JPS61296548A - 光デイスク基板の製法 - Google Patents

光デイスク基板の製法

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JPS61296548A
JPS61296548A JP13838085A JP13838085A JPS61296548A JP S61296548 A JPS61296548 A JP S61296548A JP 13838085 A JP13838085 A JP 13838085A JP 13838085 A JP13838085 A JP 13838085A JP S61296548 A JPS61296548 A JP S61296548A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mold
stamper
resin
optical disk
disk substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP13838085A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinobu Ikeno
池野 忍
Hiroaki Usui
宏明 碓氷
Masashi Nakamura
正志 中村
Takahiro Heiuchi
隆博 塀内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Works Ltd
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Publication of JPS61296548A publication Critical patent/JPS61296548A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、熱硬化性樹脂よりなるE−DRAW型の光
ディスク基板の製造方法に関するものである。
〔背景技術〕
現在、記録再生(D RAW)型および書換可能(E−
DRAW)型の光ディスク基板の製造法として、次の方
法が行われている。
■ トラッキングやアドレス情報を溝やピントの形で刻
んだニッケル製スタンパを型版とし、このスタンパをセ
ットした金属製金型内に、光学特性にすぐれた熱可塑性
樹脂であるアクリル樹脂やポリカーボネート樹脂を射出
成形して、表面にスタンパの型形状を転写した光ディス
ク基板(レプリカ)を製造する射出成形法。
■ アクリル樹脂やエポキシ樹脂あるいはガラスよりな
る平滑なディスク基板(ベースプレート)とニッケルス
タンパを対向させ、この間に液状の紫外線硬化型樹脂を
充てんしたのち、ベースプレート側から紫外線を照射し
、紫外線硬化型樹脂を硬化させてベースプレートと接着
一体化させ、ついでスタンパをはがすことによって、表
面にスタンパの型形状を転写したレプリカを製造する2
P法。
■の方法は、熱可塑性樹脂を射出成形することによりレ
プリカを製造するものであるから、能率のよい方法であ
るが、反面、使用する樹脂が熱可塑性樹脂であるために
、基板の耐熱性が低く、従って、記録時に、マイクロ秒
のオーダーではあるけれども、数100℃に記録材料が
加熱されるE・DRAW型ディ大ディスク基板た場合、
記録/再生のくり返しによって溝の変形が生じるので好
ましくない。
他方、■の方法は、これによって製造した光ディスク基
板が、紫外線硬化型樹脂を採用していることから、■の
方法で得たものの問題を解消したものとすることが出来
るが、製造工程が複雑になり、製品の歩どまりが悪くな
るといった欠点がある。
このような欠点を改良するために、熱硬化性の液状エポ
キシ樹脂をプラスチック成形することによって光ディス
ク基板を製造する方法が提案されている(特開昭59−
22248号公報)。しかしながら、この提案では、ス
タンパについて何らの記載がなく、かつ、離型剤をコー
トしたガラス型に樹脂を注入・硬化させて光ディスク基
板を得る実施例が示されているのみであり、接着力のよ
い液状エポキシ樹脂を用いて基板表面にスタンパの型形
状を転写するようにする場合において、離型剤を用いな
かったときに起きる以下のごとき問題の解決が明らかで
ない。
発明者らは、ニッケルスタンパをセットしたクロムメッ
キ金型内に液状エポキシ樹脂を注入・硬化させたのち、
硬化ディスクをスタンパおよび金型からとり出そうとし
たところ、エポキシ樹脂の接着力が高いために、うまく
とり出すことが出来なかった。
〔発明の目的〕
上記事情に鑑みて、この発明は、エポキシ樹脂などの接
着力の高い熱硬化性樹脂を用いてスタンパ・金型による
成形を行っても、離型剤を用いなくても良好な離型性の
得られる光ディスク基板の製法を提供することを目的と
する。
〔発明の開示〕
この発明者らは、液状の熱硬化性樹脂、特に液状エポキ
シ樹脂を基板材とし、表面にスタンパの型形状が転写さ
れた光ディスク基板を製造する方法において生じる前記
の問題の解決等について検討した結果、離型性のよい特
定のスタンパおよび金型を用いることとすれば、前記問
題の解決が可能であることを見い出し、ここに、この発
明を完成した。
したがって、この発明は、スタンパをセットした金型内
に液状の熱硬化性樹脂を注入・硬化させたのち型開きし
て光ディスク基板を得る方法において、金型およびスタ
ンパの臨界表面張力(20℃)が36dyn 7cm以
下であることを特徴とする光ディスク基板の製法を要旨
とする。
以下にこれを詳しく述べる。
この発明の特徴は、金型およびスタンパとじて、臨界表
面張力(20℃)が36dyn 7cm以下の低エネル
ギーの素材からなるものを用いて、離型性を向上させる
ことにある。このような素材としては、ふっ素樹脂(パ
ーフルオロアルコールのポリメタクリル酸エステル、ポ
リへキサフルオロプロピレン、ポリテトラフルオロエチ
レン、ポリトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチ
レン/ヘキサフルオロプレピレン共重合体、テトラフル
オロエチレン/パーフルオロビニルエーテル共重合体、
エチレン/テトラフルオロエチレン共重合体、ポリフッ
化ビニリデン、ポリフッ化ビニルなど)、ポリメチルペ
ンテン樹脂、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブチ
レン、ポリスチレンおよびこれらの樹脂の共重合体など
があげられる。
臨界表面張力(20℃) 36dyne/cffl以下
の5離型金型は、これらの゛樹脂のみで構成されている
必要はなく、例えば金属材質の上にコーティングされた
ものであってもよい。
臨界表面張力(20℃) 36dyne/cffl以下
の易離型スタンパは、上記素材の中で、射出成形可能1
14部脂(テトラフルオロエチレン/パーフルオロビニ
ルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン/ヘキサ
フルオロプロピレン共重合体、エチレン/テトラフルオ
ロエチレン共重合体、パーフルオロアルコールのポリメ
タクリル酸エステル、ポリフッ化ヒニリデン、ポリフッ
化ビニルなどのふっ素樹脂、ポリメチルペンテン、ポリ
プロピレン、ポリエチレン、ポリブチレン、ポリスチレ
ンなど)を用い、ニッケルスタンパを介して、背景技術
の項で述べた前記■の射出成形法により製造する。よっ
て、ニッケルスタンパの凹凸形状は、通常の場合の反転
形状のものとする。
このようにして作製した5離型スタンパをガスケットを
介して5離型金型にセットし、クランプで固定したのち
、樹脂を充てんして熱硬化させる。充てん方法としては
注型法が適当であるが、トランスファ一方式の充てんも
可能である。
硬化温度は、用いる5離型金型および5離型スタンパの
耐熱性によって異なるが、これらに用いる低エネルギー
樹脂の熱変形温度以下であればよい。成形時間を短くす
るという観点からは、硬化温度は許容される範囲内でな
るべく高い方が好ましい。
この発明の方法によって、全体が樹脂のものとして得ら
れる場合の光ディスク基板は、スタンパの型形状が転写
された表面層と基板本体層が同一の熱硬化性樹脂で構成
されているので耐熱性が高く、従って記録/再生のくり
返しによっても溝の変形が生じたりすることはない。
以下に、実施例によって、この発明をより詳しく説明す
る。
1 ス ンパの ′ スタンパをセットした射出成形金型を用いて、ポリメチ
ルペンテン樹脂をシリンダ一温度300℃、金型温度6
0℃、射出圧力250 kg/cm20条件で、板厚2
.0 mm、ディスク径13cn+の、表面にスタンパ
の型形状を転写した3離型性スタンパを製造した。
の  ゛ 板厚2.0 mmのクロムメッキ板の表面にテフロンコ
ーティング(大森りローム鍍金■、テフロソク加工)し
て、5離型性金型を得た。
−゛ スフ  の ゛ 3離型性スタンパと5離型性の金型をシリコーンガスケ
ットを介して対向させてクランプで固定したのち、以下
の組成の液状エポキシ樹脂を注入し、100℃で5時間
硬化させ、説型して光ディスク基板を得た。
(液状エポキシ樹脂組成;部は重量部)エポキシ樹脂;
脂環式エポキシ樹脂(UCC?flERL−4221)
     100部 硬化剤;無水メチルテトラヒドロフタル酸100部 硬化促進剤、 DBU塩(サンアボット社5A402)
    3部 ;エチレングリコール   1部 なお、比較のため、ニッケル製スタンパを用いた以外は
実施例と同様にして光ディスク基板を製造したが、スタ
ンパと硬化基板との離型が困難であり、良好な光ディス
ク基板をとり出すことが出来なかった。
〔発明の効果〕
この発明にかかる光ディスク基板の製法は、金型および
スタンパの臨界表面張力を36dyne/(至)以下と
したため、エポキシ樹脂等の接着性のよい樹脂を用いて
製造するにあたっても、離型剤を用いることなくして、
型離れよく製品を得ることができる。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)スタンパをセットした金型内に液状の熱硬化性樹
    脂を注入・硬化させたのち型開きして光ディスク基板を
    得る方法において、金型およびスタンパの臨界表面張力
    (20℃)が36dyn/cm以下であることを特徴と
    する光ディスク基板の製法。
  2. (2)臨界表面張力(20℃)が36dyn/cm以下
    である金型およびスタンパが、ふっ素樹脂、ポリメチル
    ペンテン樹脂、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブ
    チレン、ポリスチレンおよびこれらの樹脂の共重合体を
    材料とするものである特許請求の範囲第1項記載の光デ
    ィスク基板の製法。
  3. (3)液状の熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂である特許請
    求の範囲第1項または第2項記載の光ディスク基板の製
    法。
JP13838085A 1985-06-25 1985-06-25 光デイスク基板の製法 Pending JPS61296548A (ja)

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JPS61296548A true JPS61296548A (ja) 1986-12-27

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JP (1) JPS61296548A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0518231A2 (en) * 1991-06-05 1992-12-16 Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. Process for the preparation of substrates for optical disk
JPH06162578A (ja) * 1992-11-16 1994-06-10 Victor Co Of Japan Ltd 光ディスクの保護膜形成方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0518231A2 (en) * 1991-06-05 1992-12-16 Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. Process for the preparation of substrates for optical disk
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