JPH03176835A - 記録媒体基板の作製方法及び記録媒体の作製方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】

本発明は、光ディスク等の記録媒体基板の作製方法及び
記録媒体の作製方法に係り、特に紫外線硬化樹脂で記録
媒体基板を作製する方法及びその記録媒体基板を用いた
記録媒体の作製方法に関する。

【従来の技＃１１ 従来、光デイスク基板の作製方法は、特開昭５５−１６
０３３８に記載のように、少なくとも一枚が表面に凹凸
状の案内溝を有する二枚のスタンパ（成形型）を、上記
案内溝を設けた面が他方のスタンパと対向するように配
置し、２枚のスタンパの間に紫外線硬化樹脂を充填し、
この樹脂に紫外線を照射して硬化させ、スタンパを開い
て硬化した樹脂を取り出すことによって行なっていた。 また、このようにして作製した、少なくとも一方の表面
に凹凸状の案内溝を有する光デイスク基板の案内溝を有
する面に、少なくとも記録膜を形成し、光ディスクを作
製していた。なお、このような光ディスクに関連するも
のとしては、例えば特開昭５７−３８１８９、特開昭５
７−６６９９６がある。 【発明が解決しようとする課題１ 」二部従来技術は、基板外周部に突起物、いわゆるパリ
が生じることについては考慮されていなかった。基板外
周部には、余剰の紫外線硬化樹脂が硬化したものがパリ
として残るため、基板成形後、基板外周部の切削を行な
い、外観を整える必要があった。この切削工程により、
光デイスク基板の作製工程数が多くなる他、削り取られ
た材料が飛び散り、ゴミとなって基板に再付着する等の
問題があった。また、基板外周部に余剰紫外線硬化樹脂
が硬化して残ると基板を取り出す際、スタンパとの剥離
が困難となり、基板外周部に割れやヒビが生じやすいと
いう問題があった。 本発明の目的は、外周部にパリが生し難い記録媒体基板
の作製方法及びこのような方法により作製された記録媒
体基板を用いた記録媒体の作製方法を提供することにあ
る。 【課題を解決するための手段】 − 上記目的は、（１）少なくとも１個のスタンパ上に、直
接又は他の材料を介して紫外線硬化樹脂を配置し、該紫
外線硬化樹脂に紫外線を照射して硬化させ、上記スタン
パの凹凸が転写された表面を有する記録媒体基板の作製
方法において、」１記紫外線の照射は、上記スタンパの
外周部近傍をマスクして行なうことを特徴とする記録媒
体基板の作製方法、（２）上記紫外線硬化樹脂が上記紫
外線により照射される面積を変化させるために、上記マ
スクを変えて該紫外線照射を行なうことを特徴とする上
記１記載の記録媒体基板の作製方法、（３）上記紫外線
の照射は、上記紫外線硬化樹脂に対して互いに逆の二方
向から行なうことを特徴とする上記１又は２記載の記録
媒体基板の作製方法、（４）少なくとも１個のスタンパ
上に、直接又は他の材料を介して紫外線硬化樹脂を配置
し。 該紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して硬化させ、上記ス
タンパの凹凸が転写された表面を有する記録媒体基板と
し、該基板の凹凸が転写された面に少なくとも記録膜を
形成する記録媒体の作製方法ニオいて、上記紫外線の照
射は、上記スタンパの外周部近傍をマスクして行なうこ
とを特徴とする記録媒体の作製方法、（５）上記紫外線
硬化樹脂が上記紫外線により照射される面積を変化させ
るために、上記マスクを変えて該紫外線照射を行なうこ
とを特徴とする上記４記載の記録媒体の作製方法、（６
）上記紫外線の照射は、上記紫外線硬化樹脂に対して互
いに逆の二方向から行なうことを特徴とする上記４又は
５に記載の記録媒体の作製方法によって達成される。 本発明において、スタンパに直接紫外線硬化樹脂を配置
して硬化させれば、硬化した紫外線硬化樹脂そのものの
表面にスタンパの凹凸が転写された基板が得られる。ま
た、スタンパに他の樹脂を付着させ、その上に紫外線硬
化樹脂を配置して硬化させれば、硬化した紫外線硬化樹
脂の上に他の樹脂の薄膜が形成され、その表面にスタン
パの凹凸が転写された基板が得られる。光ディスク等の
記録媒体は、記録膜と基板との間に、例えばニトロセル
ロース等の下地膜を有する場合が多く、このような記録
媒体基板を作製するときは、下地膜を形成する材料を、
上記の他の樹脂として予めスタンパに塗布して基板を作
成すればよい。 マスクとして、Ａα等の金属、又はアクリル、ガラス等
の材料の表面に紫外線吸収体あるいは紫外線反射体を付
着したもの等を用いる。 本発明においては、紫外線硬化樹脂の硬化による基板変
形を防ぐために両側からの紫外線照射を行なうことが好
ましい。 また本発明においては、紫外線硬化樹脂が紫外線により
照射される面積を変化させるために、上記マスクを変え
て紫外線照射を行なうことが好ましい。この−例として
、光デイスク基板を二段階照射により作製する例を用い
て説明する。最初に照射する時のマスクの直径は、照射
側からの紫外線で反対側のパリ部分が硬化するのを防ぐ
ために、作製する基板の直径よりも小さく設定する。こ
のためパリの部分だけでなく、基板の外周部も紫外線露
光量が少なくなるために、パリはなくなるが基板外周部
の硬度が低いという問題が出てくる。 そのため、ある程度硬化させた後に、マスク直径を硬化
上必要最小限のマスク径に交換して紫外線照射し、外周
部を完全に硬化させる。このときには基板外周部はすで
にある程度硬化された状態であるため、パリ部分への照
射は紫外線透過率の低い硬化済み紫外線硬化樹脂を通し
て行なわれることによりパリ部分は硬化しにくくなり、
問題となっていたパリの発生を防げる。また、従来行な
っていた基板外周の切削加工がほとんど不要になり、さ
らに剥離もスムーズになることから、剥離時にパリが原
因で発生していた基板外周部の割れやヒビを防ぐことが
できるので、高品質の光デイスク基板を効率よく作製す
ることができる。 本発明の光ディスクに用いられる記録膜は、どのような
材質のものでもよい。有機物からなる記録膜でも、無機
物からなる記録膜でもよい。このような例として、Ｔｅ
−８ｅ系、Ｔｅ−Ｃ系、Ｐｂ−Ｔｅ−８ｅ系、Ｔｅ−８
ｂ系等、また、前記した特開昭５７−３８１８９、特開
昭５７−６６９９６に記載のもの等ある。 ７

【作用］ 紫外線の照射は、スタンパの外周部近傍をマスクして行なうことにより、基板外周部にできるパリの発生を防ぐことができ、外周切削が殆ど不要の基板が得られる。 【実施例】

以下、本発明の一実施例を図面を用いて説明する。 実施例１ 第１図を用いて光デイスク基板の作製方法に説明する。 凹凸状の案内溝（図示せず）を形成したポリメチルメタ
アクリレート（ＰＭＭＡ）を基板とするスタンパ２と、
透明なＰＭＭＡの平坦板３との間に、まずアクリル系紫
外線硬化樹脂１を注入する。この時、スタンパ２と平坦
板３の間隔は、作製する光デイスク基板の厚みを例えば
１．２ｍｍとするならば、］、２ｍｍに紫外線硬化樹脂
収縮分の量を加えた幅とする。スタンパ２のパターン面
は内側になるように設置しである。外枠４は光デイスク
基板の外径を定めるものであり、その直径は、先のスタ
ンパ２と平坦板３の直径よりもわずかに太きく　（＋０
．０５〜＋０．１ｍｍ程度）設定することにより、紫外
線硬化樹脂が溢れ出るようにしている。この隙間は、溢
れだす紫外線硬化樹脂の逃げの役割を果たすと共に、紫
外線硬化樹脂の硬化にともなう収縮に対し、スタンパ２
の上下移動をスムーズに行うためのものである。 次に、内径７０ｍｍのマスク５を上側、下側の両方にセ
ットし、第１回目の照射としてランプ出力１２５　ｍＷ
／ｃ　ｍ”で約３０秒間基板の両面から紫外線６を照射
する。その後、マスク内径を７６ｍｍに変え、さらに９
０秒、前回と同様のランプ出力で照射し、紫外線硬化樹
脂１を完全に硬化させて取り出し光デイスク基板７を完
成する。 紫外線硬化樹脂は硬化前と硬化後では紫外線の透過率が
違うという性質をもち、第４図に示すように硬化前に比
べて硬化後の方が透過率が低い。 次に、二段階照射による基板外周部分の紫外線硬化樹脂
硬化状態について、第２図の基板作製の概念図を用いて
説明する。第２図（ａ）に示すように、紫外線６の第１
照射時のマスク直径（例えば７０ｍｍ）は、照射側から
の紫外線で反対側の余剰紫外線硬化樹脂部分（パリ部分
）１１が硬化するのを防ぐために、作製するディスクの
直径（８６ｍｍ）よりも小さく設定する。このため、パ
リの部分だけでなくその周辺部も紫外線が遮断されてい
るため、パリはなくなるが基板外周部の紫外線露光量が
少なく、内側の硬化部分８の外側に半硬化部分９、未硬
化部分１０が存在し、外周部の硬度が低いという問題が
出てくる。そのため、ある程度紫外線硬化樹脂を硬化さ
せた後に、第２図（ｂ）に示すように、マスク直径を硬
化上必要最小限のマスク径（例えば７６　ｍ　ｍ　）に
交換して紫外線照射し、完全に硬化させる。このときに
は、基板外周部はすでに硬化又は反硬化の状態であるた
め、パリ部分への照射は紫外線透過率の低い硬化部分８
と半硬化部分９を通して行われることから、パリ部分は
硬化しない。そのため、従来問題となっていたパリの発
生はない。 作製した光デイスク基板のパリを測定した結果を第３図
に示す。基板の外周部分にできた基板から垂直方向に伸
びたパリの高さを、円周４ケ所で測定した結果であり１
図の白部は表側の、魚卵は裏側のパリを示す。従来の平
均２５〜３０μｍに対し本発明によるものの平均は約２
〜３μｍと小さくすることができた。 実施例２ 光デイスク基板と記録膜との間に下地膜を有する光ディ
スクを作製する例を示す。下地膜となるニトロセルロー
スの溶液をスタンパ上に回転塗布し、乾燥する。以下実
施例１と同様に、ただスタンパと平坦板の間隔は前記の
間隔にさらに」二部下地膜の厚みを加えた量として、二
段階照射により、表面に凹凸状の案内溝を持つ下地膜を
有する基板を作製した。この基板上に、蒸着法によりＰ
ｂ５ＴｅａａＳｅ１ｓの組成の記録膜を３０ｎｍの厚さ
に形成し、さらに５ｉｎ２からなる保護膜を５０ｎｍの
厚みにスパッタで形成し、光ディスクを作製した。本実
施例においてもパリの発生はなかった。 １−

【発明の効果】

本発明によれば光デイスク基板の不要な部分が硬化しな
いために、外周部にできるパリがなくなり、次工程であ
る外周部の切削加工が不要となる。 さらには、基板作製後の剥離もスムーズになることから
、剥離時に発生していた基板外周部の割れを防ぐことが
でき、高品質の光デイスク基板、光ディスクを効率よく
作製することができた。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の光デイスク基板作製方法を示す工程
図、第２図は本発明の光デイスク基板作製方法を示す概
念図、第３図はディスクの外周にできたパリの高さを測
定した結果を示す図、第４図は紫外線硬化樹脂の硬化前
後における光透過率を示す図である。 ｌ・・・紫外線硬化樹脂　　２　・スタンパ３・・・平
坦板　　　　　　４・・・外枠５．５′・・・マスク　
　　６・・・紫外線７・・・光デイスク基板　　８・・
硬化済部分９・・・半硬化部分　　　　１０・・・未硬
化部分＝１２ １１・・・余剰紫外線硬化樹脂

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、少なくとも１個のスタンパ上に、直接又は他の材料
   を介して紫外線硬化樹脂を配置し、該紫外線硬化樹脂に
   紫外線を照射して硬化させ、上記スタンパの凹凸が転写
   された表面を有する記録媒体基板の作製方法において、
   上記紫外線の照射は、上記スタンパの外周部近傍をマス
   クして行なうことを特徴とする記録媒体基板の作製方法
   。 ２、上記紫外線硬化樹脂が上記紫外線により照射される
   面積を変化させるために、上記マスクを変えて該紫外線
   照射を行なうことを特徴とする請求項１記載の記録媒体
   基板の作製方法。 ３、上記紫外線の照射は、上記紫外線硬化樹脂に対して
   互いに逆の二方向から行なうことを特徴とする請求項１
   又は２記載の記録媒体基板の作製方法。 ４、少なくとも１個のスタンパ上に、直接又は他の材料
   を介して紫外線硬化樹脂を配置し、該紫外線硬化樹脂に
   紫外線を照射して硬化させ、上記スタンパの凹凸が転写
   された表面を有する記録媒体基板とし、該基板の凹凸が
   転写された面に少なくとも記録膜を形成する記録媒体の
   作製方法において、上記紫外線の照射は、上記スタンパ
   の外周部近傍をマスクして行なうことを特徴とする記録
   媒体の作製方法。 ５、上記紫外線硬化樹脂が上記紫外線により照射される
   面積を変化させるために、上記マスクを変えて該紫外線
   照射を行なうことを特徴とする請求項４記載の記録媒体
   の作製方法。 ６、上記紫外線の照射は、上記紫外線硬化樹脂に対して
   互いに逆の二方向から行なうことを特徴とする請求項４
   又は５に記載の記録媒体の作製方法。