JPH02172042A - 書き換え型光情報記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、信較性と生産性に優れた貼り合わせ型光ディ
スクの製造方法に関するものである。

〔従来の技術〕

情報記録分野における光ディスクの発展は目ざましく、
追記型ディスクは既にさまざまの応用がなされている。

ここで用いられる基板は主としてプラスチック基板であ
り、例えばポリカーボネート、ＰＭＭＡ等目的により種
々の材料が用いられている。一方、書き換え型光ディス
クでは、基板の光学特性と耐熱性が記録特性に対して重
要な要因となるが、これらの特性を満足すべき基板とし
てはガラス基板が最も優れた基板である。

しかし、ガラス基板は重い、破れやすい、コストが高い
等の重大な欠点があり、代替となるべきプラスチック基
板の開発が望まれている。プラスチック材料としては、
ポリカーボネート、ポリオレフィン等の熱可塑性樹脂と
、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂が代表的なものである
が、前記のような特性を合わせ持った材料としてエポキ
シ樹脂基板が有望視されている。

一般に書き換え型光ディスクは、剛接を得るため、第２
図（ａ）に示したように、記録層（２２）（４’−４）
をとる、その製造例としては、第２図（ｂ）の様に、中
心穴があり片面に記録Ｎ　（２２）を有する基板（２１
）を位置決め治具（２６）上に載置し、次に接着剤（２
４）を塗布し、さらに裏打ち基板（２３）を載置し、必
要に応じて加圧し、接着して製造される。しかし、この
欅な製造工程では裏打ち基板を別工程で製造しなければ
ならず、又、エポキシ基板には切削等により後加工して
中心穴をあけるため、切粉等の付着により基板が汚染さ
れる危れがあった。さらには、接着工程という作業があ
り、工数的にも多くの時間を要しているのが現状であっ
た。

上記のような問題点の解決法として、特開昭６２−９５
７５０号公報に開示された方法がある。これは、硬化剤
を含む固型のエポキシ樹脂を成型して溝付基板をつくり
、成膜後その上に熱硬化性樹脂層を形成し、エポキシ樹
脂の融点以下の温度で樹脂層を硬化し、さらに固型樹脂
を硬化せしめるものであった。しかし、この方法では後
硬化という工程が入るため、基板の反り、うねり等が起
きやすい問題があった。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明は、以上の様な問題点を解決するため鋭意検討を
重ねた結果到達するに至ったものであり、その目的とす
るところは、書き換え型光ディスクの貼り合わせ工程に
おいて要する工数を大巾に削減し、かつ信転性の優れた
書き換え型光ディスクを提供するにある。

〔課題を解決する為の手段〕

本発明は、実用径より大きな径を有し中心穴を有しない
エポキシ基板にプレグルーブ層および書き換え型光情報
記録膜を順次形成した円形の基板を、平坦な面をもつプ
レート上に記録膜を外にして固定し、前記基板の周縁部
に設けたシール材およびスペーサーを介してその上に平
坦面をもつもう１枚のプレートを固定し、前記基板の記
録膜面ともう１枚のプレートで囲まれた空間内に液状の
熱硬化性樹脂もしくは放射線硬化樹脂を注入して硬化さ
せ、脱型後、中心穴および外周の加工を行う事を特徴と
する書き換え型光情報記録媒体の製造方法である。

以下、第１図に基づいて本発明による光情報記録媒体の
製造方法を説明する。

先ず、実用径より大きな径を有し中心穴を有しない円形
のエポキシ基板（１）に２　Ｐ　（Ｐｈｏｔｏ　Ｐｏｌ
ｙｍｅｒ）プレグルーブ層（２）を形成し、次いでＴｂ
−Ｆｅ−Ｃｏ系等の書き換え型光情報記録膜（３）を成
膜する。

このエポキシ基板（１）を、第１図Φ）に示したように
、およびスペーサー■を設け、更にその上に離型処理を
施したガラス板（７）または平坦な板を載せ、全体を固
定する。ここで、注型口（８）が上部になるようにセッ
トし、エポキシ基板（１）の記録膜（３）面、ガラス板
（７）およびシール付置で囲まれた空間内に、注型口（
８）より熱硬化性、又は放射線硬化性の樹脂（９）を注
入し、所定の条件で硬化させ、脱型して、樹脂（９）の
層で裏打ちされたエポキシ基板θωを得る。

この裏打ちされたエポキシ基板Ｏωに中心穴【１１）を
設け、外周部を切断して所定の寸法に整えて書き換え型
光情報記録媒体を得る。

尚、本発明においてエポキシ基Ｆｉ、（１）を裏打ちプ
レートに装着する方法として真空吸着機構を有した裏打
ちプレート（５）を用いたが、エポキシ基板（１）を平
坦性よく装着するこｔが出来れば、他の方法であっても
何ら差しつかえない。

また、■打ちに用いる樹脂（９）の硬化条件の好ましい
方法としては、熱硬化性樹脂の場合、記録膜を形成した
基板のガラス転位点（Ｔｇ）より低い温度で一次硬化を
し、次いでＴｇより高い温度で硬化させれば反りのない
基板を得る事ができる。又、放射線硬化樹脂の場合は、
硬化収縮の少ない材料を選択する。さらに、用いる樹脂
硬化物のＴｇは記録膜を形成した基板のＴｇと同じか、
±５℃以内である事が好ましい、又機械特性等も極力同
じ程度である事がバランスの面で好ましい。

実施例１ エポキシ樹脂−酸無水物系硬化物からなる。エポキシ基
板上に紫外線硬化樹脂を用いてプレグルーブ層を形成し
、その上に膜厚１０００人のＴｂＦｅ−Ｃｏ系光磁気記
録膜を付けた。この基板を第１図の様に平坦な裏打ちプ
レートに真空吸着により装着し、シール材およびスペー
サーを介して離型処、理を施したガラス板を組合わせて
キャビティを作る、このキャビティの注型口から、前記
エポキシ基板と同一の組成をもつエポキシ樹脂組成物を
流し込み、１２０”Ｃ５時間硬化させ、脱型し、さらに
中心穴および外周部の切断加工をして書き換え型光情報
記録媒体をえた。得られた光ディスクは反りのない光デ
ィスクであった。

実施例２ 注入する樹脂としてエポキシアクリレートと光増感剤か
らなる　紫外線硬化樹脂組成物を使用し、実施例１で用
いたのと同様のキャビティに注型し、ガラス板側から紫
外線を照射して硬化させ、脱型し、実施例１と同様に後
加工をして書き換え型光情報記録媒体を得た。得られた
光ディスクは反りの無い光ディスクであった。

〔発明の効果〕

本発明の方法によれば、記録膜を有するエポキシ基板に
組合わされる裏打ち基板が、成形と同時にエポキシ基板
と一体化されるので生産工程が大ｒｉに簡略化されると
共に、記録膜面が裏打ち用の樹脂層と一体化し、覆われ
た後に中心穴および外周部の加工を行うので、記録膜面
に切粉等が付着し、汚染して記録媒体の信顧性をｔ員な
うことがなく、且つ得られた裏打ち基板は反りのないも
ので、光情報記録媒体の製造方法として好適である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による記録媒体の製造工程を示す図で、
（ロ）は型を組立て樹脂を注入した状態の断面図、（ａ
）はΦ）の上面図、（Ｃ）は脱型後の記録媒体の断面図
、（ｄ）は後加工した記録媒体の断面図である。 帖 第２図は従来の−Ｍψり合わせ法の一例を示した図であ
る。 特許出願人　　住友ベークライト株式会社！１　　図 （Ｑ） 第２図 ２３１打す１及 （ｂ） 乙ｒａｒ’ｆｔ二大め畑具

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）実用径より大きな径を有し中心穴を有しないエポ
   キシ基板にプレグルーブ層および書き換え型光情報記録
   膜を順次形成した円形の基板を、平坦な面をもつプレー
   ト上に記録膜を外にして固定し、前記基板の周縁部に設
   けたシール材およびスペーサーを介してその上に平坦面
   をもつもう１枚のプレートを固定し、前記基板の記録膜
   面ともう１枚のプレートで囲まれた空間内に液状の熱硬
   化性樹脂もしくは放射線硬化樹脂を注入して硬化させ、
   脱型後、中心穴および外周の加工を行う事を特徴とする
   書き換え型光情報記録媒体の製造方法。