JPS6185648A - 光学的記録媒体 - Google Patents
光学的記録媒体Info
- Publication number
- JPS6185648A JPS6185648A JP59207167A JP20716784A JPS6185648A JP S6185648 A JPS6185648 A JP S6185648A JP 59207167 A JP59207167 A JP 59207167A JP 20716784 A JP20716784 A JP 20716784A JP S6185648 A JPS6185648 A JP S6185648A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- epoxy resin
- recording medium
- optical recording
- substrate
- refractive index
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/253—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
- G11B7/2533—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates comprising resins
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は基板上に情報記録層を設けて成シ、情報を、レ
ーザーを用いて書き込みおよび読み出し出来る光学的記
録媒体に関するものであり、平板もしくは案内溝を有す
るエポキシ樹脂注型硬化物基板上に情報記録層を設けて
成る光学的記録媒体を提供せんとするものである。詳し
くはその化学構造中に芳香環を含まない、エポキシ樹脂
および有機多塩基性酸無水物を主成分とする液状エポキ
シ樹脂組成物を注形硬化せしめて得られる屈折率１５３
以下の硬化基板上に情報記録層を設けた光学的記録媒体
を提供せんとするものである。
ーザーを用いて書き込みおよび読み出し出来る光学的記
録媒体に関するものであり、平板もしくは案内溝を有す
るエポキシ樹脂注型硬化物基板上に情報記録層を設けて
成る光学的記録媒体を提供せんとするものである。詳し
くはその化学構造中に芳香環を含まない、エポキシ樹脂
および有機多塩基性酸無水物を主成分とする液状エポキ
シ樹脂組成物を注形硬化せしめて得られる屈折率１５３
以下の硬化基板上に情報記録層を設けた光学的記録媒体
を提供せんとするものである。
近年情報の高密度記録という観点から光学的情報記録媒
体が注目され各種検討がされておシ、一部市販に逸散り
ている。これら光学的記録媒体は再生専用媒体および書
き込み、読み出し用媒体、更をζ研究がなされ初めてい
る消去可能な光学的媒体等である。本願発明者らはこの
中で書き込み、胱出し可能な光学的媒体に従来より優れ
た性能を附与せんとして本発明を達成した。
体が注目され各種検討がされておシ、一部市販に逸散り
ている。これら光学的記録媒体は再生専用媒体および書
き込み、読み出し用媒体、更をζ研究がなされ初めてい
る消去可能な光学的媒体等である。本願発明者らはこの
中で書き込み、胱出し可能な光学的媒体に従来より優れ
た性能を附与せんとして本発明を達成した。
従来前ゆる光学的媒体としては平板もしくは案内溝を有
する透明基板上にテルル、セレン、ビスマス等の低融点
金属またこれら金属と有機物質の複合材を蒸着処理によ
シ記録層として設けられたものが一般的であり、このＮ
４に変調されたレーザー光が照射された際にその照射ス
ポット上でこのＩ−が溶融し、次に表面張力の影響で浴
融材料が収縮し、これにより縁を有する穴が記録層中に
形成される。従来このような、光学的記録媒体に用いら
れる基板はガラスまたは透明な合成樹脂基板であって、
且つ複屈折の無いという条件のために光学的に等方性で
ある材料が用いられて来ており、合成８４脂基板として
はポリメチルメタクリレート、ポリスルフォン、ポリカ
ーボネート、ポリビニルクロライド、ビニルクロライド
とビニルアセテートの共重合体等が提案されて来た。然
しなからこれら中でも成形性、（成形歪は複屈折の原因
になるので避けなければならない。）光学的透明性とい
った点でｌ’ｌとんどポリメチルメタアクリレートＣＰ
ＭＭＡ ）基板が用いられている。ポリメチルメタアク
リレ−）（ＰＨ仏）基板は一般に射出成形により得られ
る。然しなからポリメチルメタアクリレ−） （１％Ｍ
Ａ）の基板の場合、記録密度の向上が要求され媒体の高
度の（Ｎ顕性が要求されだして来ると以下の欠点が大き
な問題となって来る。
する透明基板上にテルル、セレン、ビスマス等の低融点
金属またこれら金属と有機物質の複合材を蒸着処理によ
シ記録層として設けられたものが一般的であり、このＮ
４に変調されたレーザー光が照射された際にその照射ス
ポット上でこのＩ−が溶融し、次に表面張力の影響で浴
融材料が収縮し、これにより縁を有する穴が記録層中に
形成される。従来このような、光学的記録媒体に用いら
れる基板はガラスまたは透明な合成樹脂基板であって、
且つ複屈折の無いという条件のために光学的に等方性で
ある材料が用いられて来ており、合成８４脂基板として
はポリメチルメタクリレート、ポリスルフォン、ポリカ
ーボネート、ポリビニルクロライド、ビニルクロライド
とビニルアセテートの共重合体等が提案されて来た。然
しなからこれら中でも成形性、（成形歪は複屈折の原因
になるので避けなければならない。）光学的透明性とい
った点でｌ’ｌとんどポリメチルメタアクリレートＣＰ
ＭＭＡ ）基板が用いられている。ポリメチルメタアク
リレ−）（ＰＨ仏）基板は一般に射出成形により得られ
る。然しなからポリメチルメタアクリレ−） （１％Ｍ
Ａ）の基板の場合、記録密度の向上が要求され媒体の高
度の（Ｎ顕性が要求されだして来ると以下の欠点が大き
な問題となって来る。
イ、耐熱性に劣るため、各種の機能膜蒸着又はスパッタ
ーに際して基板表面の温度が上ると、基板表面に凹凸が
生じるとか案内溝が平担になってしまう。この為案内溝
が機能しなくなる。
ーに際して基板表面の温度が上ると、基板表面に凹凸が
生じるとか案内溝が平担になってしまう。この為案内溝
が機能しなくなる。
口、熱可塑性樹脂であるためアクセス時の高速回転時、
遠心力によるクリープを生じる場合がある。
遠心力によるクリープを生じる場合がある。
また保管時に高温にさらされると変形が生じ面ブレが大
きくなる。
きくなる。
ハ、吸湿性が大であるため、吸湿変形が生じるとか機能
膜の酸化を助長するといった問題が生ずる。
膜の酸化を助長するといった問題が生ずる。
二、射出成形で製造される為、成形歪が有シ複屈折を生
じる。
じる。
ホ、屈折率の調整が困難であシ一つの屈折率に限定され
てしまう。
てしまう。
等である。
本願発明者らはこれら種々の問題点を一挙に解決すべく
各種の樹脂の基板としての特性を検討し従来不可能と考
えられていた熱硬化性樹脂、特にエポキシ樹脂から構成
される基板が優れているということを見い出すに到った
。即ちエポキシ樹脂、有機多塩基酸無水物、硬化促進剤
、変色防止剤から構成されるエポキシ樹脂の注型硬化物
を光学的記録媒体に適用した場合、予想をはるかに越え
た性能を示すことを見い出しこれらＫつき先に出願を行
った。（特開昭５９−２２２４８号公報）その後も引き
続き本願発明者らはエポキシ基板を用いた光学記録媒体
につき鋭意検討を加え、エポキシ樹脂および酸無水物硬
化剤を特定することにより低屈折率、高Ｔｇ、高耐候性
といった優れた基板の得られることを見い出し本発明を
達成するに致りた。
各種の樹脂の基板としての特性を検討し従来不可能と考
えられていた熱硬化性樹脂、特にエポキシ樹脂から構成
される基板が優れているということを見い出すに到った
。即ちエポキシ樹脂、有機多塩基酸無水物、硬化促進剤
、変色防止剤から構成されるエポキシ樹脂の注型硬化物
を光学的記録媒体に適用した場合、予想をはるかに越え
た性能を示すことを見い出しこれらＫつき先に出願を行
った。（特開昭５９−２２２４８号公報）その後も引き
続き本願発明者らはエポキシ基板を用いた光学記録媒体
につき鋭意検討を加え、エポキシ樹脂および酸無水物硬
化剤を特定することにより低屈折率、高Ｔｇ、高耐候性
といった優れた基板の得られることを見い出し本発明を
達成するに致りた。
以下に本発明の詳細につき述べる。
本発明に用いられるエポキシ樹脂としては常温で液状で
あって、加えてその分子構造骨格中にベンゼン核等の芳
香環を有していないものに特定される。芳香環を有して
いるエポキシ樹脂は芳香環のπ電子に起因して低屈折硬
化物とは成り得ない。
あって、加えてその分子構造骨格中にベンゼン核等の芳
香環を有していないものに特定される。芳香環を有して
いるエポキシ樹脂は芳香環のπ電子に起因して低屈折硬
化物とは成り得ない。
この為基板の屈折率が高くなってしまいレーザ光の反射
損失を招くとか従来の先行基板であるＰＭＭＡ基板の屈
折率が１６５０弱で設計されている基板周辺仕様を新た
な本のに設計変更しなければならないといった問題点が
生じて来る。また脂環式エポキシの如き高Ｔｇが得難い
とか、耐候性に劣るといった問題が若干生じて来る。
損失を招くとか従来の先行基板であるＰＭＭＡ基板の屈
折率が１６５０弱で設計されている基板周辺仕様を新た
な本のに設計変更しなければならないといった問題点が
生じて来る。また脂環式エポキシの如き高Ｔｇが得難い
とか、耐候性に劣るといった問題が若干生じて来る。
この様な樹脂としては水添ビスフェノール系樹脂、・ト
リメチロールプロパントリエポキサイド、グリセリンジ
エボキサイド、グリセリントリエポキサイド、ポリアル
キシンク２イコールジエボキサイド等の脂肪族エポキシ
樹脂、ジシクロペンタジェンジオキサイド、ビニルシク
ロヘキセンジオキサイド、リモネンジオキサイド、３・
４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル−３・
４−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレ
ート、ビス（３・４−エボキシ−６−メチルシクロヘキ
シルメチル）アジペート、ビス（２・３−エポキシシク
ロベンチル）エーテル、エチレングリコール−ビス（３
・４−エポキシへキサヒドロベンジルカーボネート）、
ビス（２・３−エポキシジシクロペンタジェニル）エー
テル、２＠３−エポキシジシクロペンタジェニル−３・
４−エポキシシクロヘキシルエーテル）、等の脂環式エ
ポキシ樹脂が単独もしくは併用して用いられる。これら
樹脂のうち低粘度で注捜し易い高Ｔｇ硬化物が得られる
という観点から脂環式エポキシ樹脂が好んで用いられる
。また本発明において硬化剤として用いられる有機多塩
基酸無水物もエポキシ樹脂の場合と同様芳香環を有せず
エポキシ樹脂との相溶性に優れた液状化合物に／ｌ？定
される。これら硬化剤としてはへキサヒドロ無水フタル
酸、テトラヒドロ無水７タル酸、メチルテトラヒドロ無
水フタール酸、エンドメチレンテトラヒドロ無水フター
ル酸、ポリアゼライン醒無水物等の脂肪族系又は脂環族
系のもの、が用いられ特にエポキシ樹脂との相溶性とい
った観点からヘキサヒドロフタリックアンハイドライド
およびまたはメチルへキサヒドロフタリックアンハイド
ライドが好ましい。
リメチロールプロパントリエポキサイド、グリセリンジ
エボキサイド、グリセリントリエポキサイド、ポリアル
キシンク２イコールジエボキサイド等の脂肪族エポキシ
樹脂、ジシクロペンタジェンジオキサイド、ビニルシク
ロヘキセンジオキサイド、リモネンジオキサイド、３・
４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル−３・
４−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレ
ート、ビス（３・４−エボキシ−６−メチルシクロヘキ
シルメチル）アジペート、ビス（２・３−エポキシシク
ロベンチル）エーテル、エチレングリコール−ビス（３
・４−エポキシへキサヒドロベンジルカーボネート）、
ビス（２・３−エポキシジシクロペンタジェニル）エー
テル、２＠３−エポキシジシクロペンタジェニル−３・
４−エポキシシクロヘキシルエーテル）、等の脂環式エ
ポキシ樹脂が単独もしくは併用して用いられる。これら
樹脂のうち低粘度で注捜し易い高Ｔｇ硬化物が得られる
という観点から脂環式エポキシ樹脂が好んで用いられる
。また本発明において硬化剤として用いられる有機多塩
基酸無水物もエポキシ樹脂の場合と同様芳香環を有せず
エポキシ樹脂との相溶性に優れた液状化合物に／ｌ？定
される。これら硬化剤としてはへキサヒドロ無水フタル
酸、テトラヒドロ無水７タル酸、メチルテトラヒドロ無
水フタール酸、エンドメチレンテトラヒドロ無水フター
ル酸、ポリアゼライン醒無水物等の脂肪族系又は脂環族
系のもの、が用いられ特にエポキシ樹脂との相溶性とい
った観点からヘキサヒドロフタリックアンハイドライド
およびまたはメチルへキサヒドロフタリックアンハイド
ライドが好ましい。
本発明に用いられる硬化促進剤としては２−エチル−４
−メチルイミダゾール、２−メチルイミ≦ｌ°ゾール、
ｌ−ベンジル−２−メチルイミダゾール等のイミダゾー
ルｐ、１＋８−ジアザビシクロウンデカン等の３級アミ
ン類、および１，８−ジアザビシクロ（５１４，０−ウ
ンデセン−７）の２−エチルへキシルカルボン酸塩、等
の塩類等が望ましい。
−メチルイミダゾール、２−メチルイミ≦ｌ°ゾール、
ｌ−ベンジル−２−メチルイミダゾール等のイミダゾー
ルｐ、１＋８−ジアザビシクロウンデカン等の３級アミ
ン類、および１，８−ジアザビシクロ（５１４，０−ウ
ンデセン−７）の２−エチルへキシルカルボン酸塩、等
の塩類等が望ましい。
また変色防止剤は本発明において重要であり、光透過安
定性に寄与するものである。これら変色防止剤としては
２−６−ジターシャリ−ブチルフェノール等のヒンダー
ドフェノール類、有機スルフィド類、有機フォスファイ
ト類、高級脂肪酸塩等が単独もしくは組合せて使用され
る。特に高温下での変色安定性を確保するためこれらの
併用効果は著しるしい場合がある。
定性に寄与するものである。これら変色防止剤としては
２−６−ジターシャリ−ブチルフェノール等のヒンダー
ドフェノール類、有機スルフィド類、有機フォスファイ
ト類、高級脂肪酸塩等が単独もしくは組合せて使用され
る。特に高温下での変色安定性を確保するためこれらの
併用効果は著しるしい場合がある。
上記化合物を配合して得られた樹脂組成物線次いで注型
成形に供せられる。注型硬化方法としては平板または片
面に案内溝を有する原板を置き他面の板との間に所望厚
みのキャビティを形成し、該キャビティ内に液状エポキ
シを注入し脱泡後加熱硬化させ、離型して基板を得ると
いう一般の注型硬化方法である。また基板形成に際して
注型用型内面にイオンブレーティング法、スパッタリ７
グ法、真空蒸着法等の薄膜形成法を用いて弗化マグネシ
ウム（ＭｇＦ、）弗化カルシウム（ＣａＦ２ ） 等の
薄膜を形成しておき注型硬化離型を行う方法は容易に離
型を行う為に有効であり表面精度の優れた基板が得られ
る。
成形に供せられる。注型硬化方法としては平板または片
面に案内溝を有する原板を置き他面の板との間に所望厚
みのキャビティを形成し、該キャビティ内に液状エポキ
シを注入し脱泡後加熱硬化させ、離型して基板を得ると
いう一般の注型硬化方法である。また基板形成に際して
注型用型内面にイオンブレーティング法、スパッタリ７
グ法、真空蒸着法等の薄膜形成法を用いて弗化マグネシ
ウム（ＭｇＦ、）弗化カルシウム（ＣａＦ２ ） 等の
薄膜を形成しておき注型硬化離型を行う方法は容易に離
型を行う為に有効であり表面精度の優れた基板が得られ
る。
かくして得られる基板（平板または案内溝つき基板）は
芳香環を硬化物中に含まない為屈折率１゜５３以下の低
屈折率基板であるため従来のアクリル基板仕様がすべて
そのまま利用可能となる他高Ｔｇ品が得られるため機能
膜形成時の高温に耐えるとか、耐湿熱性に優れていると
か、耐光性に優れているとか多くの優れた性能を併せ有
する基板であった。得られた平板または案内溝を有する
基板の表面に次いで前述の如き機能！ｌすを施こし光学
的記録媒体が得られる優れた機能を有する光学的光記録
媒体であった。
芳香環を硬化物中に含まない為屈折率１゜５３以下の低
屈折率基板であるため従来のアクリル基板仕様がすべて
そのまま利用可能となる他高Ｔｇ品が得られるため機能
膜形成時の高温に耐えるとか、耐湿熱性に優れていると
か、耐光性に優れているとか多くの優れた性能を併せ有
する基板であった。得られた平板または案内溝を有する
基板の表面に次いで前述の如き機能！ｌすを施こし光学
的記録媒体が得られる優れた機能を有する光学的光記録
媒体であった。
実施例
以下の配合のエポキシ樹脂、有機多塩基酸無水物、硬化
促進剤、変色防止剤から成る組成物を調整した。
促進剤、変色防止剤から成る組成物を調整した。
脂環式エポキシ樹脂
（（３，４’−エボキンシクロヘキシルメチル）−３，
４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート 〕 １００重量部 メチルへキサヒドロフタール酸無水物 １２５ｆｉｉ部 １．８−ジアザビシクロ（５，４，０−ウンデセン−７
）、の２−エチルへキシルカルボン酸塩４重量部 ２．６−ジターシャリ−ブチル−ｐ−クレゾール１重量
部 該エポキシ樹脂組成物をＭｇＦ ２によ＃）離型処理さ
れた片面案内溝つきニッケル板とガラス板から構成され
た直径３０５ｍ、厚み１．５瓢のキャビテイ内に注入し
１２０℃２時ｆ１４１硬化後、離型し、片面案内溝つき
透明基板を得た。
４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート 〕 １００重量部 メチルへキサヒドロフタール酸無水物 １２５ｆｉｉ部 １．８−ジアザビシクロ（５，４，０−ウンデセン−７
）、の２−エチルへキシルカルボン酸塩４重量部 ２．６−ジターシャリ−ブチル−ｐ−クレゾール１重量
部 該エポキシ樹脂組成物をＭｇＦ ２によ＃）離型処理さ
れた片面案内溝つきニッケル板とガラス板から構成され
た直径３０５ｍ、厚み１．５瓢のキャビテイ内に注入し
１２０℃２時ｆ１４１硬化後、離型し、片面案内溝つき
透明基板を得た。
比較例
エポキシ樹脂をビスフェノールＡ系樹脂とし以下の配合
からなる組成物を調製した。
からなる組成物を調製した。
ビスフェノールＡ系拉（Ｍｎ
（エピコート８２８ ） １００重量部
メチルへキサヒドロフタール酸無水物 ９０重量部 １．８ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７の
２エチルへヤシルカルボヤシレート塩４重量部 ２．６−ジターシャリ−ブチルｐ−クレゾール１重量部 該エポキシ樹脂組成物を実施例と同様に硬化せしめ、片
面案内溝つき透明基板を得た。
メチルへキサヒドロフタール酸無水物 ９０重量部 １．８ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７の
２エチルへヤシルカルボヤシレート塩４重量部 ２．６−ジターシャリ−ブチルｐ−クレゾール１重量部 該エポキシ樹脂組成物を実施例と同様に硬化せしめ、片
面案内溝つき透明基板を得た。
’５１４ｔ’＋例、比較例で得たエポキシ樹脂組成物の
注入硬化物からなる透明基板の緒特性を第１表に示す。
注入硬化物からなる透明基板の緒特性を第１表に示す。
隋 １ 表
第１表を見てもわかるように本発明により得られたエポ
キシ樹脂組成物の注入硬化物から得られた透明基板は屈
折率が［の透明基板に近く、耐熱性に優れている事がわ
かる。
キシ樹脂組成物の注入硬化物から得られた透明基板は屈
折率が［の透明基板に近く、耐熱性に優れている事がわ
かる。
実施例で得られた基板の案内溝面上に常法によりスパッ
タリング法によりＴｅ薄膜を形成し耐熱性に優れた高度
に信頼性のある光学的記録媒体を得た。
タリング法によりＴｅ薄膜を形成し耐熱性に優れた高度
に信頼性のある光学的記録媒体を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、平板または案内溝を有する合成樹脂の透明基板の表
面に情報記録層を設けて成り、情報をレーザーを用いて
光学的に書き込み読み出しすることが出来る情報記録媒
体において、該透明基板が、分子構造中に芳香環を含ま
ないエポキシ樹脂、分子構造中に芳香環を含まない有機
多塩基酸無水物、硬化促進剤、変色防止剤から成るエポ
キシ樹脂組成物の注型硬化物であり、且つその屈折率が
１．５３以下であることを特徴とした光学的記録媒体。 ２、液状エポキシ樹脂が脂環式エポキシおよび／または
脂肪族エポキシ樹脂である特許請求の範囲第１項記載の
光学的記録媒体。 ３、有機多塩基酸無水物がヘキサヒドロフタリックアン
ハイドライドおよび／またはメチルヘキサヒドロフタリ
ックアンハイドライドである特許請求の範囲第１項また
は第２項記載の光学的記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59207167A JPS6185648A (ja) | 1984-10-04 | 1984-10-04 | 光学的記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59207167A JPS6185648A (ja) | 1984-10-04 | 1984-10-04 | 光学的記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6185648A true JPS6185648A (ja) | 1986-05-01 |
Family
ID=16535336
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59207167A Pending JPS6185648A (ja) | 1984-10-04 | 1984-10-04 | 光学的記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6185648A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6192450A (ja) * | 1984-10-11 | 1986-05-10 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 光学的記録媒体用基板および基板成形方法 |
| JPS6192451A (ja) * | 1984-10-11 | 1986-05-10 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 光学的記録媒体用基板 |
-
1984
- 1984-10-04 JP JP59207167A patent/JPS6185648A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6192450A (ja) * | 1984-10-11 | 1986-05-10 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 光学的記録媒体用基板および基板成形方法 |
| JPS6192451A (ja) * | 1984-10-11 | 1986-05-10 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 光学的記録媒体用基板 |
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