JPS62125551A - 光学的記録担体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は光ビームにより記録、再生を行なうことか可能
な光学的記録媒体に用いる、２　Ｐ　（Ｐｈｏｔｏ−ｐ
ｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）法と呼ばれる方法によっ
て製造される光学的記録担体に関する。

〔従来の技術〕

従来より、光学的記録媒体の基板材料としては、ガラス
、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等が用いられて
いる。光学的記録媒体に、高田贋な記録をするためには
、その基板上に光学的案内溝を形成する必要があり、そ
の方法として従来から２通つの方法が知られでいる。そ
の一つの方法は、案内溝の形状に対応する凹凸が刻設さ
れた金型を用いて射出成形することにより、基板の成形
と同時に案内溝を転写する方法である。

もう一つの方法は、ます、案内溝の形状に対応する凹凸
が刻設された型の上１こ紫タト線硬化型樹脂等を１布し
、更に、この樹脂上に基板を弐百し、次いで、紫外線等
を照射することにより、Ｐ４脂を硬化させると共に、こ
の樹脂を基板に固着させて凹凸状の案内溝を有する硬化
型の樹脂層（以下、２Ｐ層という）を形成する２Ｐ法と
呼ばれる方法である。

前者の方法は量産注に優れているが、案内溝形状の転写
性が悪いという欠点かある上に、使用する基板材料とし
てプラスチック、例えば、アクリル樹脂やポリカーボネ
ート樹脂しか使えない点に問題がある。即ち、プラスチ
ック基板を用いた記録媒体では、プラスチック基板の通
気°注の為に、水分や酸素等によって記録層が腐食され
、その記録特性が徐々に劣化する。従って、基板材料と
しでプラスチックしか使用できないこの方法を採用する
と、長期間記録特性を維持可能な記録媒体を製造できな
いという問題か主しる。

一方、後者の方法は、案内溝形状の転写性が良く、基板
材料とじでプラスチック以外にもガラスを使用できるの
で、この方法によって案内溝を設けたガラス基板を使用
すれば、長期間高い信頼′注１８：惟持てきる記録媒体
か製造できる。

〔発明が解決しようとする問題点３ ２９層上に保護層や記録層を成膜するには一般には、蒸
着法、スパッタリング法が利用される。

その成膜の際に、基板と２Ｐ層とから成る記録担体は温
度か上昇してしまい、それに伴って該２Ｐ層か軟化し、
成膜されつつある、または成膜直後の保護層等の応力（
内部に歪を残した状態で成膜された膜が、その歪を解消
しようとして発生する力）に抗しきれず、そこにシワや
クラックが発生する場合かあった。特に応力の発生の大
きい無機化合物１例えばＳｉＣ、Ｃｒを、保護層等の材
料に用いるとこの現象が顕著であった。

また、保護層等の成膜時に基板の温度を上昇させない様
に制御でき、２Ｐ層のシワやウラツウの発生を防止でき
たとしでも長期間経過すると２Ｐ層のシワやクラックか
発生しでしまうことかあった。本発明者は、２Ｐ層のシ
ワ、ウラツウの発生現象についで鋭意研究したところ、
２Ｐ層の材料樹脂の二次転移温度（Ｔｇ）の制御により
、それらの発生量を調整することかできることを見い出
し、本発明を完成した。

本発明の目的は前記欠陥を生することのない光学的記録
担体を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的達成可能な本発明の光学的記録担体は、基板上
に凹凸ををする硬化型の樹脂層か設けられで成る光学的
記録担体において、該樹脂の二次転移温度（■９）か１
００℃以上であることを特徴とする。

上記本発明により、シワ、クラックの発生を満足すべき
程度に抑制できる。その理由は、■本発明における２Ｐ
層は保護層、記録層等の成膜時にも十分基板の温度上昇
に耐えられ、■長期間経過後に２Ｐ層にシワ、クラック
を発生させる原因と２Ｐ層のＴ９との門にも相閏関係が
あつ、それらの発生を抑制できる最低の限界値が１００
℃付近であることによるものと考えられる。

本発明の光学的記録担体は、成膜時の応力発生か大きい
無機化合物から成る保護層や記録層を有する光磁気記録
媒体用のものとして特に有用である。

なお、基板材料としでは、通気姓がなく、耐熱性の高い
ガラスが好ましいけれども、基板自体は２Ｐ層に比べて
厚く変形しにくいので公知のプラスチック材料、例え（
よポリカーボネートやアクリル樹脂等も使用できる。

次に、本発明の光学的記録担体の代表的な製造法を第１
．第２図を参照しつつ説明する。

ます、凹凸を表面に有する原盤１（一般に、スタンバ−
と呼ばれる）上に硬化型樹脂２を塗布し、その上に基板
３を代言した後に、適当な波長の光を基板３上から照射
する（第１図）。この工程により凹凸を有する硬化型の
樹脂層２ａか基板３に固着し、光学的記録担体か作成さ
れる。次いで、該担体を、原盤１から剥離する（第２図
）。

上記工程により作成された光学的記録担体を用いて光学
的媒体とするに（よ例えば、第３図のように、保護層４
．記録層５及び保護層６を積層し、然る後、第４図のよ
うに接着層７を介して基板８を接着することにより行な
う。

〔発明の効果〕

以上、説明した本発明の光学的記録担体によって、２Ｐ
層上へ保護層等を成膜する際に、その２Ｐ層に発生する
シワ、クラック及び長期間経過後に２Ｐ層に発生するシ
ワ、クラックを共に大幅に減少させることが可能となっ
た。その結果、この担体を用いで製造した記録媒体は、
長期間記録エラーが発生せすしかも記録感度の低下のな
い優れたちのヒなった。

〔実施例〕

実施例］ 日本化薬製にＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ（ジベンタエリス
リトールヘキサアク１ル−トとジベンタニリスリｉ−−
ルモノヒドロキシベンタアクリレートのｊ昆合物）２５
重量％と大阪有機化学工業製ＰＥＴＡ　（ベンタエリス
ワトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテト
ラアクリレートの混合物）２５重量％１日本化薬製ＫＡ
ＹＡＲＡＤ　ＨＤＤＡ　（ヘキサンジオールシアクワレ
ート）３７重量％、新中村化学工業のＥＡ−８００（エ
ポキシアクリレート）を８重量％、光重合開始剤として
メルク社製ダルキュア＋１７３（２−ヒドロキシ−２−
メチル−プロピオフェノオン）５重量％を混合した樹脂
を用いて２Ｐ成形を行ない、ガラス基板上に２Ｐ層を形
成し、本発明に係る光学的記録担体を形成した。その上
に、真空蒸着法により１２００人のＳｉＯの保護層を成
膜し、更に、スパッタリング法により層厚１０００人の
非晶質ＧｄＴｂＦｅＣｏの磁気記録層を成膜した。次に
前記の保護層と同様にしで層厚２０００人の３１０の保
護層を成膜した。

次に、ホットメルト系接着剤からなる接着層を介して別
のガラス製の基板を貼り合せで光学的記録媒体を作成し
た。この光学的記録媒体を４５℃１相対湿度９５％の条
件に＋０００ｈ故百する耐久テストを行ない、２Ｐ層の
変化（シワ、ウラツク）を顕微鏡で観察した。その結果
を表２に示す。

また、２Ｐ層のＴ９も表２に示す。

実施例２〜３ 表１に示した２Ｐ層材′＃＋を用いた以外は実施例１と
同様にして各光学的記録担体を作成した。これを用いて
実施例１と同様に光学的記録媒体を作成して耐久テスト
を行ない、２Ｐ層を顕微鏡で観察した。各２Ｐ層の１９
と共に、結果を表２に示す。

比較例１〜３ 表１に示した２Ｐ層材料を用いた以外は実施例１と同様
にして各光学的記録担体を作製した。これを用いて実施
例１と同様に光学的記録媒体を作製し耐久テストを行な
い、２Ｐ層を顕微鏡で観察した。各２Ｐ層のＴ９と結果
を表２に示す。

表２

【図面の簡単な説明】

舅１．第２図は本発明の光学的記録担体の製造法の代表
例を示す図、第３図、４図は光学的媒体の製造法を示す
図である。 １．８・・・・・・原盤、　　　　　２・・・・・・硬
化型樹脂。 ３・・−・・・・・・基板、　　　　　５・・・・−・
記録層。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １）基板上に凹凸を有する硬化型の樹脂層が設けられて
   成る光学的記録担体において、該樹脂の二次転移温度（
   Ｔｇ）が１００℃以上であることを特徴とする光学的記
   録担体。