JPS58110220A - 光デイスク記録媒体用基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、レーザ等により光学的、熱的に情報を記録、
再生する光デイスク記録媒体用基板の製造方法に関する
。

光信号を高速、高密度に記録、再生する情報記録媒体と
していわゆる光デイスク記録媒体が知られている。

光デイスク記録媒体は、例えば、第１図、第２図のよう
に構成されている。これは、ガラス、透明プラスチック
などの透明基板１上に樹脂などで平坦な下地層２（第１
図）またはサーボトランク用などの溝状や穴状の凹凸を
有する下地層２（第２図）を形成し、この下地層２の上
にＢｉ　、Ｉ、、Ｔｇ系などの記録用金属膜３を形成し
た後、金属膜が向い合い、しかも一定の間隔となるよう
に２枚の処理基板を接着材４で封着して成り立っている
。

透明基板１と下地層２からなる光デイスク記録媒体用基
板の作成方法として、次の方法が知られている。

（１）　　第３図の（（Ｚｌのように所定の表面加工を
施したＩＶｉなとのスタンバ５と透明基板１との間に紫
外線硬化性樹脂２−１をはさみ込み、硬化させた後、ス
タンバをはがして第６図の（Ａ）のように記録媒体用基
板を得る。

（２）　　第４図の（α）のように所定の表面加工を施
したＡ、などの金属製スタンパ５上にニトロセルロース
などの有機高分子２−２を塗布し、これと透明基板との
間に紫外線硬化性樹脂２−１をはさみ込み、硬化させた
後、スタンバをはがして第４図の（ｈ）のように記録媒
体用基板を得る。

ところが、上記（１］〜（２］の方法で光デイスク記録
媒体用基板を作成したとき、次の（＋）　＊　（ｌｉＪ
Ｏ問題があった。

（１）スタンパ上に樹脂材料が残り、完全な転写ができ
にくい。

（１１）　　スタンバから樹脂材料を引きはがすとき、
大きな力を要し、基板が変形したり、割れることがある
。

成形用金型の離型性を向上するためには、離型性オイル
や脂肪酸誘導体などの離型剤の利用が知られていたが、
これらは次の（１）　ｌ　（１＋ｌ　、　Ｏｎ＋の理由
により用いることができなかった。

（１）　　スタンパ表面の溝や穴が０．１〜５μｍ程度
の微細加工を施されているため、離型剤が凹凸部に詰り
、正確な転写が妨げられる。

（１１）離型処理が数回の転写で効果を失う。

０１１）成形した基板表面に離型剤が残留し、基板面と
記録用金属膜との接着性が低下する。

本発明の目的は上記した従来技術の欠点をなくし、転写
性の良好な光デイスク記録媒体用基板の製造方法を提供
するにある。

本発明の特長は、７ｖｔ製スタンバ表面に７０ロアルキ
ル基含有リン酸エステル溶液を塗布し、５０〜２００℃
で焼付し、焼付膜の厚さを単分子膜〜１ｏｏｏ、；とじ
たものを光デイスク記録媒体用基板を製造する際のスタ
ンバとして用いることにある。

Ａｌ製スタンパは表面硬度、作り易さの点で有用なもの
であり、フロロアルキル基含有リン酸エステルの焼付物
と良く接着する。樹脂の転写を縁り返してもフロロアル
キル基含有リン酸エステルの焼付物がはがれることがな
い。

本発明で使用するフロロアルキル基含有リン酸エステル
は、一般式（１ンもしくは一般式（２］に示すものであ
る。

（但し一般式（ｕ　、　（２１において　ｒＬ＝１−１
８　。

ｘ＝１〜２．Ｒ＝有機基である。） Ｒは、特に限定するものでないが、例えば次のものが有
用である。

−ＣＤ２−ＣＺ／　−ＣＢ。

Ｈ −Ｃ−０−ＣｍＢ２ｒｎ− １ −５０，−ＩＷ＋Ｃ７ｎ１Ｃ７ｎ１ｌ２＋に”ｔＢ２ｔ
＋１ （但し、Ａ＝１〜３．　ｔ＝１へ５．ｍ＝２〜３）一般
式（１１、（２１において、ルが１より小になると、上
記のフロロアルキル基含有リン酸エステルが飛散し、所
期の焼付物が得られなかったり、得られた焼付物が転写
すべき樹脂と接着するようになる。また、ルが１８より
犬になると、フロロアルキル基含有リン酸エステルが溶
剤に溶は難くなったり、結晶化して取扱い難くなる。

フロロアルキル基含有リン酸エステルの溶剤としては、
例えば水、メチルアルコール、エチルアルコール、イソ
プロピルアルコール、ループチルアルコール、イソブチ
ルアルコールなどのアルコール類、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、
クロロホルム、１，１．１−トリクロルエタンなどの塩
素化炭化水素類、ジオキサン、テトラヒドロフランなど
の環状エーテル類、および上記の溶剤２種以上の混合液
が使用できる。

フロロアルキル基含有リン酸エステルは濃度０．０１〜
５ｕノｔ％程度の溶液として、スタンパ上に、浸漬法、
スピンナ塗布法などにより塗布する。

上記の溶液を７ｖｌ製スタンパ上に塗布した後、大気中
にて５０〜２００℃で１０分〜２時間にわたり焼付し、
７ｖＬ製スタンパ上に焼付物の薄膜を形成させる。この
焼付物の膜厚を単分子膜レベルから１０００ノ程度にす
ると、スタンパ表面の凹凸をつぶすことなく、しかも、
スタンパから樹脂類を容易にはがすことが実現できる。

焼付温度が５０℃より低いと、焼付物と１ｖｔスタンパ
との接着が十分に得られず、２００℃より高いと、焼付
物の剥離性が低下したり、ｈ７スタンパ表面が酸化劣化
し易くなる。

本発明の特長は、フロロアルキル基含有リン・　７ 酸エステルの焼付物が、本来接着し難いとされるＩＶｉ
製スメスタンパ固に接着し、しかも焼付物自体が硬質で
樹脂類に対する離型性に富み、摩耗し難いことを見い出
し、これを光デイスク記録媒体用基板の製造に有効に活
用した点にある。

次に、本発明を実施例により詳しく説明する。

実施例１ 巾０．６　μｍ　、深さ０．０７　Ｊ１７７Ｌ　、溝間
隔１．６　μｍ　（Ｄ　スパイラル溝を有する直径３０
０ｍ＋φのＮｉ製スタンパを用意した。ついで一般式（
３）で示されるフロロアルキル基含有リン酸エステル １ （ル＝４〜９の混合物〕 を脱イオン水に溶かし、濃度Ｑ、５　ｗｔ　％　の溶液
とした。この溶液を上記ＩＶｉ製スメスタンパ上ピンナ
法（回転数２０００ｒＰｙｎ、回転時間１分）で塗布し
、空気中で所定の温度で１時間焼付した。焼付物の膜厚
は約６ＯＡであった。

゛　８　゛ 焼付物をコーティングした上記スタンパ上にニトロセル
ロース（分子量：２０万）の酢酸ループチル溶液（濃度
：１．５ｗｔ％）をスピンナ法で塗布し、膜厚約１μｍ
のニトロセルロース層を形成した。このスタンパ上に光
硬化性樹脂を滴下し、その上から厚さ１．５ｍ＋のガラ
ス製円板を重ね、光を照射して光硬化性樹脂を硬化した
後、スタンパを固定し、ガラス製円板の外周を持ち上げ
ながら、スタンパ上の７０ロアルキル基含有リン酸エス
テル焼付物とニトロセルロース間ヲ剥離した。

この際の剥離強さと７０ロアルキル基含有リン酸エステ
ルの焼付温度との関係を第５図に示した。曲線６の７０
ロアルキル基含有リン酸エステルを処理したものは、直
線７の無処理のものより、剥離強さが著しく低下した。

特に５０〜２００℃で焼付けたものは、剥離強さが１０
０　ｆ　７ｃｍ以下となり、ガラス製円板の割れやニト
ロセルロースがスタンパ上に残ることがなく、スパイラ
ル溝の転写性が良好であった。

実施例２゜ １ （ｒＬ＝４〜９の混合物） 一般式（４）で示されるフロロアルキル基含有リン酸エ
ステルをイソプロピルアルコールに溶かし、濃度Ｑ、５
ｗｔ％溶液とし、実施例１と同様の方法でスタンパ上に
１５０℃１時間かけて焼付けた。このスタンパを用いて
転写実験を繰り返したところ、第６図の曲線８に示すよ
うに１００回転写しても剥離強さが１００ｆ／ｃｒｎ以
下であった。

それに比して、従来の離型剤ポリジメチルシロキサン（
分子量：２０００）を用いたものは、曲線９に示すよう
に、転写回数を増すと剥離し難くなり、曲線１０の無処
理のものと同レベルとなった。

実施例３゜ Ｉ 一般式（５）で示されるフロロアルキル基含有すン酸エ
ステルを水とイソプロピルアルコールドの当量混合液に
溶かし、濃度Ｑ、３　ｕｒｔ　％溶液とし、実施例１と
同様の方法でスタンパ上に１３０℃１時間かけて焼付け
た。このスタンパを用いて転写実験を繰り返したところ
、５０回転写しても剥離強さが１００ｆ／ｃ１ｎ以下で
あった。

実施例４ 実施例１と同様の方法で、フロロアルキル基含有リン酸
エステルをスタンバ上に１００℃１時間かけて焼付けた
。

焼付物をコーティングした上記スタンバ上にポリエチレ
ングリコールジアクリレートとネオペンチルグリコール
ジアクリレートを主成分とする紫外線硬化性樹脂を滴下
し、その上から厚さ１．５ｍのガラス製円板を重ね、光
を照射して光硬化性樹脂を硬化した後、スタンパを固定
し、ガラス製円板の外周を持ち上げながらスタンバ上の
７０ロアルキル基含有リン酸エステル焼付物と硬化樹脂
間を剥離した。

このフロロアルキル基含有リン酸エステル処理品の剥離
強さは４５ｆ／ｃＩｎであり、無処理品の剥離強さ１８
０Ｐ／ｃｒｎ　より著しく低下したため、剥離時にガラ
ス製円板の割れが皆無となり、スパイラル溝の転写性が
良好であった。

実施例５ 実施例１〜４で得た光デイスク記録媒体用基板のレプリ
カ像のある面上に、Ｔ　ｇ　ｏｎ　Ｓｔ　１０合金な膜
厚６００ノで蒸着した後、光デイスク記録媒体を組み立
てた。これを７０℃１時間と一４０℃１時間の温度サイ
クルに１０サイクルかげたが、Ｔｅ、。Ｓ’１０合金膜
は基板からはがれることがなかった。また、この光デイ
スク記録媒体は波長８３０’Ｌ７にのレーザ光により正
常な記録特性を示した。

以上に述べたように、フロロアルキル基含有リン酸エス
テルの焼付処理を施したＩＶｉ製スメスタンパいること
により転写欠陥が著しく改善でき、高密度、高信頼性光
デイスク記録媒体の製造が可能とすることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図は本発明を適用する光デイスク記録媒体
を説明する図、第３図、第４図は光デイスク記録媒体用
基板を作成する方法を説明する図、第５図はスタンパと
透明基板との剥離強さと、スタンバ上に処理する７０ロ
アルキル基含有リン酸エステルの焼付温度との関係を示
す図、第６図はスタンパと透明基板との剥離強さと転写
回数との関係を示す図である。 １・・・透明基板 ２・・・下地層 ２−１・・・紫外線硬化性樹脂 ２−２・・・有機高分子 ３・・・記録用金属膜 ４・・・接着材 ５・・・スタンパ 代理人弁理士　　薄　１）利　辛 −ｆｌ　　図 才　２　図 寸　５　図 庚う寸温度　　（０Ｃ） 才　乙　圓 転写回状（回）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　透明基板にスタンパで転写して凹凸を有する表面
   を形成するに際し、ＩＶｉ製スタンパ表面に一般式（１
   ）もしくは一般式（２］で示される７０ロアルキル基含
   有リン酸エステル溶液を塗布し、５０〜２００℃で焼付
   し、焼付膜の厚さを単分子膜〜１０００λとしたスタン
   バを用いることを特長とした光ディスク度記録媒体用基
   板の製造方法。 但し、一般式（１）、（２）において、ｔＬ−１〜２０
   ゜ｘ＝１〜２．Ｒ＝有機基である。 ２一般式（１）のＲが　−ＣＤ、　−Ｃ１ｉ−Ｃ１ｉ２
   −　。 夏 Ｂ （但し、！＝１〜３．　ｔ＝１　＋−５，ｍ＝２〜３）
   のうちの一種類であることを特徴とする特許請求の範囲
   第１項記載の光ディスクｒ記録媒、。 体用基板の製造方法。