JPH0316720A - 光記録媒体用基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光記録媒体用の透明基板の製造方法に関する。

〔従来の技術〕

従来、各種情報の記録には、磁気テープ、磁気ディスク
等の磁気材料、各種半導体メモリー等が主として用いら
れてきた。この様な磁気メモリー半導体メモリーは情報
の書き込みおよび読みだしが容易に行なえるという利点
はあるが、反面、情報の内容を容易に改ざんされたり、
また高密度記録ができないという問題点があった。かか
る問題点を解決するために、多種多様の情報を効率良く
取り扱う手段として、光記録媒体による光学的情報記録
方法が提案され、そのための光学的情報記録担体、記録
再生方法、記録再生装置が提案されている。

かかる情報記録担体としての光記録媒体は、一般にレー
ザー光を用いて情報記録担体上の光記録層の一部を揮散
させるか、反射率の変化を生じさせるか、あるいは変形
を生じさせて、光学的な反射率や透過率の差によって情
報を記録し、あるいは再生を行なっている。この場合、
光記録層は情報を書き込み後、現像処理などの必要がな
く、「書いた後に直読する」ことのできる、いわゆるＤ
ＲＡＷ（ダイレクト　リード　アフター　ライト）媒体
であり、高密度記録が可能であり、また追加書き込みも
可能であることから、情報の記録・保存媒体として有効
である。

第４図は、従来の光記録媒体の模式的断面図である。同
第４図において、２ｌは透明基板、２２はトラック溝部
、２３は光記録層、２４はスペーサー・接着層、２５は
保護基板である。第４図において、情報の記録・再生は
透明基板２ｌおよびトラック溝部２２を通して光学的に
書き込みと読みだしを行なう。

この際、トラック溝部の微細な凹凸を利用してレーザー
光の位相差によりトラッキングを行なえる様にしてある
。

上記した様に、従来のビデオディスク、オーディオディ
スクなどでは、一般にあらかじめ凹凸形状を形成された
スタンパーを用いて、プレス法、射出成型法または紫外
線硬化樹脂法を用いて透明樹脂基板にスタンパーの凹凸
形状を転写している。

上記の方法は一般に枚葉工程であり、かつｌサイクルに
２０〜３０秒の時間を要して生産効率が悪いという問題
点があった。例えば、特開昭５６−８７２０３号公報、
同５６−８６７２１号公報、同５６−１２６Ｆ３２号公
報などのように、ロール形状のスタンパーまたは平形ス
タンパーを用いて透明樹脂シートに凹凸パターンを連続
で形成する方法も広く用いられている。上記先行技術で
は熱成型または紫外線硬化樹脂による成型を行なってい
る。ところが熱成型においては、加熱、押圧、冷却とい
うプロセスを行なっているために、成型性を良くしよう
とすると十分に加熱しなければならないために、戒型時
間が長く必要になってしまうという問題点がある。その
反対に成型時間を短くしようとすると、加熱不足、戊型
の戻りなどのために戊型性が著しく悪くなってしまう。

また、紫外線硬化樹脂を用いた成型では、従来技術では
片面のみに紫外線硬化樹脂層を形威するために、経時変
化や温湿度などで基板に反りが生じたりするという問題
点がある。

その問題点を解決するためにベー・スフィルムの両面に
紫外線硬化樹脂層を形威して、反りを防ぐことが行なわ
れている。しかしながら紫外線硬化樹脂を硬化させるた
めには空気を遮断しなければならないため、ベースフィ
ルムの両面を上手に空気を遮断しなければならないとい
う問題点も生じている。これらの問題点を解決するため
に、例えば特開昭５６−１２６１３２号公報では、その
両面に紫外線硬化樹脂層を形成したベースフィルムを、
スタンパーと保護フィルムで挟んでから紫外線を照射し
て樹脂を硬化させている。しかしながらこの方法では、
紫外線硬化樹脂を硬化させるために保護フイルムを塗布
した紫外線硬化樹脂上に空気が入らないように密着させ
て貼り付けて、硬化後にそのフイルムをきれいに剥がす
という難しい工程が必要になり、工程数が多くなってし
まうだけでなく、硬化した紫外線硬化樹脂が保護フィル
ム上に残ってしまい、その樹脂が塗布した紫外線硬化樹
脂の厚さを不均一にしたり、威型ムラを生じさせたりし
てしまうという問題点も生じている。

〔発明が解決しようとしている問題点〕本発明は上記問
題点に鑑みなされたものである。

即ち、本発明は反りの少ない光記録媒体用基板を成形ム
ラを生じさせることなく製造することができる光記録媒
体用基板の製造方法を提供することを目的としたもので
ある。

又本発明は、反りの少ない光記録媒体用基板を少ない工
程で容易に製造することを目的としたものである。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の光記録媒体用基板の製造方法は、凹凸ブリフォ
ーマットを有する光記録媒体用基板の製造方法であって
紫外線を透過するベースフィルムを供給する工程、該ベ
ースフィルムの両面に紫外線硬化樹脂を塗布する工程、
該紫外線硬化樹脂が塗布されたベースフィルムに両側か
らスタンパー及び圧胴を密着し該樹脂に凹凸パターンを
成形する工程、前記圧胴内に設置され未成形部へはその
紫外線が到達しないように構威されたチューブ状紫外線
ラップにより成形と同時に該樹脂を硬化せしめる工程、
前記圧胴及びスタンパーを該ベースフィルムから剥離す
る工程、及び該ベースフィルムに更に紫外線を照射して
樹脂を完全に硬化させる工程とからなる一連の工程とし
て行なうことを特徴とするものである。

即ち本発明に於では両面に紫外線硬化樹脂を塗布したベ
ースフィルムはスタンパーと紫外線ラップを内包した圧
胴に挟まれ、成形と同時に硬化されるため反りの少ない
光記録媒体用基板を得ることができる。

又、ベースフィルム上に塗布された紫外線硬化樹脂の硬
化の際に空気を遮断する保護フイルムの密着や剥離とい
った工程が不要となり、成形ムラ等のない光記録媒体用
基板を得ることができる。

以下、本発明を詳細に説明する。

第１図は本発明の光記録媒体用基板の製造方法の一実施
態様を示す断面図である。同第１図において、本発明の
光記録媒体用基板の製造方法は、まずベースフィルムｌ
が供給される。供給されたベースフィルムｌは紫外線硬
化樹脂が塗布される工程２で、両表面に均一な厚さで紫
外線硬化樹脂が塗布される。

この紫外線硬化樹脂が塗布されたベースフィルムｌを、
必要に応じて赤外線ラップ４を持つ加温装置で加温して
、紫外線硬化樹脂の粘度を下げで平滑化して均一な厚さ
とする。また必要ならば索外線ランブ８を持つプレキュ
アーエ程９で紫外線硬化樹脂を僅かに硬化させる。次い
で威型工程では、Ａの位置で該ベースフィルムの片側に
スタンパーを接触せしめて、いっしょに搬送する。同第
１図でＡまたはＢの位置で、紫外線ランブ８とシャッタ
ー７を内部に持つ圧胴６をベースフィルムｌのスタンパ
ーの片側の端に接触させて、紫外線硬化樹脂を硬化させ
ながら反対側の端まで該ベースフィルム上を転がりなが
ら、その両面の紫外線硬化樹脂を同時に硬化・成型させ
ていく。この時に片側の樹脂層にスタンパーの凹凸パタ
ーンを転写する。紫外線硬化樹脂が硬化した後で該圧胴
はベースフィルムから離れる。その後または同時にスタ
ンパーはベースフィルムから剥離される。第２図、第３
図に示すように、スタンパーと圧胴は元の位置に戻って
次の威型を行なう。威型された紫外線硬化樹脂は、その
後にポストキュアー工程ｌＯで完全に硬化される。

このような工程で作製された光記録媒体用基板は、その
後に光記録層形成工程１１，保護層形成工程ｌ２を経て
、形状加工工程１３でディスク、カード、コインなどの
所定の形状に加工される。

本発明におけるベースフィルム１の材料は、用いる紫外
線に対して透明性が高く、可撓性が高く、厚さムラが小
さく、紫外線硬化樹脂を塗布した時および紫外線を照射
した時に伸縮がきわめて小さく、硬化した紫外線硬化樹
脂が剥がれにくい材料であれば、いずれの樹脂材料でも
用いることができるが、例えば、ボリカーポネート、ボ
リスチレン、塩化ビニルなどを用いることができる。樹
脂の厚さはディスク、カードなどに必要とされる厚さよ
りも薄ければ、いずれの厚さでも用いることができる。

一般に薄い厚さの方が、各工程での取り扱いが簡単であ
るが、重ね合せまたは貼り合せが必要になる。好ましい
厚さは０．０　１〜１．２ｍｍである。

紫外線硬化樹脂層２の材料は均一な厚さに形成できて、
微細なパターンを精度良く転写できて、かつ、その微細
なパターンを形威した後に、そのパターンを維持できる
材料であれば、いずれの材料でも用いることができるが
、例えばアクリル系樹脂などの紫外線硬化性樹脂などを
用いることができる。樹脂層の形成の仕方は一般に樹脂
のコーティングに用いられている方法であればいずれの
方法でも用いることができるが、グラビアオフセットコ
ート、リバースコートが厚み精度良く形成できて好まし
い。可能であれば，、グラビアコート、ロールコートな
どによる方法を用いることもできる。また紫外線硬化樹
脂の厚さは一般に微細なパターンを精度良く転写できて
剥がれなどの生じない厚さであれば、特に制限されるこ
とはないが、１〜１００μｍが好ましい。必要に応じて
ブライマーや下引き層を設けること、ベースフィルムに
オゾン処理や化学処理を施してベースフィルムと紫外線
硬化樹脂との密着性を高めることも可能である。

紫外線硬化樹脂を塗布して均一な塗布面が得られること
が望ましいが、塗布された樹脂は微視的には平滑ではな
い。そのために加温して平滑化する。加熱する方法は、
一般的に用いられる方法であれば、いずれの方法でも用
いることが出来るが、例えば赤外線ラップを用いること
ができる。加温は５０℃で３〜５秒程行なえば十分に平
滑になる。このように形成された紫外線硬化樹脂層は粘
度が低くて流れ易かったり、威型時に空気を巻き込み易
かったりするために微量の紫外線を照射して成型に適す
る粘度に調整することも可能である。本発明では加温工
程、プレキュアー工程は必要に応じて用いれば良く、用
いる樹脂などの条件によっては不要となることもある。

本発明における紫外線ラップはいずれの工程でも必要に
応じて、集光用の凹面鏡または反射板、シャッターまた
はフィルターを用いることができる。

スタンパ−５は、一般にＣＤ（コンパクトディスク）な
どに用いられている製法で作成することができる。具体
的には、ガラス原盤にレジストを塗布して、パターンを
露光、現像してから、ニッケルをスパツターで或膜して
、電鋳して所定の厚さまでニッケルを析出させる。こう
して得られた第二原盤をファーザーとして、第三原盤（
マザー）および孫スタンパーを作威しても良い。その他
には原版を製作する方法を用いることもできる。具体的
にはクロムなどの金属層を形成してあるガラス板にレジ
ストを塗布して、パターンを露出、現像してから金属層
をエッチングなどによって一部除去して凹凸パターンを
形成する。

この原版から露光によって上記スタンパーを形威しても
良い。スタンパーの厚さは、ベースフィルムに密着させ
たスタンパ−５の上を、圧胴６を転がすのである程度の
剛性がある方が望ましい。用いられる範囲としては１０
０ｐｍ以上あれば良”く、より好ましい厚さは４００〜
５０００μｍである。また必要に応じて裏打ちしても良
い。

圧胴６は円筒形に加工できて、紫外線を透過する材料で
あれば、いずれの材料でも用いることができる。例えば
ガラスなどを用いることができる。圧胴６の径には制限
がないが、好ましい直径は１０〜１　０　０　０　ｍ　
ｍである。スタンバ−５と・紫外線硬化樹脂を形威した
ベースフィルムｌの上を圧胴６を転がせてスタンパーの
凹凸パターンを紫外線硬化樹脂上に転写しながら、同時
に紫外線硬化樹脂層を両面ともに硬化させる。圧胴６の
中には紫外線ラップ８とシャッター７が設けられている
。紫外線ラップは１〜５ｋＷのラップを必要に応じて１
〜５本用いれば良い。本発明ではベースフィルムの両面
に塗布された紫外線硬化樹脂を圧胴で加工・成型しなが
ら硬化させるために、シャッター７は未或型部への紫外
線の照射を防ぐような位置に設置しなければならない。

また紫外線ラップの光を、成型する部分に集中的に集光
するような位置に設置しなければならない。圧胴６とス
タンパーまたはベースフィルムｌは凹凸パターンが精度
良く転写できる圧力で接触するのが好ましい。圧力が低
いと凹凸パターンの転写性が悪くなり、圧力が高いと樹
脂がはみ出てしまう。このような問題のない範囲であれ
ば、いずれの圧力でも用いることができるが、好ましく
は０．０１　〜５０．０ｋｇ／ｃｒｄである。圧胴６と
ベースフィルムｌまたはスタンバ−５とベースフィルム
ｌの間に空気が入らないように押圧しながら威型と硬化
を同時に行なう。

この工程で紫外線硬化樹脂が完全に硬化しない場合には
必要に応じてポストキュアーエ程１０を行なう。具体的
にはｌ〜５ｋＷの紫外線ラップを必要に応じて１〜１０
本設置して紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を完全に硬
化させる。その後に光記録層または反射層を設けても良
い。本発明では有機染料を溶剤塗布する。塗布の方法は
紫外線硬化樹脂と同じ様な方法を用いることができる。

染料の膜厚は１０００人程度である。染料が乾燥してか
ら保護層を形成する。用いる保護層は一般的な光記録媒
体で用いられているものを用いれば良い。必要に応じて
エアーギャップ構造、密着構造のどちらでも用いること
ができる。保護層を形成する方法は樹脂のコーティング
、樹脂フイルムの接着または融着などを用いることがで
きる。光記録層、保護層を形成した光記録媒体用基板は
所定の形状に加工される。加工の方法は切、断刃を用い
たカッティング、打ち抜き、レーザー切断などを必要に
応じて最適な方法を選択できる。加工された光記録媒体
は検査、梱包される。

〔作用〕

本発明の光記録媒体用基板の製造方法は、連続的にパタ
ーンの形成された透明基板を製造する工程において、紫
外線を透過するベースフィルムを供給する工程、該ベー
スフィルムの両面に紫外線硬化樹脂を塗布する工程、必
要に応じて加温して該樹脂を平滑化する工程、必要に応
じて加温後に微量の紫外線を照射する工程、前記樹脂が
塗布されたベースフィルムの片側からスタンパーを密着
する工程、前記スタンパーと圧胴で該樹脂を塗布された
ベースフィルムを挟んで樹脂を成型する工程、前記圧胴
内に設置されて未威型部へはその紫外線が到達しないよ
うに構成されたチューブ状の紫外線ラップにより成型と
同時に該樹脂を硬化せしめる工程、圧胴を該ベースフィ
ルムから剥離する工程、スタンパーを該ベースフィルム
から剥離する工程、さらに該樹脂が塗布されたベースフ
ィルムに紫外線を照射して樹脂を完全に硬化させる工程
、とからなる一連の工程により・て、透明樹脂基板の両
面に紫外線硬化樹脂層を設けて、その片面に精度良く、
簡単な機構で凹凸パターンを転写することを特徴とする
光記録媒体用基板の製造方法を提供するものである。

〔実施例〕

以下、実施例を示し、本発明をさらに具体的に説明する
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない
。

［実施例１］ 第１図、第２図に示す様に、厚さ１　．　２　ｍ　ｍの
ポリカーポネート樹脂（バンライト２０２、帝人化成）
の両面に紫外線硬化樹脂（三菱レイヨン、ＭＲＡ５００
）を、それぞれ２０μｍの厚さにグラビアオフセットコ
ートした。赤外線ラップを用いて５０℃で３秒加温して
紫外線硬化樹脂を平滑化した。紫外線強度１　０　ｍ　
Ｗ　／　ｃ　ｒｄの弱い紫外線を０．３秒照射して紫外
線硬化樹脂の表面を硬化させた。ロール径２　０　０　
ｍ　ｍφのガラス製ロールを表面を研磨して鏡面にした
中に、１ｋＷの紫外線ラップ８（ウシオ電気）を１本入
れて、未成型部へは紫外線が照射されないようにアルミ
ニウムのシャッター７を設けた圧胴と、１．６４ｍピッ
チ、０．６　μｍ幅、深さ７００　Ａの連続溝が形成さ
れた、外形φ２　５　０　ｍ　ｍのニッケル製スタンパ
−５（セイコーエプソン製）を、φ２５０ｍｍ，２ｍｍ
厚のガラス板に張り合せて裏打ちしたものを用いて或型
した。第２図（ａ）〜（ｆ）で示されるように、まず圧
胴６の位置にスタンバ−５の先端付近が位置され、前記
紫外線硬化樹脂が塗布されたベースフィルムｌをスタン
パ−５と圧胴６に挟み込む。前記紫外線硬化樹脂が塗布
されたベースフィルム１がスタンパ−５と圧胴６とで押
圧されながらスタンパ−５の凹凸パターンを樹脂に転写
する。このときに圧胴６内の紫外線ラップで紫外線硬化
樹脂が硬化される。この時にスタンパ−５の凹凸パター
ンが転写される前には紫外線が照射されていない。

その後にガイドローラーｌ４、圧胴６、スタンバ−５が
、それぞれ矢印の方向に回転または移動する。

この時にベースフィルムｌ１ガイドローラー１４、圧胴
６、スタンパ−５の移動または回転速度が同期している
ことが必要である。スタンパ−５の反対側の端が圧胴６
に位置するまで移動して一枚のスタンパ−５の凹凸パタ
ーンを転写し終わる。この位置でガイドローラーを引き
上げて凹凸パターンが転写されたベースフィルムｌから
スタンパ−５を引き離す。スタンバ−５は元の位置に戻
って次の成型を行なえるようにする。その後で、５ｋＷ
の紫外線ランブ８（ウシオ電気）を用いて、紫外線強度
２００ｍ　Ｗ　／　ｃ　ｒｄの紫外線を３０秒間照射し
て紫外線硬化樹脂を完全に硬化させた。できた光記録媒
体用基板を測定してみると、スタンパーに形成されてい
たブリフォーマットパターンの転写率はＳＥＭ　（日立
製作所製ｓ−ｓｏｏ）で断面を観察したところ深さで９
７〜１００％であり、転写率のバラツキは小さかった。

基板表面の凹凸・面振れ量は三次元測定機（カールツア
イス社製）で測定したところｐ−ｐで５０μｍ以下で十
分小さかった。又、ローラー断面の真円度および偏芯２
０μｍ以下で十分小さかった（同上）。この基板を８　
６　ｍ　ｍφに切断して、下記構造式［Ｉ］で示される
、光，記録材料を溶剤塗布した。

［］ 保護基板には０．３ｍｍ厚のポリカーボネート（帝人化
成、パンライト２５ｌ）を８　６　ｍ　ｍφに切断して
、０　．　３　ｍ　ｍのエアーギャップを持つように接
着した。

記録・再生してみたところ、ディスクの回転数１８０Ｏ
ｒｐｍ，書き込み周波数３　Ｍ　Ｈ　ｚ　，書き込みパ
ワー６　ｍ　Ｗ　，読み出しパワー０　．　５　ｍ　Ｗ
で、Ｃ／Ｎ比で５３ｄＢであった。

［実施例２］ 第１図、第３図に示すように、実施例ｌと同じべ一スフ
イルムを用いて、実施例１と同じ方法で、同じ紫外線硬
化樹脂を同じ厚さに塗布した。実施例１と同じように加
温平滑化とプレキュアーを行なった。

実施例１と同じスタンパーとロール径１　０　０　ｍ　
ｍφのガラス製ロールを表面を研磨して鏡面にした中に
実施例ｌと同じ紫外線ラップとアルミニウムのシャッタ
ーを用いて、前記ベースフィルムを成型加工させた。具
体的には第３図（ａ）〜（ｊ）に示されるように、実施
例ｌと同じようにスタンパーの先端がベースフィルムに
接して、ベースフィルムとスタンパーが密着しながら矢
印の方向に移動する。スタンパーの反対側の端がガイド
ローラーの位置まで進んだら、圧胴がスタンパーの端の
位置でベースフィルムに密着する。その後で該圧胴がス
タンパーの反対側の端まで紫外線硬化樹脂を成型しなが
ら両面とも同時に硬化させる。成型が終わると該圧胴は
ベースフィルムから離れる。その後または同時にガイド
ローラーを引き上げて、スタンパーをベースフィルムか
ら引き剥がす。スタンパーおよび圧胴は元の位置に戻っ
て次の成型サイクルに入る。次に実施例ｌと同じ紫外線
ラップを置いてポストキュアーさせて、紫外線硬化樹脂
の未硬化分をなくした。できた光記録媒体用基板を測定
してみると、スタンパーに形成されていたプリフォーマ
ットパターンの転写率は、深さで９８〜１００％であり
、転写率のバラツキは小さかった。基板表面の凹凸・面
振れ量はｐ−ｐで４０μｍ以下で十分小さかった。ロー
ラー断面の真円度および偏芯２５μｍで十分小さかった
。この光ディスク基板を実施例ｌと同様に光記録層を形
成して記録・再生を行なったところＣ／Ｎ比で５３ｄＢ
であった。

［実施例３］ 押し出し成型機（日立造船、Ｓ｝ＩＴ９０−３２ＤＶＧ
）を用いて、ルーグー温度２５０℃、Ｔダイ温度２５０
℃、ローラー温度１２０℃の条件でポリカーボネート樹
脂（帝人化成、Ｋ−１２８５）を１．２ｍｍの厚さで、
２．３ｍ／分の速度で押し出した。この樹脂のベースフ
ィルムを用いて、実施例ｌと同じ方法で、同じ紫外線硬
化樹脂を同じ厚さに塗布した。実施例ｌと同じように加
温平滑化とプレキュアーを行なった。

実施例ｌと同じスタンパーとロールを用いて成型加工を
行なった。次に実施例ｌと同じ紫外線ラップを置いてポ
ストキュアーさせて、紫外線硬化樹脂の未硬化分をなく
した。できた光記録媒体用基板を測定してみると、スタ
ンパーに形成されていたプリフォーマットパターンの転
写率は、深さで９８〜１００％であり、転写率のバラツ
キは小さかった。基板表面の凹凸・面振れ量はｐ−ｐで
４０μｍ以下で十分小さかった。ローラー断面の真円度
および偏芯２５μｍ以下で十分小さかった。この光ディ
スク基板を実施例ｌと同様に光記録層を形成して記録・
再生を行なったところＣ／Ｎ比で５２ｄＢであった。

〔発明の効果〕

本発明によれば、簡単な機構で、両面に紫外線硬化樹脂
層を持った光記録媒体用基板を製造できるために、反り
が小さく威型ムラが少なく、パターンの転写性の良い光
記録媒体用基板を生産性良く製造できる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光記録媒体用基板の製造方法の概略断
面図である。 第２図は本発明の光記録媒体用基板の製造方法における
転写工程の断面図である。 第３図は本発明の光記録媒体用基板の製造方法における
転写工程の断面図である。 第４図は従来の光記録媒体の基板の連続製造法の概略図
である。 ｌ・・・・・・・・・・・・・ベースフィルム２・・・
・・・紫外線硬化樹脂塗布ユニット３・・・・・・・・
・・・・・加温度ユニット４・・・・・・・・・・・・
・・赤外線ランブ５・・・・・・・・・・・・・・・ス
タンパー６・・・・・・・・・・・・・・圧胴ユニット
７・・・・・・・・・・・・・・・　シャッター８・・
・・・・・・・・・・・紫外線ラップ９・・・・・・・
・・・プレキュアーユニット１０・・・・・・・・ポス
トキュアーユニット１１　・・・・・・・・・・光記録
層形成ユニットｌ２・・・・・・・・・・・保護層形成
ユニットｌ３・・・・・・・・・・・形状加工ユニット
ｌ４・・・・・・・・・・・・・ガイドローラー２１　
・・・・・・・・・・・・・・・・透明基板２２・・・
・・・・・・・・・・　トラック溝部２３・・・・・・
・・・・・・・・・光記録媒体スベーサー 保護基板

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）凹凸プリフオーマツトを有する光記録媒体用基板
   の製造方法であって紫外線を透過するベースフィルムを
   供給する工程、該ベースフィルムの両面に紫外線硬化樹
   脂を塗布する工程、該紫外線硬化樹脂が塗布されたベー
   スフィルムに両側からスタンパー及び圧胴を密着し該樹
   脂に凹凸パターンを成形する工程、前記圧胴内に設置さ
   れ未成形部へはその紫外線が到達しないように構成され
   たチューブ状紫外線ラップにより成形と同時に該樹脂を
   硬化せしめる工程、前記圧胴及びスタンパーを該ベース
   フィルムから剥離する工程、及び該ベースフィルムに更
   に紫外線を照射して樹脂を完全に硬化させる工程とを一
   連の工程として行なうことを特徴とする光記録媒体用基
   板の製造方法。
2. （２）前記ベースフィルム上に紫外線硬化樹脂を塗布し
   た後に該樹脂を加温して平滑化する工程を有する請求項
   （１）の光記録媒体用基板の製造方法。
3. （３）前記ベースフィルム上に紫外線硬化樹脂を塗布し
   た後に該樹脂に微量の紫外線を照射する工程を有する請
   求項（１）の光記録媒体用基板の製造方法。
4. （４）前記紫外線硬化樹脂が塗布、硬化されたベースフ
   ィルムの凹凸パターンの形成された側に有機染料からな
   る光記録剤を溶剤塗布して光記録層を形成することを特
   徴とする請求項（１）の光記録媒体用基板の製造方法。
5. （５）前記紫外線硬化樹脂層が形成され、光記録層が形
   成されたベースフィルムに保護層を形成して後に所定の
   形状に加工することを特徴とする請求項（１）の光記録
   媒体用基板の製造方法。