JPS6186221A - 光デイスク用基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はエポキシ樹脂組成物の注型成形において離型性
に１憂れ、しがも注型成形用型の型面を表面精度よく転
写した注形品を得ることが出来る製造方法に関するもの
である。

近（ト情報の高密度記録という観点から光ディスクか注
目され各種検討がなされており、一部市販に迄到ってい
る。

従来このような、光ディスクに用いられる基板はガラス
板または透明な合成樹脂板であって、且つ複屈折の無い
という条件のために光学的に等方性である材料が用いら
れて来ており、透明な合成樹脂板としてはポリメチルメ
タクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリスルホン（ＰＳ）、ポ
リカーボネー）（ＰＣ）、ポリビニルクロライド（Ｐｖ
Ｃ）、ビニルクロライドとビニルアセテートの共重合体
等の成−形品が提案されてきた。

現在はこれらの中でも成形性、光学透明性といった点で
ほとんど射出成形によって得られたＰ　Ｍ　Ｍ　Ａの基
板が用いられている。

しかしながらＰ　Ｍ　Ｍ　Ａの基板の場合、記録密度の
向上が要求され、媒体の高度の信頼性が要求されだして
来ると以下の欠点が大きな問題となって来る。

（ａ）耐熱性に劣るため、各種の機能膜蒸着に際して基
板表面の温度が上ると、案内溝が平担になってしまう。

このため案内溝が機能しなくなる。

（１））熱可塑性（３（脂であるためアクセス時の高速
回転時に遠心力によるクリープを生じる場合がある。

また保管時に高温にさらされると変形が生じ面ブレが大
きくなる。

（ｃ）吸湿性が大で・あるため、吸湿変形が生じるとか
機能膜の酸化を助長するといった問題か生ずる。

（ｄ）射出成形で製造されるため成形歪が有り複屈折を
生ずる。

（ｅ）屈折率の調整が困難であり樹脂固有の屈折率に限
定されてしまう等である。

一万Ｆ’ＣはＰＭＭＡよりは耐熱性があるが、成形時の
歪みにより複屈折が３Ｑｎｍ（ダブルパス）以上と大き
い欠点かあり、Ｄ　ＲＡ　ＷおよびＥ　ＲＡ　Ｓ　Ａ　
Ｂ　Ｌ　Ｅ用の高品位の光ディスク用基板とはなり得な
い。

本願発明者らはこれら種々の問題点を一挙に解決すべく
各種の樹脂の基板としての特性を検討し従来不可能と考
えられていた熱硬化性樹脂、特に脂環式エポキシ樹脂ま
たは芳香族エポキシ樹脂と脂環式エポキシ樹脂の混合物
を注型硬化させて得られる基板か優れているということ
を見い出した。

一般にエポキシＵ（脂組成物よりなる光学部品を注型成
型する場合にはガラス等の優れた鏡面性を有する注型成
形用型を用い、この型のもつ鏡面性を成形品に転写させ
ることが行なわれて来た。

しｈ化ながら光学的記録媒体用基板としては片面が記録
用案内溝を備えたもので池の片面は鏡面性を備えた基板
か要求される。

また）オドポリマー法（２Ｐ法）により案内溝を形成す
る場合にま両市が鏡面を有する平板が要求される。

エポキシ樹脂組成物から注型成形法により光ディスク用
基板のような精密さを要求されるものを作製することは
、離型性の問題より非常に困難であり、エポキシ（３１
脂組成物の注型成形品の光ディスク用基板は徐まで得ら
れていなかった。

本発明はＳｉＣの薄膜を注型成形用型の内面（こ形成し
、該薄膜を離型膜として用いることによりエポキシ的１
脂組成物の注型成形品を光ディスク用基板として精度よ
く、容易に製造する方法に関するものである。

脂環式エポキシ樹脂または芳香族エポキシＵ（脂と脂環
式エポキシ樹脂の混合物、有機多塩基酸無水物、硬化促
進剤、変色防止剤を主成分としてなるエポキシ＋４４脂
組成物の注型方法としては離型薄膜処理したガラス板に
より所望厚みの注型成形用型を形成し、又は片面に離型
薄膜処理した案内溝を有するニッケルスタンパ裏打ち板
を置き、離型薄膜処理した平板ニッケルスタンバ裏打ち
板との開に所望厚みの注形成形用型を形成し、該注形用
型内で液状のエポキシ樹脂組成物を脱泡後加熱硬化させ
、離型して光ディスク用の基板を得るといった方法て゛
ある。

即ち、本発明は光ディスク用基板としてエポキシ樹脂組
成物の注型成形において離型性が優れ、しがち注型成形
用型の型面を精度よく再現した注形品を得ることが出来
る注形成形用型を用いた注型成形方法に関するものであ
る。

エポキシ的１脂組成物の注型成形において、注型品を型
から取り出す場合、エポキシ樹脂のように強い接着性を
有するものは成形用型からの離型性が悪い。

このような場合、注型成形用型に離型剤を塗布する方法
が一般的であるが、注形品に離型剤によるくもりが発生
したり、十分な鏡面が得られないことが多い。

一般にエポキシ樹脂よりなる光学部品を成形する場合に
は、ガラス等の優れた鏡面性を有する型を用い、この型
の持つ鏡面性を成形品に転写させることが一般に用いら
れている。

しかしながら、例えばエポキシ樹脂の成形品とガラスの
型またはニッケルスタンパ裏打ち型の場合、両者の密着
力が強いので、エポキシ樹脂が硬化した後その成形品は
ガラスの型等から容易に離型しない。

まして光ディスク用基板として要求される案内溝付き基
板のような型面に精密な凹凸の付いたものの離型は非常
に困難である。

またエポキシ樹脂の成形収縮による応力のため注型成形
用型に割れや歪か発生し注型成形用型としてその用をな
さないことが多い。

また案内溝付ニッケルスタンパ裏打型にエポキシｔＪｔ
ｌｌＷのバリ、残炎が付着すると型の再生か困難となる
。

かかるエポキシ樹脂の成型品と成形用型との離型を良く
するために前記のように型に離型剤を塗布する方法があ
るが、この方法では注形品へ離型剤か転写されることに
より注形品にくもりが発生するので・光学部品としては
側底満足しうるちのは得られない。

本発明はかかる欠点を改良すべく鋭意検討してなされた
ちのであり、脂環式エポキシ樹脂または芳香族エポキシ
樹脂と脂環式エポキシ樹脂の混合物からなる注形硬化品
と成形用型との離型を容易にし、珪っ型のもつ鏡面性や
案内溝等の凹凸模様を精度よく成形品に転写で・きる離
型膜を型に形成することにより、くもり等のない優れた
注形硬化品を得ることを目的としだらのである。

本発明は該エポキシ替１脂組成物と接する成形用望面に
　　　　゛反応性真空蒸着法またはスパッタリング法に
よりＳｉＣの薄膜を形成して離型膜としたエポキシＵ（
脂成形用型で゛であり、４３られな薄膜は樹脂との離型
性及び金属、ガラス、セラミック等からなる成形用型と
の密着性において優れている。

ＳｉＣは化学的に安定であり、加熱硬化させたエポキシ
１５！脂成形用の離型膜としζ優れている。

二の薄膜は成形時において離型膜として働く利点がある
。

かかる薄膜の厚さは成形品の材質、用途により異なるか
一般的には５００〜ａ　ｏ　ｏ　ｏ　入が適当である。

１１さか５　（１（ｌ　Ａ以下では使用でとる回数か少
くなってしまう、又３　（，１（１０Ａ以下では厚み分
布精度か悪くなり適当て′ない。

更に本発明では特に離型性が悪い直径と厚みの比力弓０
０以上の成形品の離型膜として適している。

また先学部品のうち光ディスク用基板のように鏡面性か
強く要求されるエポキシ（Ａ（脂組成物の注形成形品の
場合には成形用型の有する案内溝または鏡面性が全く損
なわれず成形品に転写されるので特に有効である。

実施例１ 鏡面を有するガラスの板に高周波スパッタリング法によ
りＳｉＣの薄膜を形成する。

高周波スパッタリングの条件は以下の通りて゛ある。

スパッタ装置の真空槽の初期真空度をＩ　Ｘ　ｌ　Ｏ−
’Ｔｏｒｒとした後、ガラス板を３５０　’Ｃとし、次
にＣト１４を分圧にして４　Ｘ　１　（１）喘Ｔｏｒｒ
まで導入し、さらにｌ＼「を２×１（’、１″Ｔｏｒｒ
になるまで導入し高周波スパッタリング法によ１）ｓｉ
ｃを膜形成速度２５　（ｌ　Ａ／＋ｏｉｎで８分間スパ
ッタリングし、厚み２　＋’ｌ　０１）　Ａの薄膜を形
成しｒこ。

このようにしてＳ　ｉ　Ｃ薄膜を形成したガラスの板に
より直径３０５　＋ａｍ、厚さ１．２１１１１１１の注
型成形用型を作製し下記の３種の配合組成物のエポキシ
樹脂組成物を注入し１００　’Ｃ１３時間加熱硬化した
。

［配合組成物−１１ 脂環式エポキシ樹脂　　　　　　　　　１００重量部（
（３，４’−エポキシシクロヘキシルメチル）−３，４
−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）メチルへ
キサヒドロ７タール酸無水物　　１２５〃１．８ジアサ
゛ビシクロ（５、４、（ｌウンテ゛セン）−２−エチル
へキシルカルボン酸ｍ　　　　　４．（１／／２．６−
ンターシヤリー）゛チルー１）−クレゾール１．０　／
／ ［配合組成物−２１ 脂環式エポキシ樹脂　　　　　　　　　］旧）重量部（
３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル−
’Ａ　、　４−エポキシ−６−メチルシクコヘキサンカ
ルポキシレート） メチルへキサヒドロ７タール酸無水物　１（１３／／１
．８ノアザビシクＯ（Ｓ　、　４　、０ウンデセン）−
２−エチルへキシルカルボン酸ｍ　　　　４，０　　／
／２．６−ノターシヤリーブチルー１）−クレゾール１
、Ｏｔｉ 及び下記の配合組成物ＡとＢとを１：１になるように混
合したエポキシ樹脂組成物 ［配合組成物ｌ＼］ ビスフェノールｌ＼型エポキシ樹脂　　　１００重量部
メチルへキサヒドロ７タール酸無水物　　８８　〃２−
エチルー・１−メチルイミダゾール　　（１，５ｔｉン
、に−ノーターシャリーブチルー１）−クレゾール１．
０　７／ ｊ配合組成物［３１ 脂環式エポキシ８（脂　　　　　　　　　１０　（１重
量部）（、“（，・１゛−エポキシシクロヘキシルメチ
ル）−３、・１−エポキシシクロヘキサンカルボキシレ
ート）メチルへキサヒドロ７タール酸無水物　１２２　
〃２−エチルー４−メチルイミグゾール　　２．０　〃
２．６−ジ−ターシャリ−ブチル−ｐ−クレゾール１．
０　　／／ 注型成形品はガラスを破損することなく容易に離型し、
ＳｉＣと接した面はガラスの鏡面が正確に転写され、く
もり等の欠陥は全くなかった。

又５ｉ（Ｊｌ型膜はガラスとの密着性が強く、その使用
回数は７回以上の繰返しで良好な離型性を有していた実
施例２ ガラスの板の温度を３５　ｆ）　’Ｃに保持しながら真
空蒸着装置内の初期真空度をＩ　Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒ
とした後ｃ１（４をＩ　Ｘ　１０−３Ｔｏｒｒまで導入
し、高周波プラズマを発生させた。

珪素を電子銃加熱により蒸着させ、反応性蒸着法によ’
）ＳｉＣの１８０ＯＡの薄膜を形成した。

蒸着速度はＩ　２０　Ａ／ｍｉｎで行った。

このようにして反応性真空蒸着法でＳｉＣ薄膜を形成し
たガラスの板２枚により直径３０５Ｉ師厚さ］　、２　
＋１１１＋１の注型成形用型を作製し、実施例１，２お
よび３のエポキシｔＪＩ脂組成物を注型し加熱硬化させ
た。

注型品はプラスを破損することなく容易に離型し、Ｓｉ
Ｃと接した面はガラスの鏡面が正確に転写され、くもり
等の欠陥は全くなかった。

又ＳｉＣ離型膜はガラスとの密着性が強く、その使用量
案内溝付きニッケルスタンパ裏打ち板およびガラス板に
実施例１と同じ方法によりＳｉＣの厚み１８１．’）　
０λの薄膜を形成した。

該ニッケルスタンパ裏打ち板とがう基板で直径３０５繭
、厚さ１．：２ＩＩＩＩｌの注型成形用型を作製し、実
施例１で用いたエポキシ樹脂組成物を注入し、１００℃
、３時間加熱硬化した。

注型成形品はプラスを破損することなく容易に離型し、
ＳｉＣと接した面の案内溝およびガラスの鏡面が正確に
転写され、くもり等の欠陥は全くなかった。

又ＳｉＣ離型膜はニッケル及びガラスとの密着性が強く
、その使用回数は７回以上の繰り返しで良好な離型性を
有していた。

比較例１ ステアリン酸を塗布したガラス板により直径３０５ａＩ
ＩＩＩ厚さ１．２ｍｍの注型成形用型を作製して実施例
１で用いたエポキシ樹脂組成物を注型した結果、くもり
の転写が認められ、また２回目の注型では離型効果かな
くなり離型が困難であった。

比較例２ 実施例１に示したＳｉＣの薄膜を形成していない案内溝
付きニッケルスタンパ裏打ち板およびガラス板により直
径３０５　「ａｍ、厚さ１　、２　ｍａｎの注型成形用
型を作り、実施例１で用いたエポキシ樹脂組成物を注型
し硬化させた。

注形硬化物は離型が困難で、無理１こ離型しよつとした
ためガラス板の注型用型が破損しニッケルスタンパ裏打
ち板面にちエポキシ樹脂の一部が付着してしまい良好な
光ディスク用基板は得られなかった。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 注形用型内面にスパッタリング法または反応性真空蒸着
   法により炭化珪素（ＳｉＣ）の薄膜を形成、離型膜とし
   た成形用型に脂環式エポキシ樹脂または芳香族エポキシ
   樹脂と脂環式エポキシ樹脂との混合物、有機多塩基酸無
   水物、硬化促進剤、変色防止剤を含むエポキシ樹脂組成
   物を注入硬化させて透明基板を得ることを特徴とする光
   ディスク用基板の製造方法。