JPS63225536A - 光デイスク用基板の製造方法 - Google Patents
光デイスク用基板の製造方法Info
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- JPS63225536A JPS63225536A JP62058359A JP5835987A JPS63225536A JP S63225536 A JPS63225536 A JP S63225536A JP 62058359 A JP62058359 A JP 62058359A JP 5835987 A JP5835987 A JP 5835987A JP S63225536 A JPS63225536 A JP S63225536A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光磁気記録や追記型光記録などに用いられるト
ラック案内溝をもつ光ディスク用基板の製造方法に関す
るものである。
ラック案内溝をもつ光ディスク用基板の製造方法に関す
るものである。
本発明は、少なくとも一種の金属アルコレートと水及び
有機溶媒を主成分とするゾル状物質にプレスで凸凹部を
形成し、その後焼結することによってガラス化し、トラ
ック案内溝を光ディスク用基板を高品質でしかも簡易に
製造できるようにするものである。
有機溶媒を主成分とするゾル状物質にプレスで凸凹部を
形成し、その後焼結することによってガラス化し、トラ
ック案内溝を光ディスク用基板を高品質でしかも簡易に
製造できるようにするものである。
従来より、希土類遷移金属光磁気材料は、その磁気光学
特性に多くの長所を有しているため、広く光ディスク用
記録媒体として用いられてきたが、耐環境性が悪いため
種々の改善がかさねられてきた。
特性に多くの長所を有しているため、広く光ディスク用
記録媒体として用いられてきたが、耐環境性が悪いため
種々の改善がかさねられてきた。
特に、光ディスク用基板としてＰＭＭＡやＰＣを用いる
と、これらのプラスチック材料の吸湿性のため数週間で
特性劣化を起こしてしまう。これに対して、ガラス基板
を用いた光ディスクは３年たっても特性の劣化は少ない
。しかしながら、ガラス基板を用いた場合、トラック案
内溝を形成する事が困難であった。上記の欠点をなくす
ためにトラック案内溝付プラスチック基板とガラス基板
とを接合して使用したり、ガラス基板上にフォトレジス
トでトラック案内溝を形成したりする試みがなされてき
たが、光磁気記録媒体をプラスチック等の上に形成しな
ければならないため良質な膜を得ることができなかった
。
と、これらのプラスチック材料の吸湿性のため数週間で
特性劣化を起こしてしまう。これに対して、ガラス基板
を用いた光ディスクは３年たっても特性の劣化は少ない
。しかしながら、ガラス基板を用いた場合、トラック案
内溝を形成する事が困難であった。上記の欠点をなくす
ためにトラック案内溝付プラスチック基板とガラス基板
とを接合して使用したり、ガラス基板上にフォトレジス
トでトラック案内溝を形成したりする試みがなされてき
たが、光磁気記録媒体をプラスチック等の上に形成しな
ければならないため良質な膜を得ることができなかった
。
又、特開昭６１−１９４６６３号公報に光デイスフ用溝
付ガラス基板が開示されている。ここに開示されている
のはガラス円板上に、プレスでトラック案内溝が形成さ
れたガラス円板を紫外線硬化樹脂やエポキシ樹脂などの
接着剤を用いて接合させた基板であるが、歩留が悪かつ
たり、プレス時に歪が発生したりするという欠点を有し
ていた。
付ガラス基板が開示されている。ここに開示されている
のはガラス円板上に、プレスでトラック案内溝が形成さ
れたガラス円板を紫外線硬化樹脂やエポキシ樹脂などの
接着剤を用いて接合させた基板であるが、歩留が悪かつ
たり、プレス時に歪が発生したりするという欠点を有し
ていた。
又、接着剤を使ってガラスを接着しなければならないと
いう欠点があった。
いう欠点があった。
本発明はイ上記に述べたようなプラスチック基板を用い
た場合の光ディスクの特性の経時劣化の問題やガラス基
板上にトラック案内溝を形成することが困難であるとい
う問題を解決しようとするものである。
た場合の光ディスクの特性の経時劣化の問題やガラス基
板上にトラック案内溝を形成することが困難であるとい
う問題を解決しようとするものである。
本発明は、少なくとも一種の金属−フルコレートと水お
よび有機溶媒を主成分とするゾル状物質にプレスでトラ
ック案内溝を形成し、その後焼結してガラス化すること
により、高品質でしかも簡単に案内溝付光ディスク基板
を製造することが可能になる。
よび有機溶媒を主成分とするゾル状物質にプレスでトラ
ック案内溝を形成し、その後焼結してガラス化すること
により、高品質でしかも簡単に案内溝付光ディスク基板
を製造することが可能になる。
以下、本発明の実施例を図面にもとづいて説明する。
第１図は本発明による光ディスク用基板の製造方法の工
程を示す断面図である。１は少なくとも一種の金属アル
コレートと水及び有機溶媒を主成分とするゾル化した原
料、１′は上記ゾル化した原料の加水分解を進行させて
粘性を高めた高粘性ゾル状物質、２はプレス台、３はプ
レス型、４はプレスにより凸凹部を形成した高粘性ゾル
状物質、５は焼結によりガラス化した溝付ガラス基板で
あり、（ａ）工程、（ｂ）工程、（Ｃ）工程、（ｄ）工
程からなる。（ａ）工程では、少なくとも一種の金属ア
ルコレートと水及び有機溶媒を主成分とするゾル化した
原料１をプレス台２に流し込む。
程を示す断面図である。１は少なくとも一種の金属アル
コレートと水及び有機溶媒を主成分とするゾル化した原
料、１′は上記ゾル化した原料の加水分解を進行させて
粘性を高めた高粘性ゾル状物質、２はプレス台、３はプ
レス型、４はプレスにより凸凹部を形成した高粘性ゾル
状物質、５は焼結によりガラス化した溝付ガラス基板で
あり、（ａ）工程、（ｂ）工程、（Ｃ）工程、（ｄ）工
程からなる。（ａ）工程では、少なくとも一種の金属ア
ルコレートと水及び有機溶媒を主成分とするゾル化した
原料１をプレス台２に流し込む。
金属アルコレートとしては、３１（ＱＣ）ｂ）ａ。
３１（ＯＣｚＨｓ） ４．３ｔ（０−ｉ −ＣｓＨｙ）
ａ 、 ５Ｌ（０−ｉ −ｃ４１ｂ） ａ 、 ３１
（０−ｎ−α市）４．３１（０−５ｅｃ−αＨｅ）
ａ 、 ３１ （０−ｔ−αｆｈ）ａなどがある。（ｂ
）工程では、プレス台２に流し込んだゾル化した原料の
加水分解を進行させ高粘性ゾル１′を形成する。（Ｃ）
工程では、高粘性ゾル１′にプレス型３によって凸凹部
を形成し、凸凹部を形成した轟粘性ゾル状物質４を冑る
。その後、ゲル化してプレス台２よりとりはずす。溝付
光ディスク基板の溝の深さは、使用レーザ光波長をλと
するとλの４分の１が適当であり、λは０．５趨〜１．
５趨であるから、およそ０．１２趨〜０．４ ｔｓ程度
である。４をゲル化、ガラス化すると体積が収縮するた
め、（Ｃ）工程のプレス時に形成する凸凹部はその収縮
を見込んで形成する必要がある。
ａ 、 ５Ｌ（０−ｉ −ｃ４１ｂ） ａ 、 ３１
（０−ｎ−α市）４．３１（０−５ｅｃ−αＨｅ）
ａ 、 ３１ （０−ｔ−αｆｈ）ａなどがある。（ｂ
）工程では、プレス台２に流し込んだゾル化した原料の
加水分解を進行させ高粘性ゾル１′を形成する。（Ｃ）
工程では、高粘性ゾル１′にプレス型３によって凸凹部
を形成し、凸凹部を形成した轟粘性ゾル状物質４を冑る
。その後、ゲル化してプレス台２よりとりはずす。溝付
光ディスク基板の溝の深さは、使用レーザ光波長をλと
するとλの４分の１が適当であり、λは０．５趨〜１．
５趨であるから、およそ０．１２趨〜０．４ ｔｓ程度
である。４をゲル化、ガラス化すると体積が収縮するた
め、（Ｃ）工程のプレス時に形成する凸凹部はその収縮
を見込んで形成する必要がある。
【収縮は体積で３０〜５０％である。）（ｄ）工程では
、プレス台２よりはずしたゲル化した物質を焼結による
ガラス化する。焼結によるガラス化に際しては、発泡や
亀裂の発生等をさけるためにゆっくり行なう必要がある
。また、ガラス化した時に多孔質とならないように、焼
結は１０００℃以上まで上げて行なう事が望ましい。
、プレス台２よりはずしたゲル化した物質を焼結による
ガラス化する。焼結によるガラス化に際しては、発泡や
亀裂の発生等をさけるためにゆっくり行なう必要がある
。また、ガラス化した時に多孔質とならないように、焼
結は１０００℃以上まで上げて行なう事が望ましい。
また、第２図は本発明による光ディスク用溝付ガラス基
板を用いて光ディスクのＣ／Ｎ経時劣化を示した図であ
り、従来の光ディスクに比べ本発明により安定した光デ
ィスクの作製が可能になった。
板を用いて光ディスクのＣ／Ｎ経時劣化を示した図であ
り、従来の光ディスクに比べ本発明により安定した光デ
ィスクの作製が可能になった。
以−ト述べたように本発明によって、トラック案内溝付
光ディスク用基板を容易に作製できるようになると共に
、上記基板を用いて光ディスクを作製する事によって経
時劣化特性の優れた光ディスクを容易作製する事が可能
となり、情報記録システムにおける＾密度メモリーの品
質及び信頼が向上するという効果を有する。
光ディスク用基板を容易に作製できるようになると共に
、上記基板を用いて光ディスクを作製する事によって経
時劣化特性の優れた光ディスクを容易作製する事が可能
となり、情報記録システムにおける＾密度メモリーの品
質及び信頼が向上するという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第１図（ａ）〜（ｄ）は、本発明による光ディスク用基
板の製造方法を示す工程の断面図であり、第２図は、本
発明による光ディスク用基板を用いた光ディスクの経時
劣化を示す図である。 １・・・ゾル化した原料 １′・・・高粘性ゾル状物資 ２・・・プレス台 ３・・・プレス型 ４・・・凸凹部を形成した高粘性ゾル状物質５・・・溝
付ガラス基板 出願人 セイコー電子工業株式会社 ７ネ、発哨の先ディスク用眉４良の製透方法の工程の一
１■り第１図
板の製造方法を示す工程の断面図であり、第２図は、本
発明による光ディスク用基板を用いた光ディスクの経時
劣化を示す図である。 １・・・ゾル化した原料 １′・・・高粘性ゾル状物資 ２・・・プレス台 ３・・・プレス型 ４・・・凸凹部を形成した高粘性ゾル状物質５・・・溝
付ガラス基板 出願人 セイコー電子工業株式会社 ７ネ、発哨の先ディスク用眉４良の製透方法の工程の一
１■り第１図
Claims (1)
- 少なくとも一種の金属アルコレートと水及び有機溶媒を
主成分とするゾル状物質にプレスでトラック案内溝を形
成し、ガラス化させたことを特徴とする光ディスク用基
板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62058359A JPS63225536A (ja) | 1987-03-13 | 1987-03-13 | 光デイスク用基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62058359A JPS63225536A (ja) | 1987-03-13 | 1987-03-13 | 光デイスク用基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63225536A true JPS63225536A (ja) | 1988-09-20 |
Family
ID=13082123
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62058359A Pending JPS63225536A (ja) | 1987-03-13 | 1987-03-13 | 光デイスク用基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63225536A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03189938A (ja) * | 1989-12-19 | 1991-08-19 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 微細パターン付き基体の製造方法 |
| FR2712280A1 (fr) * | 1993-11-08 | 1995-05-19 | Alcatel Cable Interface | Procédé de réalisation d'une multiférule en verre de silice pour fibre optique, et multiférule ainsi obtenue. |
| EP0719735A1 (en) * | 1994-12-29 | 1996-07-03 | AT&T Corp. | Fabrication of a thin sheet by a sol-gel process |
| EP1016637A2 (de) * | 1998-12-28 | 2000-07-05 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten SiO2/TiO2-Schichtsystems |
| JP2017534546A (ja) * | 2014-09-24 | 2017-11-24 | エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー | 光学ガラス素子を製造するための方法 |
-
1987
- 1987-03-13 JP JP62058359A patent/JPS63225536A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03189938A (ja) * | 1989-12-19 | 1991-08-19 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 微細パターン付き基体の製造方法 |
| FR2712280A1 (fr) * | 1993-11-08 | 1995-05-19 | Alcatel Cable Interface | Procédé de réalisation d'une multiférule en verre de silice pour fibre optique, et multiférule ainsi obtenue. |
| EP0719735A1 (en) * | 1994-12-29 | 1996-07-03 | AT&T Corp. | Fabrication of a thin sheet by a sol-gel process |
| EP1016637A2 (de) * | 1998-12-28 | 2000-07-05 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten SiO2/TiO2-Schichtsystems |
| EP1016637A3 (de) * | 1998-12-28 | 2001-06-13 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten SiO2/TiO2-Schichtsystems |
| JP2017534546A (ja) * | 2014-09-24 | 2017-11-24 | エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー | 光学ガラス素子を製造するための方法 |
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