JPS6275951A - 光メモリ素子用基板の作製方法 - Google Patents
光メモリ素子用基板の作製方法Info
- Publication number
- JPS6275951A JPS6275951A JP21569485A JP21569485A JPS6275951A JP S6275951 A JPS6275951 A JP S6275951A JP 21569485 A JP21569485 A JP 21569485A JP 21569485 A JP21569485 A JP 21569485A JP S6275951 A JPS6275951 A JP S6275951A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- curing
- stamper
- plate
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈発明の技術分野〉
本発明はレーザー光等の光により情報の記録・再生・消
去等を行う光メモリ素子用基板の作製方法に関するもの
である。
去等を行う光メモリ素子用基板の作製方法に関するもの
である。
〈発明の技術的背景とその問題点〉
近年、大容量、高密度、高速アクセス化の可能な記憶素
子への要望が高まる中で、光メモリ素子の研究開発が活
発に行なわれている。
子への要望が高まる中で、光メモリ素子の研究開発が活
発に行なわれている。
一般に、このような光メモリ素子には、レーザー光等の
光学的方法によシ形成される情報ピット又はレーザー案
内溝を持つ基板が用いられる。このような基板の１つに
、ガラス板又はアクリル樹脂等合成樹脂からなる板の上
に上記情報ピット又はレーザー案内溝が形成されている
合成樹脂層を設けたものがあり、一般には次の様な方法
で製造される。即ち、ガラス板又はアクリル樹脂等合成
樹脂からなる板の上に、光硬化性樹脂をスピナー法又は
浸漬法又はスプレー法等により塗布し、この光硬化性樹
脂の上に上記情報ピット又は案内溝が形成されたスタン
パ−を押しつけた後、光によシ上記光硬化性樹脂を硬化
させる事によシ上記の情報ピット又は案内溝が形成され
た合成樹脂層を持った基板を作成する方法である。
光学的方法によシ形成される情報ピット又はレーザー案
内溝を持つ基板が用いられる。このような基板の１つに
、ガラス板又はアクリル樹脂等合成樹脂からなる板の上
に上記情報ピット又はレーザー案内溝が形成されている
合成樹脂層を設けたものがあり、一般には次の様な方法
で製造される。即ち、ガラス板又はアクリル樹脂等合成
樹脂からなる板の上に、光硬化性樹脂をスピナー法又は
浸漬法又はスプレー法等により塗布し、この光硬化性樹
脂の上に上記情報ピット又は案内溝が形成されたスタン
パ−を押しつけた後、光によシ上記光硬化性樹脂を硬化
させる事によシ上記の情報ピット又は案内溝が形成され
た合成樹脂層を持った基板を作成する方法である。
しかし、この方法ではガラス板又はアクリル樹脂等合成
樹脂板との接着性が良い光硬化性樹脂を ・
１用いた場合、樹脂硬化後この光硬化性樹脂とスタンハ
ートの間の剥離性が悪く、その為スタンパ−を剥離した
後で硬化した樹脂層に欠陥が生じるという問題がある。
樹脂板との接着性が良い光硬化性樹脂を ・
１用いた場合、樹脂硬化後この光硬化性樹脂とスタンハ
ートの間の剥離性が悪く、その為スタンパ−を剥離した
後で硬化した樹脂層に欠陥が生じるという問題がある。
その為上記剥離性を改善するべくヌタンパー側に剥離剤
を塗布する方法も提案されているが、この方法では硬化
樹脂層表面に剥離剤が残シ、この硬化樹脂上にレーザー
に光学的変化を写材する反射層又は記録層等を形成する
場合に障害になるという問題があった。
を塗布する方法も提案されているが、この方法では硬化
樹脂層表面に剥離剤が残シ、この硬化樹脂上にレーザー
に光学的変化を写材する反射層又は記録層等を形成する
場合に障害になるという問題があった。
〈発明の目的及び構成〉
本発明は、上記の問題点を改善するためになされたもの
であり、ガラス板又はアクリル樹脂等合成樹脂板の上に
形成された光硬化性樹脂層とスタンパ−との間の剥離性
を向上させる良好な作成方法を提供することを目的とす
る。
であり、ガラス板又はアクリル樹脂等合成樹脂板の上に
形成された光硬化性樹脂層とスタンパ−との間の剥離性
を向上させる良好な作成方法を提供することを目的とす
る。
〈発明の実施例〉
以下、本発明に係る光メモリ素子用基板の作成方法の一
実施例について、図面を用いて詳細に説明する。
実施例について、図面を用いて詳細に説明する。
まず、第１図に示すようにガラス板又はアクリル樹脂等
合成樹脂板１の上に光硬化性樹脂２を数μｍから数十μ
ｍの厚みにヌピナー法又は浸漬法等により塗布する。こ
の板１の形は円板は一般的であるが円板に限るものでは
ない。尚、上記光硬化性樹脂２の塗布前にガラス板又は
アクＩＪ ／し樹脂等合成樹脂板１の表面を、光硬化性
樹脂との接着性を向上させるためシランカップリング剤
等により処理する事も効果的である。
合成樹脂板１の上に光硬化性樹脂２を数μｍから数十μ
ｍの厚みにヌピナー法又は浸漬法等により塗布する。こ
の板１の形は円板は一般的であるが円板に限るものでは
ない。尚、上記光硬化性樹脂２の塗布前にガラス板又は
アクＩＪ ／し樹脂等合成樹脂板１の表面を、光硬化性
樹脂との接着性を向上させるためシランカップリング剤
等により処理する事も効果的である。
次に、エネルギーの小さい紫外線等の光を第２図の１０
又は１０’の矢印方向から照射しくあるいはヒータによ
る加熱を行ない）、光硬化樹脂を予備硬化させる。この
場合、光硬化性樹脂の硬化反応がラジカル重合反応の場
合、空気中でこの操作を行う事は、空気中の酸素が樹脂
表面での硬化反応に対し抑制剤的な作用を及ぼし表面の
硬化が押えられるため効果的である。この予備硬化によ
り、ガラス板又はアクＩＪ ／し樹脂等合成樹脂板１付
近の樹脂２はある程度硬化が進み基板１と光硬化性樹脂
２との間の接着性も出現しているが、樹脂２の表面では
硬化不十分であり、ある程度の粘弾性を持つという状態
が出現する。
又は１０’の矢印方向から照射しくあるいはヒータによ
る加熱を行ない）、光硬化樹脂を予備硬化させる。この
場合、光硬化性樹脂の硬化反応がラジカル重合反応の場
合、空気中でこの操作を行う事は、空気中の酸素が樹脂
表面での硬化反応に対し抑制剤的な作用を及ぼし表面の
硬化が押えられるため効果的である。この予備硬化によ
り、ガラス板又はアクＩＪ ／し樹脂等合成樹脂板１付
近の樹脂２はある程度硬化が進み基板１と光硬化性樹脂
２との間の接着性も出現しているが、樹脂２の表面では
硬化不十分であり、ある程度の粘弾性を持つという状態
が出現する。
この状態において第３図に示すように樹脂２の表面に情
報ピット又は案内溝等が形成されているメタンパー３を
押しつけ、同図の矢印２０の方向から紫外線等の光を照
射し、樹脂２を完全に硬化させる。
報ピット又は案内溝等が形成されているメタンパー３を
押しつけ、同図の矢印２０の方向から紫外線等の光を照
射し、樹脂２を完全に硬化させる。
次にスタンパ−３を除去すれば第４図に示すように情報
ピット又は案内溝が形成された樹脂層２を持つ光メモリ
素子用基板を得る。光メモリ素子を形成するには、この
上に反射層又は記録層等を被覆すればよい。
ピット又は案内溝が形成された樹脂層２を持つ光メモリ
素子用基板を得る。光メモリ素子を形成するには、この
上に反射層又は記録層等を被覆すればよい。
〈発明の効果〉
以上の本発明によれば、光硬化性樹脂の予備硬化を行な
い、ある程度硬化している樹脂にスタンパ−を押しつけ
、その後樹脂を紫外線照射によって完全に硬化させる事
によシ、スタンパ−と樹脂の間の接着性を抑制すること
で、剥離性が非常に向上するものである。
い、ある程度硬化している樹脂にスタンパ−を押しつけ
、その後樹脂を紫外線照射によって完全に硬化させる事
によシ、スタンパ−と樹脂の間の接着性を抑制すること
で、剥離性が非常に向上するものである。
第１図乃至第４図は本発明に係る光メモリ素子用基板の
作製方法の一実施例を示す断面図である。 １・・・ガラス板又はアクＩＪ ／し樹脂等合成樹脂か
らなる板、 ２・・・光硬化性樹脂、 ３・・スタ
ンパ−１４・・・中心孔、 １０．１０’、 ２０・・
・紫外線等の光の照射方向を示す矢印。
作製方法の一実施例を示す断面図である。 １・・・ガラス板又はアクＩＪ ／し樹脂等合成樹脂か
らなる板、 ２・・・光硬化性樹脂、 ３・・スタ
ンパ−１４・・・中心孔、 １０．１０’、 ２０・・
・紫外線等の光の照射方向を示す矢印。
Claims (1)
- １、ガラス板又はアクリル樹脂等合成樹脂からなる板の
上に光硬化性樹脂を塗布し、該光硬化性樹脂を予備硬化
させた後、凸凹を形成したスタンパーを押しつけた状態
で、紫外線等の光により上記光硬化性樹脂を完全に硬化
させることを特徴とする光メモリ素子用基板の作製方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21569485A JPS6275951A (ja) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | 光メモリ素子用基板の作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21569485A JPS6275951A (ja) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | 光メモリ素子用基板の作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6275951A true JPS6275951A (ja) | 1987-04-07 |
Family
ID=16676606
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21569485A Pending JPS6275951A (ja) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | 光メモリ素子用基板の作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6275951A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01235628A (ja) * | 1988-03-16 | 1989-09-20 | Sekisui Seikei Kogyo Kk | 光ディスク用原板連続体及び光ディスクの製造方法 |
| US5090982A (en) * | 1987-12-03 | 1992-02-25 | Pilkington Plc | Method of producing a surface microstructure on glass |
| EP0668584B1 (fr) * | 1994-02-21 | 2002-07-03 | OTB Group B.V. | Procédé de fabrication d'un disque maítre ou d' un disque optique |
-
1985
- 1985-09-27 JP JP21569485A patent/JPS6275951A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5090982A (en) * | 1987-12-03 | 1992-02-25 | Pilkington Plc | Method of producing a surface microstructure on glass |
| JPH01235628A (ja) * | 1988-03-16 | 1989-09-20 | Sekisui Seikei Kogyo Kk | 光ディスク用原板連続体及び光ディスクの製造方法 |
| EP0668584B1 (fr) * | 1994-02-21 | 2002-07-03 | OTB Group B.V. | Procédé de fabrication d'un disque maítre ou d' un disque optique |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2221723C (en) | Optical card | |
| JPS6275951A (ja) | 光メモリ素子用基板の作製方法 | |
| JPS59114031A (ja) | 光デイスク用スタンパの作製方法 | |
| JPH064910A (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
| JP2531792B2 (ja) | 光記録媒体用基板の製造方法 | |
| JPH01236439A (ja) | 光学的記録媒体用基板の製造方法 | |
| JPH02128337A (ja) | 光学情報記録媒体用基板の製造方法 | |
| JP2995755B2 (ja) | スタンパの製造方法 | |
| JPS6218635A (ja) | 光記録媒体の複製方法 | |
| JPH05314545A (ja) | 光学情報記録媒体用基板の連続製造方法 | |
| JPH0326375A (ja) | 光学情報記録媒体用基板の連続製造方法及びそれに用いる装置 | |
| JP2632062B2 (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
| JP2001264557A (ja) | 光メモリ素子 | |
| JPH0449541A (ja) | 光情報記録媒体の製造方法 | |
| JPS60256946A (ja) | 円盤保護硬化被膜の形成方法 | |
| JPH0316720A (ja) | 光記録媒体用基板の製造方法 | |
| JPH01276442A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JPS63281239A (ja) | 情報記録原盤 | |
| JP2000251335A (ja) | 光情報記録媒体製造方法 | |
| JPS60151851A (ja) | 光デイスク基板の複製法 | |
| JP2995754B2 (ja) | スタンパの製造方法 | |
| JPH0469296A (ja) | 光カード基板の製造方法 | |
| JPH10307226A (ja) | 高分子光導波路の製造方法 | |
| JPS62287448A (ja) | 情報記録媒体の複製方法 | |
| JPH01291926A (ja) | ディスク成形装置 |