JPS6228945A - 光学情報記録再生デイスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、大容量のデータの記録、再生、消去。

高速アクセスを可能にする光ディスクの分野に用いられ
る光学情報記録再生ディスクに関するものである。

従来の技術 光ディスクに用いる基板としては、次の６項目の性能が
必要である。

（１）　　光学的均質性：例えば、複屈折　４０　ｎ　
ｍ以下（２）　　耐　湿　性：例えば、含水率　　２％
以下（３）　　耐　熱　性　：例えば、熱変形温度１２
０’Ｃ以上（４）価　格 これらに対して、ガラス、あるいは金属基板があるが、
レーザ光ガイド用の凹凸ピット形成技術が、不十分であ
ること、あるいは、価格面の制約がある。

さらに、ＰＭＭＡ（アクリル）樹脂、ポリカーボネート
樹脂等があり、これらは、浦格面では、有用であるが、
その他の項目については、一長一短の性能である〇 これに対して、樹脂表面に、無機材料の外部からの形成
、例えば、ＳｉＯ２，５１３Ｎ４薄膜を設け、各項目の
改良が行われている。

発明が解決しようとする問題点 樹脂基板を、あらかじめ、注型法、あるいけ、射出成型
法で作成し、この上に、蒸着、塗伺、等で、他の材料層
を形成することにより、耐湿、耐熱あるいは、接着特性
の改良は可能である。

しかしながら、上記形成層と、基板材料界面において、
光学特性例えば、屈折率の差、接着力の良否、熱膨張率
の差異による変形等が、新規に課題になってくる。

さらに、基板の成型に加えて、表面処理層の形成の工程
が必要であり、価格および、光学欠陥、品耐熱、接着特
性のすぐれた、低コスト基板を提供するものである。

問題点を解決するだめの手段 本発明は母材料を主体として構成した基板の表面部分に
添加材料を偏析させ、前記基板の」−に光学的に情報を
記録することができる薄膜層を設けた光学情報記録再生
ティスフである。

作　　用 このよって構成すると、基板表面ｄ、添加拐月の物理的
、化学的１′−１：質を有１〜、基板内部は母材料の物
理的、化学的性質を有することになるので両性能を有す
る基板を提供することができる。

実施例 丑ず、基板の母材料を定める。次に、この母材料につい
て、性能面を補う添加イ」料を選ぶ、特に重甥な点は、
母材料と、添加材料の熱唱性である。

これは、融点、ガラス化温度等であり、さらに、相互の
分子量の大きさである。

添加材料は、州材料より高い融点に選び、分子量として
は、小さいことか好ましい。

つぎに、これらの添加材料を、母利料と混合する過程を
設ける。しかる後に、所望の金型、スタンパの間に、こ
扛らの混合体を溶融、低粘度化させて射出する。

最も重要な過程は、金型あるいは、スタンパ表面の温度
と、基板内部温度の差、および、全体の温度レベルの設
定である。全体の温度Ｉ／ベベル高く保ち、特に、基板
内部温度を高く保った上で、スタンパ、金型表面を急冷
させる。このだめ、基板内部と、基板表面に大きい温度
勾配が生ずる。

この温度勾配により、比較的、融点の高い添加成分は、
基板表面近傍に偏析してくる。基板内部温度を母材料の
融点Ｔｍ　、ガラス化温度゛ｒｑのいずれよりも高くす
る。

かかる手段で形成した基板は、基板表面は、添加材料の
、物理的、化学的性質を有するとともに、基板内部は、
母材料の物理的、化学的性質を有する。

つまり、基板表面は、添加材料の偏析層、内部は、母材
料となり、これらが、組成的には、連続的に基板内部方
向に分布し、添加組成の性能と、母材料の性能の両者を
有する基板になる。

次に、さらに具体的に説明する。母材料とＩ−てＰＭＭ
Ａ（アクリル）を用いる。これは、ガラス化温度が１０
５°Ｃ以下と低く、成型の転写性は良好であるが、耐湿
特性が低く、透湿率は、１３８７／ｍ’　−２４ｈｒ、
１０．１　ｍｎｔ’と大きい。

これに、添加イ」料として含弗素有機物あるいｄ：、透
湿率１　ｑ／ｍ”　２４ｈ　ｒ　１０　、１　ｎＪと小
さいポリ塩化ビニリデンを加える。それぞれ、ガラス化
温度を、ＰＭＭＡより高くなる分子量を選ぶ。

これらを、流動温度１５５°Ｃ以上に保った金型。

スタンパ間に射出し、表面と内部の温度差を、５０°Ｃ
以」−にとり、基板内部温度を２１５５°Ｃに保つこと
により、昇温、冷却し、金型スタンパからばくりさせる
。

得られた基板の表面近傍には、添加材料成分濃度が高い
ＰＭＭＡ　（アクリル）射出成型板が得られる。

これらの添加成分では、基板界面への光学情報記録用薄
膜に対する耐湿効果を得る。

これに対し、軟化温度７００″Ｃポリイミド系添加材石
を用いた場合、ＰＭＭＡ基板表面の、レーザ光吸収熱に
よる変形を低減できる。

母材料としてポリカーボネ−１・を用いる場合、添加利
料として、分極性の高いＯ−Ｈ基あるいはエーテル結合
を有する材料エポキシ系樹脂を含−ｆぜる。

この場合、ポリカーボネート基板に直接テルル低酸化物
Ｎ）漠を形成したものに比べ、基板表面にエポキシ樹脂
が偏析した添加ポリカーボネ−１・基板の場合、基板の
膨張、収縮に対するばくり試験において、２倍以−１−
の接着強度が得られた。

添加材料として、軟化温度が７００″Ｃと高いポリイミ
ド系を用いた場合、レーザ光による記録ドツト部の基板
表面変形の閾値レーザパワーｉ：、１．５倍以」−上昇
した。

基板上に形成する光学的に情報を配録できる薄膜層と［
〜てはたとえばＴｅ０ｘ（０（ｘ（２，０）（ＴｅとＴ
ａＯ２との混合物）を主成分とする膜を用いるととがで
きる。

発明の効果 以上のように、本発明によれば光ディスクのＪｉｉｊ板
への、添加材料を、基板表面近傍に偏析させることによ
り母材料の、光学的、熱的特性を変化させることなく、
耐湿９接着特性の向上が可能になる。Ｊコだ、耐熱特性
の高い層を、基材表面に形成でき、レーザ光による基材
表面の熱的な変形を除去できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例における光学情報記録を打止
ディスクの断側面図、第２図は同曲の実施例における光
学情報記録再生ディスクの断側面図である。 １・・・・・基板の母材料、２・・・・・・添加材料。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）母材料を主体として構成した基板の表面部分に添
   加材料を偏析させ、前記基板の上に光学的に情報を記録
   することができる薄膜層を設けた光学情報記録再生ディ
   スク。
2. （２）母材料と添加材料として、それぞれの融点Ｔｍあ
   るいはガラス化温度Ｔｇを、添加材料の方が、高くなる
   ように選ぶことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
   の光学情報記録再生ディスク。
3. （３）添加材料として、含水率および、吸湿特性の小な
   る材料を選ぶことを特徴とする特許請求の範囲第１項記
   載の光学情報記録再生ディスク。
4. （４）添加材料として、接着性の大きい材料を選ぶこと
   を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光学情報記録
   再生ディスク。