JPS6383701A - 光デイスク記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、光を用いて音声、画像、情報などを記録、゛
再生する光ディスク記録媒体に関する。

（従来の技術） 光ディスク記録媒体に、厚さ約１１ｎ１１１の透明基板
の表面に案内溝などの微細パターンを設け、さらに記録
膜を重ねて作る。記録膜付き透明基板に、単独で用いる
場付と、必要に応じて２枚を記録膜付着面を向かい甘わ
せにスペーサを介して貼り合わせ光ディスク記録媒体と
する。また、スペーサを介さずに接漸剤などで直接貼り
合わせることも行わｎる。

透明基板の材質は、ガラス、アクリル樹脂、ポリカーボ
ネートなどが使用さγしる。

（発明が解決しようとする問題点） ガラス基板に取扱いの不江慧やディスクの高速回転によ
って破損しやすく、また重い等の問題がある。アクリル
樹脂に、耐熱性が劣り、吸湿によって彫溝するためにデ
ィスクに反りを発生し、吸湿水分が記録膜を劣化させる
傾向がある。又、記録膜全真空蒸宥法等で成膜する際、
吸湿水分の影響で真空度が上がり聡いという欠点のため
に、成膜の前に水分を除去する必要があるという問題が
ある。ポリカーボネートは、射出成形時に分子鎖の配向
あるいは残留応力などにより〜屈折を生じやすい問題か
める。さらに、熱硬化性樹脂としては例えばエポキシ樹
脂などの提案（％開昭５９−２２２４８）がおるが、硬
化時またに使用時に着色して透明性がそこなわｎ、又は
吸湿に二る前述のアクリル樹脂と同傾向の問題点がある
。

元ディスク用基板は、情報の記録・再生時に用いるレー
ザー光を透過させる必要かめろ。又、基板表面に閏やビ
ラトラ形成する際に光Ｉｆ！化注位ｉ脂を使用する工程
を加えたとき、ｙｔ硬化に必要な紫外線を透過しなげγ
しはなｈない。

従来のエボキ／粒・ｌ脂に、低吸湿性であり、紫外から
赤外域に至る波艮の光を萱レベルでろ過することが難し
い。デた、エポキシ樹脂に脱色剤を加えて光透過性を同
上すると、熱変形温度が低下して基板が低温就で反りを
生ずることがある。又、重加した脱色剤がエポキシ樹脂
の吸湿性全増大させ反りの原因となることもある。

（問題点を解決するための手段） 前記問題点にかんがみ、エポキシ樹脂の問題点を改良し
て、透明基板の破損、伐屈折、加熱及び吸湿による反り
の問題かなく、かつ透明性に優ｎた光ディスク用基板を
提供する。

本発明は、遡明丞叡とその表面に形成する記録膜とから
なる光ディスク記録媒体において、透明基板かエポキシ
樹脂と一般式山、　ｌＩＩＪ　、　（ｌＩＩＪ　。

（ＩＶＩ （式中のＲ＋″−Ｒ３にアルキル基、アリｈ基、メチレ
ン基、エチレンＭ、Ｒ１＋Ｒ２＋Ｒｓの炭素総数が６個
以上であることを表わす）で示される酸無水物硬化剤及
び桐這式（ＶＪで示される有機リン化合物とを含む組成
物を加熱成形し又なる光ディスク記録媒体である。

本発明に用いろエポキシ樹脂は、通常の硬化定はないが
、常温で液状のものが有用である。

ビスフェノールＡジグリフジルエーテル、ビスフェノー
ルＦツクリシジルエーテル、水素冷加ビスフェノ−３Ａ
ジグリシジルエーテル、水素重加ビスフェノー３ｐジグ
リシジルエーテル、フタル酸ジグリシジルエステル、ヘ
キサヒドロ２タル酸ジグリフジルエステル、テトラヒド
ロフタル酸ジグリフジルエステル、６，４−エポキシシ
クロへキシルメチル−３，４−エボキ７７クロヘキサン
力ルポキシレート、ビニルノクロヘキセンジオキサイド
、ビス（３，４−エボキクシクロヘキシル）アジペート
、２−（，３，４−エポキシシクロへキシル−５，５−
スピロ−３，４−エポキシ）フクロヘキサン−メタ−ジ
オキサン等である。

一般式山、　ｔｎ＋　、　ｔｎυ、　Ｗ）で示される酸
無水物硬化剤は、単独あるいは２釉以上混付して用いる
ことができろ。配付量は、エポキシ樹脂との化学半量比
ａ８〜１．１で配甘すｎは良い。また、この場合に硬化
促進剤として、例えは６級アミン及びその塩、４級アン
モニウム化合物、４級ホスホニウム化合物、アルカリ金
属アルコラード等の併用が有用であるが、特に次のもの
は有効である。ベンジルジメチルアミン、　　２，４．
６−トリス（ジメデルアミノメテル）フェノール、２−
エテル−４−メチルイミダゾール、トリアミルアンモニ
ウムフェノラート、ナトリウムヘキサントリオラード、
１，８−ジアザ−ビシクロ（５，４，０）ウンデセン−
７（ＤＢＵ）、ＤＢＵの有機塩、１，４−ジアザビシク
ロ（２１２１２）オクタン、テトラブチルホスホニウム
ブロマイド等である。

構造式ｔ％Ｑによって表わさする有機リン化合物は、エ
ボキク樹脂、硬化剤及び硬化促進剤の曾計１００重量部
に対して１〜１０重量都を添加するのが好ましい。有機
りン化合物の箔加量が１ｆｉｆｉ部以下になるとエポキ
シ硬化物の脱色が十分でなく、１０Ｍ′ｆ＃部以下にな
るとエポキシ硬化物の耐熱性及び機械的強度が低下する
。

エポキシ樹脂硬化物を侍るには、前記のエボキク樹脂、
硬化剤、硬化促進剤、リン化合物を混合し、こｎを注型
し加熱硬化する。

不発明によって得らｎるエポキシ樹脂硬化物は、硬化過
程で分子配向を誘起する要因がないため、光学的歪を小
さくすることができる。

以下本発明全実施例によって睨明する。

実施例１ 離型剤ｔａ布した２枚のガラス板の間に厚さ１ｔｎｒｎ
の空間を設けて注型用型とした。この型の中に第１表上
段に示す組成の液状樹脂を注入し、１２０℃で３時間加
熱し硬化させて透明基板を得た。この透明基板の特性を
Ｍ１表下段に示す。

この種の透明基板は、記碌膜形成工程、ディスク加工工
程などにおいて又実使用時の熱ストレス及び吸湿等によ
って変形してはならない。したがりて、ガラス転移温度
が１２０℃以上、飽和吸水率が０．５％以下であること
が望！しい。

この透明基根上に光硬化性樹脂全便用して倣細な溝形状
パターンを形成する際、硬化を円ｍにするために透明基
板に波長３６５μｍの紫外線を７０％以上透過すること
が望ましい。又、情報の書込み、抗出しを円滑にするた
めに波長８３０　ｎｍの赤外線を９０％以上透過する心
安がある。

比較例の組成Ｎ０１１〜６にガラス転移温度、光透過率
及び吸水率が劣るが、実施例の組成Ｎ０゜１へ６に何ｎ
も特性を満たす。ｆた、光学的歪の目安であるリターデ
ーシヨンに６以下であり、実使用時の目標（５ｎｍ以下
）を満たしている。

実施例２ 溝状パターン付きＮｉ製スタンパ上に光硬化性樹脂を配
置し、この上に実施例１て得１こ透明基板（直径１３０
ｍ１ｌｌ）’ｉ重ね曾わせて、そのま筐の状態で波長３
６５　ｎｍにおける光強度が１５０　Ｗ／−の紫外線を
込明叛側から３０秒間照射して光硬性樹脂ケ硬化した後
、スタンパと光硬化性樹脂の間會剥がし、溝状パターン
付き透明基数を得た。この表面に光記録膜を約３０ｎｍ
厚さに蒸着した後、基金全体を１００℃の空気中に１時
間さらして記録膜の結晶化？行い、光ディスク記録媒体
を作成した。

比較例の組成ＮＯ，１，４，５から得た元ディスク記録
媒体は基板に反りを生じ、Ｎ００６から得た透明基ａを
用いた媒体に、光硬化性樹脂内に未反応成分が存在する
ため、記録膜が均一に付層しないとか成るいは使用中に
溝状パターンの７再深さが変動する等の問題を生じた。

比較例Ｎ００１〜６及び実施例８０．１〜６から得た光
ディスク記碌媒体′ｆ：６０℃、９０％ＲＨの空気中に
放置した処、比較例ＮＯ，１〜６から得たものは２４へ
７６時間で全て記録膜にクラックまたは剥がｎを生じ、
基数に反りを生じた。

一方、実施例の組Ｈ，Ｎ０．１〜６を用いた光ディスク
記録媒体に、比較例に表わｉした前記問題を生じなかっ
た。

以下烟〕 （発明の効果） 本発明によｎば、エポキシ樹脂を用いて、光学的歪が少
なく耐熱性があり低吸湿性で機械的強度及びＭ度の優ね
た透明度の高い濤明基８１−作ることができ、高性能の
光ディスク記録媒体を得ろことが可能となった。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、透明基板とその表面に形成された記録膜とからなる
   光ディスク記録媒体において、透明基板がエポキシ樹脂
   と一般式（ I ）、（II）、（III）、（IV）で示される
   酸無水物硬化剤の１種または混合物及び構造式（Ｖ）で
   示される有機リン化合物とを含む組成物を加熱成形して
   なることを特徴とする光ディスク記録媒体。 一般式（ I ）▲数式、化学式、表等があります▼（II
   ）▲数式、化学式、表等があります▼ （III）▲数式、化学式、表等があります▼（IV）▲数
   式、化学式、表等があります▼ （式中のＲ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３は水素、アルキル基、
   アリル基、メチレン基、エチレン基を表し、 Ｒ＿１、＋Ｒ＿２＋Ｒ＿３の炭素総数は６個以上）構造
   式（Ｖ）▲数式、化学式、表等があります▼