の成形に用いる型の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63109013A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7481903B2 (en) | 2000-05-17 | 2009-01-27 | Tokyo Electron Limited | Processing device and method of maintaining the device, mechanism and method for assembling processing device parts, and lock mechanism and method for locking the lock mechanism |
| CN103950296A (zh) * | 2014-05-09 | 2014-07-30 | 昆山华辰精密工具有限公司 | 一种螺纹刀具激光刻字机 |
| CN106346145A (zh) * | 2016-11-23 | 2017-01-25 | 佛山智达思佳机电科技有限公司 | 一种快速钻孔的二氧化碳激光钻孔设备 |
-
1986
- 1986-10-27 JP JP25362186A patent/JPS63109013A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7481903B2 (en) | 2000-05-17 | 2009-01-27 | Tokyo Electron Limited | Processing device and method of maintaining the device, mechanism and method for assembling processing device parts, and lock mechanism and method for locking the lock mechanism |
| CN103950296A (zh) * | 2014-05-09 | 2014-07-30 | 昆山华辰精密工具有限公司 | 一种螺纹刀具激光刻字机 |
| CN106346145A (zh) * | 2016-11-23 | 2017-01-25 | 佛山智达思佳机电科技有限公司 | 一种快速钻孔的二氧化碳激光钻孔设备 |
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