JPS6215254A - 光デイスク記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、光を用いて音声１画像、情報などを記録、再
生する光ディスク記録媒体に関するものである。

〔発明の背景〕

光ディスク記録媒体は、第１図に例示するように、厚さ
約１■の透明基板の表面に溝２などの微細パターンを設
け、更に記録膜３を形成して成り立っている。記録膜付
き透明基板は、第２図に例示するように、記録膜付着面
を向い合わせにして２枚の基板をスペーサ４を介して貼
り合わせて光ディスク記録媒体とする。また、スペーサ
を介さないで２枚の基板を接着剤などで直接貼り合わせ
ることも行なわれている。

透明基板の材質は、ガラス、アクリル樹脂。

ポリカーボネート樹脂、熱硬化性樹脂などが使用されて
いる。ガラス基板は、取扱いの不注意やディスクの高速
回転において破損したり、重いなどの問題がある。また
、アクリル樹脂は耐熱性が劣ったり、吸湿による膨潤の
ためにディスクに反シが発生したり、吸湿水分が前記の
記録膜を劣化させる傾向がある。ポリカーボネート樹脂
は、射出成形時に分子鎖の配向や残留応力などに起因す
る複屈折を生じ易い問題点がある。さらに、熱硬化性樹
脂として、例えば、エポキシ樹脂などが提案（特開昭５
９−２２２４８　）されているが、硬化時および使用時
に着色し、透明性がそこなわれる問題がある。

光ディスク用基板は、情報の記録・再生時に用いるレー
ザ光線を透過させなければならない。

その他に、基板表面に溝やピットを形成する際に光硬化
性樹脂を使用する工程などを加えたとき、該光硬化性樹
脂を硬化するに必要な紫外光を透過しなければならない
。

従来のエポキシ樹脂においては、紫外域から赤外域に至
る波長の光を高レベルで透過することが難しかった。ま
た、エポキシ樹脂に脱色剤などを加えて光透過性を向上
すると、熱変形温度が低下して、基板が低温度で反シを
生じることがあった。また、添加した脱色剤がエポキシ
樹脂の吸湿性を増大させ、反りの原因となるこ。

ともあった。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、透明基板の破損１反り、複屈折の問題
がなく、かつ、透明性に優れる光ディスク用基板を提供
するにある。

〔発明の概要〕

本発明は、透明基板とその表面に形成された記録膜とを
有する光ディスク記録媒体において透明基板がエポキシ
樹脂、硬化剤及び一般式％式％（１） （ただし、式中、Ｘはハロゲン、アリルオキシ基又はア
ルキルオキシ基を表わし、Ｂ１−Ｒ８は水素、ハロゲン
、又は炭素数１〜１ｏの１価脂肪族もしくは芳香族置換
基であシ、Ｒ１−Ｒ８は同一でも異なっても良い） で示される有機リン化合物を含む組成物を加熱成形した
ものであることを特徴とする光ディスク記録媒体である
。

エポキシ樹脂硬化物の着色は、エポキシ樹脂。

硬化剤、硬化促進剤にそれぞれ微量に含まれる不飽和結
合を有する不純物の存在や、第３級アミン化合物の熱酸
化によシ発色団が生成するためと推定される。これらの
着色物質の生成を防止したり、着色物質を脱色する方法
を検討し、光ディスク用透明基板を得るには、上記の一
般式（１）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）の有機リン化合物が
有用なことを見い出した。該有機リン化合物を添加した
エポキシ樹脂硬化物は、透明性を増すばかりでなく、耐
熱性や耐湿性の低下がなく、金属薄膜などから成る記録
膜に接しても記録膜を劣化させない。

これら有機リン化合物は、エポキシ樹脂、硬化剤及び硬
化促進剤の合計量１００重量部に対して１〜１０重量部
添加するのが望ましい。有機リン化合物の添加量が１重
量部以下になると、所期の効果が十分でなく、１０重量
部以上になるとエポキシ硬化物の耐熱性が低下したり、
機械的強度が低下したシする。

本発明で使用するエポキシ樹脂は、分子中に１個以上の
エポキシ基を有し、通常のエポキシ用硬化剤により硬化
反応を起すものならば特に限定はないが、例えば、常温
で液状の次のものが有用である。

ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノー
ルＦジグリシジルエーテル、水素添化ビスフェノールＡ
ジグリシジルエーテル、 水素添加ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、 フタル酸ジグリシジルエステル、 ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒ
ドロフタル酸ジグリシジルエステル、３．４−エポキシ
シクロヘキシルメチル−３，４−エボキシシクロヘキサ
ンカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキサイ
ド、 ビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジヘ−）、
２−（３，４−エポキシシクロへキシル−５，５−スピ
ロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキ
サン等である。

本発明で使用する硬化剤としては、エポキシ樹脂と反応
を起し、硬化物を得るものならば特に限定はないが、通
常の硬化剤であるアミン類。

多塩基性カルボン酸無水物類が有用である。これらは同
類に属するもの同志を一種もしくは２種以上混合して使
用する。

アミン類としては、例えば、テトラエチレンペンタアミ
ン、ジアミノジフェニルメタン、２−エチル−４−メチ
ルイミダゾール等がある。

多塩基性カルボン酸無水物類としては、無水フタル酸、
無水へキサヒドロフタル酸、無水メチルへキサヒドロフ
タル酸、無水３．６エンドメチレンテトラヒドロフタル
酸、無水コノ１り酸。

無水アジピン酸、無水マレイン酸、無水アゼライン酸、
無水セパチン酸等がある。

多塩基性カルボン酸無水物類を硬化剤とするときの硬化
促進剤としては、例えば、３級アミンおよびその塩、４
級アンモニウム化合物、アルカリ金属アルコラード等が
あり、これらのうち、例えば次のものが特に有用である
。

ベンジルジメチルアミン、 ２−エチル−４−メチルイミダゾール、２、ａ、６−）
リス（ジメチルアミンメチル）フェノール、 トリアミルアンモニウムフェノラート、ナトリームヘキ
サントリオラード、 １．８−ジアザ−ビシクロ（５，４，０）ウンデセン−
７（ＤＢＩＪ）、ＤＢＵの有機酸塩、１．４−ジアザビ
シクロ（２ｊ２．２　）オクタン等である。

エポキシ樹脂硬化物を得るには、前記のエポキシ樹脂、
硬化剤、硬化促進剤、リン化合物を混合し、これを注型
・加熱硬化する。この方法で得られるエポキシ樹脂硬化
物は、硬化過程で分子配向を誘起する要因がないため、
光学的歪を小くすることができる。

〔発明の実施例〕

以下、本発明を実施例によシ詳述する。

実施例１ 離型剤を塗布した２枚のガラス板の間に厚さ１■の空間
をもうけ、樹脂注入用型を形成した。

この型の中に、表土段に示すような組成の液状樹脂を注
入し、１２０℃３時間加熱して該樹脂を硬化させ、透明
基板を得た。この透明基板の特性を表子段に示す。この
糧の透明基板は、記録膜形成工程やディスク加工工程な
どおよび実使用時の熱ストレスによって変形してはなら
ない。

そのため、ガラス転移温度は１２０℃以上であることが
望ましい。また、この透明基板上に光硬化性樹脂を使い
、微細な溝状パターンを形成する際、光硬化性樹脂の硬
化を円滑にするために透明基板は紫外線（波長：　３６
５ｎｍ　）を８０チ以上透過することが望ましい。また
、情報の書込み・読出しを円滑にするために赤外線（波
長二８３０ｎｍ）を９０％以上透過する必要がある。

比較例の組成Ａ１〜６はガラス転移温度や光透過率が劣
るが、実施例の組成Ａ１〜６はいずれも特性も満たす。

また、光学的歪の目安であるレタデーションは、３以下
で実使用時の目標（５ｎｍ以下）を満たしている。

以　　下　　余　　白 実施例２ 溝状パターン付Ｎｉ製スタンパ上圧光硬化°性樹脂を配
置し、この上に実施例１で得た透明基板（直径：　３０
０ｍ　）を重ね合わせた。その！まの状態で波長３６５
ｒＬｍにおける光強度が１”　ＯＩＦ／、ｇの紫外線を
透明基板の側よシ３０秒間照射し、光硬化性樹脂を硬化
せしめた後、スタンパと光硬化性樹脂の間をはがし、溝
状パターン付透明基板を得た。この表面にＴｅ系記録膜
を約３０ｒＬｒｒＬ厚さに蒸着した後、基板全体を１０
０℃１時間の雰囲気にさらし、記録膜の結晶化を行なっ
て、光ディスク記録媒体を作成した。

比較例の組成＆１〜６から得た透明基板を用いた光ディ
スク記録媒体は、光硬化性樹脂内に未反応成分が存在す
るため、記録が均一に付着しなかったシ、使用中に溝状
パターンの溝深さが変動する問題を生じた。また、比較
例の組成Ａ　Ｉ　、　５　、６を用いた光ディスク記録
媒体は、基板にそりが生じた。一方、実施例の組成１〜
６を用いた光ディスク記録媒体は、比較例の組成にみら
れた上記の問題が生じなかった。

実施例３ 離型剤を塗布した溝状パターン付Ｎｉ製スタンパに対し
て離型剤を塗布したガラス板を向い合わせに配置し、両
者の間に１．２■の空間をもうけ、樹脂注入型を形成し
た。この型の中に、第１表上段に示すような組成の液状
樹脂を注入し１２０℃３時間加熱して該樹脂を硬化させ
、溝状パターン付透明基板を得た。溝付の透明基板面に
Ｔｅ系記録膜を約５０ｎｍ厚さに蒸着した後、基板全体
を１００℃１時間の雰囲気にさらし、記録膜の結晶化を
行なって、光ディスク記録媒体を作成した。

比較例の組成Ａ　１　、５　、６から得た溝付基板を用
いた光ディスク記録媒体は、基板にそりが生じた。また
、比較例の組成Ａ２，３　ｊ４から得た溝付基板を用い
た光ディスク記録媒体は、情報読取り時の出力レベルが
やや低くなる傾向がみられた。一方、実施例の組成１〜
６を用いた光ディスク記録媒体は、比較例の組成にみら
れた上記の問題が生じなかった。

実施例４ 通常の射出成形法で製造したポリメチルメタクリレート
（分子量：　１ｏｏ、ｏｏｏ　）基板（比較例イ）及び
ポリカーボネート（分子量：　１５，０００　）基板（
比較例口）、及び表の実施例の組成黒１〜６を用い実施
例Ｉの方法で形成した基板（実施例イ）を用い、溝状パ
ターン付透明基板を形成した。溝付の透明基板面にＴｅ
系記録膜を約３０ｎｒＩＬ厚さに蒸着した後、基板全体
を１００℃１時間の雰囲気にさらし、記録膜の結晶化を
行なって、光ディスク記録媒体を作成した。

加熱処理の際、比較例イの基板は大変形を来たし、比較
、側口の基板もそりを生じたが、実施例イの基板を用い
たものは、伺らの変化もみられなかった。また、比較例
口の基板は８３０ｒＬｍ光で測定した光学的レタデーシ
ョンが２０〜５０ｎｍ（１１１ｍｌ厚さシングルパス換
算）となシ、情報の書込み・読出しに支障を来たしたが
、実施例イの基板を用いたものは１〜２　ｎｍであり、
情報の書込み・読出しを円滑に行なうことができた。

〔発明の効果〕

本発明によれば、光学的歪が少なく、耐熱性があシ、機
械的強度および精度の優れた透明度の高い透明基板を得
ることができ、高性能の光ディスク記録媒体を得ること
ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、光ディスク記録媒体の斜視図、第２図は、光
ディスク記録媒体の一部切久斜視図である。 １・・・・・・・・−・・透明基板 ２・・・・・・・・・・・・溝 ３・・・・・−・・・・・記録膜 ４・・・・・−・−・・スペーサ 頁の続き ５　明　者　石　橋　　　武　彦　下館市大字小川１５
０幡ｊ０日立化成工業株式会社下館工場 手続補正書（自発） 事件の表示 昭和　６０年特許願第　１５４０５２　　号発明の名称
　光ディスク記録媒体 補正をする者 １哨との関係　特許出願人 ３　　称　　　（５１Ｑ１株式会トド　　日　　立　製
　作　所名　称　　（４４５）　　日立化成工業株式会
社名　称　　（５８１）日立マクセル株式会社代　　　
理　　　人 補正の対象　明細書の特許請求の範囲の欄と発明の詳細
な説明の欄 補正の内容 特許請求の節回 １、　特許請求の範囲を、別紙のとおり訂正する。 ２　明細書第１２頁の表中の、成分物質と特性欄、リン
化合物ｌの項の化学式を以下のように訂正する。 １　　　　」 以上 ｔφ−す１１　を由　Ｙ片ハローソ　テｌル千番Ｊノ１
、　透明基板とその表面に形成された記録膜とを有する
光ディスク記碌媒体において、透明基板がエボ争シ樹脂
、硬化剤及び一般式（１）　、　（ＩＩ）。 Ｒ２Ｈ，、Ｒ，Ｒ６ Ｒ３Ｈ，Ｒ，Ｒ，，１ Ｒ３Ｒ４Ｒ１１Ｒ６ （７こＩこ　し、　　八’ｔ’　、　　Ａ１．／−ＬＪ
　　グ　７　　、　７　　１／　　ｉｖｚ　　？−／基
又はアル午ルオキシ基を表わし、Ｒ１−Ｒ６は水素、ハ
ロゲン又は炭素数１〜１０の１価脂肪族もしくは芳香族
置換基であり、Ｒ１−Ｒ３は同一でも異なっていても良
い） で示される有機リン化合物とを含む組成物を加熱成形し
たものであることを特徴とする光ディスク記録媒体。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、透明基板とその表面に形成された記録膜とを有する
   光ディスク記録媒体において、透明基板がエポキシ樹脂
   、硬化剤及び一般式（ I ）、（II）、（III） ▲数式、化学式、表等があります▼ （ただし、式中、Ｘはハロゲン、アリルオキシ基又はア
   ルキルオキシ基を表わし、Ｒ＿１〜Ｒ＿８は水素、ハロ
   ゲン又は炭素数１〜１０の１価脂肪族もしくは芳香族置
   換基であり、Ｒ＿１〜Ｒ＿８は同一でも異なっていても
   良い） で示される有機リン化合物とを含む組成物を加熱成形し
   たものであることを特徴とする光ディスク記録媒体。