JPS6087447A - 光ビ−ム記憶用プラスチツク基板の製造方法 - Google Patents
光ビ−ム記憶用プラスチツク基板の製造方法Info
- Publication number
- JPS6087447A JPS6087447A JP19532383A JP19532383A JPS6087447A JP S6087447 A JPS6087447 A JP S6087447A JP 19532383 A JP19532383 A JP 19532383A JP 19532383 A JP19532383 A JP 19532383A JP S6087447 A JPS6087447 A JP S6087447A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mold
- silicone rubber
- casting
- transfer
- plastic substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/263—Preparing and using a stamper, e.g. pressing or injection molding substrates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D17/00—Producing carriers of records containing fine grooves or impressions, e.g. disc records for needle playback, cylinder records; Producing record discs from master stencils
- B29D17/005—Producing optically read record carriers, e.g. optical discs
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発も；は光ビーム記憶用プラスチック基板を注型法に
よりａ造する方法に関する。
よりａ造する方法に関する。
光デイスク用プラスチック基板の製造方法の一つとして
、高精度の溝をもつ盤に、エポキシ樹脂、ポリメチルメ
タクリレート樹脂等の液状樹脂を注入し、加熱硬化させ
た後、型をと９はずして基板を得る方法がある。この方
法は面精度の良い型を使用すれば、成形品の平面性を出
し易いし、又、成形に伴なう残留応力がほとんどない為
に、得られた成形品の品質は優れている。しかしながら
、硬化が完全に終了するまでには２０時間以上費すこと
から、量産をする場合には、前記した高精度の溝をもつ
型を多く保有しなければならない。
、高精度の溝をもつ盤に、エポキシ樹脂、ポリメチルメ
タクリレート樹脂等の液状樹脂を注入し、加熱硬化させ
た後、型をと９はずして基板を得る方法がある。この方
法は面精度の良い型を使用すれば、成形品の平面性を出
し易いし、又、成形に伴なう残留応力がほとんどない為
に、得られた成形品の品質は優れている。しかしながら
、硬化が完全に終了するまでには２０時間以上費すこと
から、量産をする場合には、前記した高精度の溝をもつ
型を多く保有しなければならない。
本発明者らは、高精度の溝をもつガラス原盤から、多数
の転写型を作製する方法を種々検討した結果、シリコン
ゴムをガラス原盤からなる原型に注型することによシ、
高精度のシリコンゴム製転写型を得ることができること
を見出し、本発明を完成するに至ったものである。
の転写型を作製する方法を種々検討した結果、シリコン
ゴムをガラス原盤からなる原型に注型することによシ、
高精度のシリコンゴム製転写型を得ることができること
を見出し、本発明を完成するに至ったものである。
本発明は、光ビーム記憶用の高精度の溝を有するガラス
原盤から盤面を忠実に転写したシリコンゴム型を作製し
、この型にエポキシ樹脂、アクリル樹脂等の液状透明樹
脂を注型法によシ、忠実に転写された溝を有する光ビー
ム記憶用プラスチック基板の製造方法に関するものであ
る。
原盤から盤面を忠実に転写したシリコンゴム型を作製し
、この型にエポキシ樹脂、アクリル樹脂等の液状透明樹
脂を注型法によシ、忠実に転写された溝を有する光ビー
ム記憶用プラスチック基板の製造方法に関するものであ
る。
本発明を製造工程を追って詳細に説明する。
第１図（ａ）〜（ｅ）は本発明の各工程の断面図である
。
。
第１図（ａ）は高精度の溝をもつガラス原盤（１）であ
る。仁の原盤を型としてシリコンゴムを注型し、硬化さ
せる。注型するとき、気泡の除去と溝面の転写精度向上
のために真空中にて注型する。成形されるシリコンゴム
型は柔軟で変形し易いので、型として高平面精度を維持
させるために補強を行うことが特に望ましい。この補強
のために、転写面と反対側に、金属板を裏打ちするのが
よく、その結果平面精度の良い溝付き面を有するシリコ
ンゴム型を得ることができる。
る。仁の原盤を型としてシリコンゴムを注型し、硬化さ
せる。注型するとき、気泡の除去と溝面の転写精度向上
のために真空中にて注型する。成形されるシリコンゴム
型は柔軟で変形し易いので、型として高平面精度を維持
させるために補強を行うことが特に望ましい。この補強
のために、転写面と反対側に、金属板を裏打ちするのが
よく、その結果平面精度の良い溝付き面を有するシリコ
ンゴム型を得ることができる。
金属とシリコンゴムとは通常 接着性がないことから、
金属面にアンダーカットとなる突起をつくることによシ
、又は金属面にその金属とシリコンゴムとに接着性のあ
るシリコン樹脂等の樹脂をあらかじめ、塗布しておくこ
とによυ、シリコンゴムに金属板を裏打ちすることがで
きる。従って、金属板を裏打ちしたシリコンゴム型を注
型によシ得る場合、第１図伽）のように、ガラス原盤α
）と前記処理をされた裏打ち用金属板（２）との間にシ
リコンゴムを注型する。
金属面にアンダーカットとなる突起をつくることによシ
、又は金属面にその金属とシリコンゴムとに接着性のあ
るシリコン樹脂等の樹脂をあらかじめ、塗布しておくこ
とによυ、シリコンゴムに金属板を裏打ちすることがで
きる。従って、金属板を裏打ちしたシリコンゴム型を注
型によシ得る場合、第１図伽）のように、ガラス原盤α
）と前記処理をされた裏打ち用金属板（２）との間にシ
リコンゴムを注型する。
硬化後、第１図（Ｃ）に示される金属板裏打ちシリコン
ゴム型０）を取出す。次に、第１図（ｄ）に如く、シリ
コンゴム型（３）と平面精度の良いガラス（４）を合せ
た型に、透明液状樹脂を、真空中にて注型し、硬化させ
る。
ゴム型０）を取出す。次に、第１図（ｄ）に如く、シリ
コンゴム型（３）と平面精度の良いガラス（４）を合せ
た型に、透明液状樹脂を、真空中にて注型し、硬化させ
る。
その後前記型から第１図（ｅ）に示す通シの成形された
溝を有するプラスチック基板（５）を取シ出す。
溝を有するプラスチック基板（５）を取シ出す。
このプラスチック基板（５）は、ガラス原盤の溝を忠実
に再現した面を有している。
に再現した面を有している。
次に実施例を示す。
ビスフェノールＡグリシジルエーテル型エポキシ樹脂に
酸無水物硬化剤、硬化促進剤、安定剤等を混合した透明
液状エポキシ樹脂を注型用樹脂として使用した。金属板
裏打ちシリコンゴム型（３）と平面精度の高い（０，０
１μｍ）ガラス（４）を合わせた型に前記エポキシ樹脂
を注型し、７０〜８０℃、２０時間加熱し、硬化させた
。成形された基板を型から離凰し、厚み１．５ ｒｒｖ
ｎ 、外径３０５＋＋＋ｍ、内径３５ｗｎの基板（５）
を得た。このエポキシ樹脂基板（５）は、片面において
ガラス基板の溝を忠実・に転写再現し、片面においては
０．０１μｍの平面精度を有するので、十分に実用に供
しうるものであった。
酸無水物硬化剤、硬化促進剤、安定剤等を混合した透明
液状エポキシ樹脂を注型用樹脂として使用した。金属板
裏打ちシリコンゴム型（３）と平面精度の高い（０，０
１μｍ）ガラス（４）を合わせた型に前記エポキシ樹脂
を注型し、７０〜８０℃、２０時間加熱し、硬化させた
。成形された基板を型から離凰し、厚み１．５ ｒｒｖ
ｎ 、外径３０５＋＋＋ｍ、内径３５ｗｎの基板（５）
を得た。このエポキシ樹脂基板（５）は、片面において
ガラス基板の溝を忠実・に転写再現し、片面においては
０．０１μｍの平面精度を有するので、十分に実用に供
しうるものであった。
第１図は本発明における各工程の断面図である。
（ａ）ガラス原盤
伽）シリコンゴムを注型する工程
（ｃ）金属板裏打ちシリコンゴム型
（ｄ）透明液状樹脂を注型する工程
（ｅ）プラスチック基板
特許出願人
住友ベークライト株式会社
第１図
（ｂ）
↓
（ｅ）
双Ｘ３望Ｓ留ｒ−塁
Claims (2)
- （１）光ビーム記憶用の高精度の溝′を有するガラス原
盤から盤面を忠実に転写したシリコンゴム型を作製し、
この型に液状透明樹脂を注型法によシ注入することを特
徴とする光ビーム記憶用プラスチック基板の製造方法。 - （２）前記シリコンゴム型の裏面を金属で補強すること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光ビーム記憶
用プラスチック基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19532383A JPS6087447A (ja) | 1983-10-20 | 1983-10-20 | 光ビ−ム記憶用プラスチツク基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19532383A JPS6087447A (ja) | 1983-10-20 | 1983-10-20 | 光ビ−ム記憶用プラスチツク基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6087447A true JPS6087447A (ja) | 1985-05-17 |
Family
ID=16339250
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19532383A Pending JPS6087447A (ja) | 1983-10-20 | 1983-10-20 | 光ビ−ム記憶用プラスチツク基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6087447A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60153456U (ja) * | 1984-03-22 | 1985-10-12 | ティーディーケイ株式会社 | 感温スイツチ装置 |
| WO2004054773A1 (en) * | 2002-12-13 | 2004-07-01 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method of manufacturing a replica, as well as a replica obtained by carrying out a uv light-initiated or thermal curing treatment of a reactive mixture |
-
1983
- 1983-10-20 JP JP19532383A patent/JPS6087447A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60153456U (ja) * | 1984-03-22 | 1985-10-12 | ティーディーケイ株式会社 | 感温スイツチ装置 |
| WO2004054773A1 (en) * | 2002-12-13 | 2004-07-01 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method of manufacturing a replica, as well as a replica obtained by carrying out a uv light-initiated or thermal curing treatment of a reactive mixture |
| JP2006509870A (ja) * | 2002-12-13 | 2006-03-23 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 反応性混合物のｕｖ光開始又は熱硬化処理を実行することによって得られるレプリカのみならず、レプリカを製造する方法 |
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