JPH0288205A - 光ディスク基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光ディスク用樹脂製ディスク基板の製造方法に
関する。

更に詳しくは、再生、保存又は消去可能なＥ−ＤＲＡＷ
型光ディスクに使用する樹脂製ディスク基板（以下、単
にディスク基板という）の製造方法に関するものである
。

〔従来技術及び問題点〕

従来ディスク基板はポリカーゼネート、ポリメチルメタ
クリレート等熱可塑性樹脂やエポキシビニルエステル系
の熱硬化性樹脂を材料とするものが公知である。

上記ディスク基板を製造する方法として下記（イ）。

（ロ）、（ハ）がよく知られている。

（イ）情報パターン付メタン・ぐを取り付けた金型内に
熱可里性樹脂を射出成形する方法。

（ロ）　ガラスやグラスチック製の無機、有機材質であ
る透明性円板の基板に２Ｐ法により、情報パターンを付
ける方法。

（ハ）［４！ａ　ハターン付スタンパと活性エネルギー
線透過性平板との間に活性エネルギー線硬化性樹脂を注
入し、活性エネルギー線透過性平板側から活性エネルギ
ー線を照射し、該樹脂を硬化せしめた後、上記スタツフ
９と活性エネルギー線透過性平板とから離散させる注型
成形する方法。

上記０うの方法においては、光ディスクの物性として要
求される耐熱性、複屈折、低吸水率等の点で、エポキシ
ビニルエステル系樹脂がディスク基板として物性、信頼
性がよい為多く使用されている。

しかしながら、上記エポキシビニルエステル系樹脂によ
りディスク基板を製造する場合、該樹脂特有の強接着性
のために、透明性平板やスタン・譬特に透明性平板との
剥離性が悪い。これを解決するためシリコン系の内部離
型剤を該樹脂に数重量パーセント添加することが従来よ
シ行なわれている。

又、活性エネルギー線透過性平板の表面をＭｇＦ２゜Ｃ
ａ　Ｆ　２等を蒸着やス・・々ツタ法で処理したり、シ
リコン系の薄膜を塗布する、いわゆる外部離型剤処理を
する方法も行なわれている。更には上記内部離型剤、外
部離型剤を併用する方法も行なわれている。

しかしながら、前記内部離型剤を用いる方法では、硬化
した樹脂の表面に離型剤が浮き出る、いわゆるブリード
現象をおこすため、品質上好ましくない結果を招いてい
る。

又、外部離型剤を用いる方法では、ディスク基板に該離
型剤が付着するため、グループ形状やディスク基板の表
面粗度に著しい悪影響を及ぼす欠点がある。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明が解決すべき課題は、活性エネルギー線硬化性樹
脂に一切の内部離型剤を添加することなしに、又−切の
外部離型剤を用いることなく、接着性大の活性エネルギ
ー線硬化性樹脂を透明平板から容易に離型せしめるディ
スクの基板の成型方法を提供することだある。

〔課題を解決するための手段〕

上記課題を解決するための本発明は、活性エネルギー線
透過性平板として、イオン置換法による化学強化を施し
た、又は施さない熱膨張係数が３０　Ｘ　１０−’／℃
（０〜３００℃において）以上のガラス板、好ましくは
ソーダライムガラス、硼珪酸ガラス、アルミノ珪酸ガラ
ス等を用いることに特徴を有する。

本発明は、活性エネルギー線透過性平板として、熱膨張
係数の大きいガラス平板を使用することにより。

成型時の金型温度、ガラス平板の温度及び成型したディ
スク基板の温度から離型時の金型温度、ガラス平板温度
、ディスク基板温度の夫々の低下にともなって、ガラス
平板及びディスク基板のわずかの収縮歪を利用すること
Ｋより、内部離型剤、外部離型剤等を使用することなく
、簡単に離型することのできる元ディスク基板の製造方
法、である。

第１図乃至第３図７でよって本発明の詳細な説明する。

第１図は本発明を実施する比めの金型（１）、スタン／
や（２）、熱膨張係数が１Ｘ１ｏ　　７℃位のエポキシ
ビニルエステルｙｔＢ旨枳基板（３）、Ｍ膨張係数がＯ
℃〜３００℃〈おいて３０．Ｘ１０　　／℃以上の活性
エネルギー線透過性平板であるガラス平板（４）、樹脂
漏れ防止用０リング（５）等を示す部分＠面図である。

第１図の状態は樹脂が注入され終った直後の状態とする
。この場合、樹脂の注型温度は８０℃位であり、−刃金
型（１）及びガラス平板（４）は注入されｆｃ樹脂が急
に冷却され、流動性の低下による不完全充填、ニヤリき
込み等による不良品発生防止のため注入樹脂温度近くに
慌調されている。

第２図は、第１図の状蝶から、金型（１）、ガラス平板
（４）、更にはディスク基板（３）の夫夫が自然冷却又
は強制冷却により温度が低下、例えば８０℃から４０℃
位に低下したときの状態を誇張して示した図である。す
なわち、ガラス平板（４）はその上側（図で）がより早
く冷却されるため、上側部分がより大きな収縮を生起す
る結果上側に反って、わずかのすき間（６）を生ずるか
、或いは反ろうとする内部応力を生じる。又、ディスク
基板（３）は金属性スタン−”（２）、金型（１）側が
より早く冷却されるため、そちら側へ反って、わずかの
すき間（７）を生ずるか、或いは反ろうとする内部応力
を生ずる。

従って、第２図に示す機械的手段（８）によりわずかの
キラカケとなる外力を与えれば、ガラス平板（４）とデ
ィスク基板（３）とは容易だ離型される。

なお、金属製スタンパ−（２）とディスク基板（３）と
の離型は比較的容易で特に問題となることはない。

次に第３図により本願出願における他の発明、すなわち
、熱膨張係数が犬きく、かつイオン置換法により化学強
化処理を施し比活性エネルギー線透過性がラス平板（１
０）を用いた場合について以下述べる。この発明におけ
る化学強化とは、従来より硝子メーカーで一般的に行な
われているガラス板の機械的強度を上げるための方法で
あって、ガラス中のＮａ＋をより大きなイオンであるに
＋に置換する方法である。このようにして機械的強度が
大きくされたガラス板は、本発明におけるガラス平板（
１０）を元ディスク基板（３）を離型する際に加えられ
る外力に対して充分耐え得る強度を保持する為に好適で
ある。

本発明における化学強化は上記効果ばかりでなく、化学
強化されたガラス平板（１０）の表面層部分の分子間距
離が大となり該部分が樹脂は入らないがエヤは入る一種
のエヤマット層（１１）となり、第３図矢印で示す温虱
（１２）をガラス平板（１０）と光ディスクａｍ（３）
の間に向けて吹くことにより前記第２図の説明で述べた
収縮による剥離効果をそこなうことなく、よりその効果
を助長し両者の剥離、＃型を極めて容易にすることがで
きる。

本発明において、使用する熱膨張係数の大きい活性エネ
ルギー線透過性のガラス平板としては、ソーダライムガ
ラス板、硼珪酸ガラス、アルミノ珪散ガラス等を使用す
ることができる。

又、活性エネルギー線硬化性樹脂としては前記したエポ
キシビニルエステル樹脂の他、不飽和ポリエステル、ポ
リメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）等のアクリル基
を持つ樹脂等を使用することが出来る・ 〔実施例〕 （実施例１） 情報パターン付スタン／４を取シ付けた注型金型と、熱
膨張係数が３０　Ｘ　１０−’／℃よシ大きい通称・中
イレックスガラス（硼珪酸ガラス）を用いたガラス平板
との間にビニルエステル系樹脂（５）を注入し良後、上
記ガラス平板を通して波長が３６５　ｎｍの紫外線金該
樹脂に対して２分間照射し硬化させ、しかる後離型試験
を行なった。同様にしてビニルエステル系樹脂（Ｂ）及
び不飽和ポリエステル系樹脂を使用して同様な離型試験
を行なった。

離型は特に障害なく行なわれたが、ビニルエステル系樹
脂の場合には機械的手段によりキラカケとなる外力を多
少与えるとより好ましい剥離が得られた。その結果を表
−１に示した。

（比較例１） 実施例−１と同じ注型成形法において、ガラス平板とし
て、波長が３６５　ｎｍの紫外線を９３％以上透過する
従来より用いられている合成石英ガラスを用い、当該紫
外縁を２分間照射して叫脂５ｒ：硬化した後、離型試験
を行ない、その結果を表−１に示す。

その結果、ビニルエステル系の樹脂に対する剥離は内部
離型剤の添加、或いはＭｇＦ２等の外部離型剤処理をガ
ラスに施さないと剥離困難で、ガラス平板の破損がみら
れた。

（実施例−２） 実施例１と同様の注型成形方法にＰいて、ガラス平板に
通常の急冷強化を施した・９イレツクスガラスを用いて
離型試験を行なった。結果を表−１に示す。

ここに於ける急冷強化とは、ガラス転移点（Ｔｇ）以上
の温度に保持されているガラスを急冷し、圧縮応力層を
深くし、ガラスの機械的強度を上げる一般的に使用され
ている方法である。

（実施例３） 実施例１と同様の注型成形方法に於いて、活性エネルギ
ー線透過性平板に化学強化を施した・ぐイレックスガラ
スを用いて離型確認を行なったところ、第１表に示す通
り、実施したすべての樹脂に一切の内部離型剤や一切の
外部離型剤処理を施こす事なく、又、機械的キラカケを
与える事なく良好な剥離結果を示した。

ノ ／ ／ ／ ／ ／ ／ ／ 表中 肴１：ノはラックフェノールタイプビニルエステル大日
本インキ化学工業製 デイックライト■ｕｇ−ｓ２１゜ 簀２：ビスフェノールＡＷビニルエステル大日本インキ
化学工業製 デイックライト■ＵＩＩＥ−３５０５ 脣３：ビスフェノール型子飽和ポリエステル大日本イン
キ化学工業製 ポリライト■ＦＧ−３８７ ×：　剥離困難で、ガラス平板の破損しばしば有りΔ：
　一応剥離はするが機械的キラカケが必要○：　剥離性
良し、ごくまれにキラカケ必要◎：剥離性極めて良好

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を実施するための構成を説明する部分断
面図、第２図は樹脂注入後、金型等の温度を冷却したと
きの状態を誇張して示した図、第３図はガラス平板をイ
オン置換法により化学強化処理した場合の状態を誇張し
て示した図。 １・・・金型、２・・・スタ ４・・・ガラス平板

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、活性エネルギー線硬化性樹脂を活性エネルギー透過
   性平板とスタンパ付注型金型の間に注入し、活性エネル
   ギー線を照射し上記樹脂を硬化して光ディスク基板を製
   造する方法において、前記活性エネルギー線透過性平板
   として、０〜３００℃における熱膨張係数が３０×１０
   ＾−＾７／℃以上であるガラス板を使用することを特徴
   とする光ディスク基板の製造方法。 ２、ガラス板がソーダライムガラス板、硼珪酸ガラス板
   、アルミノ珪酸ガラス板のいずれかであることを特徴と
   する特許請求の範囲第１項に記載の光ディスク基板の製
   造方法。 ３、活性エネルギー線硬化性樹脂を活性エネルギー透過
   性平板とスタンパ付注型金型の間に注入し、活性エネル
   ギー線を照射し上記樹脂を硬化して光ディスクの基板を
   製造する方法において、前記活性エネルギー線透過性平
   板として、０〜３００℃における熱膨張係数が３０×１
   ０＾−＾７／℃以上であり、かつイオン置換法により化
   学強化処理したガラス板を使用することを特徴とする光
   ディスク基板の製造方法。