JPS6192451A - 光学的記録媒体用基板 - Google Patents
光学的記録媒体用基板Info
- Publication number
- JPS6192451A JPS6192451A JP59211493A JP21149384A JPS6192451A JP S6192451 A JPS6192451 A JP S6192451A JP 59211493 A JP59211493 A JP 59211493A JP 21149384 A JP21149384 A JP 21149384A JP S6192451 A JPS6192451 A JP S6192451A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- resin
- epoxy resin
- cured
- optical recording
- Prior art date
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/253—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
- G11B7/2533—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates comprising resins
Landscapes
- Epoxy Resins (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光ディスク、光磁気ディスク等に代表される光
学的記録媒体に用いられる基板に関するものである。詳
しくは脂環式エポキシ樹脂、分子構造中に芳香環を含ま
ない有機多塩基酸無水物、硬化促進剤、変色防止剤を主
成分とする配合組成物を用いて得られる注型基板であっ
てその表面の片面もしくは両面に樹脂硬化物被覆層が施
こされた光学的記録媒体用基板に係るものである。
学的記録媒体に用いられる基板に関するものである。詳
しくは脂環式エポキシ樹脂、分子構造中に芳香環を含ま
ない有機多塩基酸無水物、硬化促進剤、変色防止剤を主
成分とする配合組成物を用いて得られる注型基板であっ
てその表面の片面もしくは両面に樹脂硬化物被覆層が施
こされた光学的記録媒体用基板に係るものである。
従来請ゆる光学的記録媒体に用いられる基板はガラスま
たは透明な合成樹脂基板であっ工、合成樹脂基板の場合
、複屈折がないという条件があるため光学的に、可及的
に等方性である基板が採用されて来ておシポリメチルメ
タアクリレー） （ＰＭＭＡ） 、ポリスルフォン（Ｐ
Ｓ）、ポリカーボネート（ＰＣ） 、ビニルクロライド
（ＶＣ）とビニルアセテ−）（ＶＡＣ）の共重合体等の
射出成形基板が提案されて来た。然しなからこれら合成
樹脂基板の中でも、成形性、光学的透明性といった点か
らｐｍ射出成形基板がほとんどである。しかしながらへ
風の基板の場合、記録密度の向上に伴ない媒体の高度の
信頼性が要求され出して来ると以下の欠点が大きな問題
となって来る。
たは透明な合成樹脂基板であっ工、合成樹脂基板の場合
、複屈折がないという条件があるため光学的に、可及的
に等方性である基板が採用されて来ておシポリメチルメ
タアクリレー） （ＰＭＭＡ） 、ポリスルフォン（Ｐ
Ｓ）、ポリカーボネート（ＰＣ） 、ビニルクロライド
（ＶＣ）とビニルアセテ−）（ＶＡＣ）の共重合体等の
射出成形基板が提案されて来た。然しなからこれら合成
樹脂基板の中でも、成形性、光学的透明性といった点か
らｐｍ射出成形基板がほとんどである。しかしながらへ
風の基板の場合、記録密度の向上に伴ない媒体の高度の
信頼性が要求され出して来ると以下の欠点が大きな問題
となって来る。
１）耐熱性に劣るため、基板上に各種機能膜をスパック
リング、蒸着等の手法で形成するに際して基板表面の温
度が上昇し変形が生じる。特に案内溝つき基板の場合溝
が平担化してしまう。
リング、蒸着等の手法で形成するに際して基板表面の温
度が上昇し変形が生じる。特に案内溝つき基板の場合溝
が平担化してしまう。
２）熱可塑性樹脂であるためアクセス時の高速回転に際
しての遠心力によるクリープを生じ易く、面振れの原因
となる。
しての遠心力によるクリープを生じ易く、面振れの原因
となる。
３）吸湿性が大きく、吸湿変形を生じるとか機能膜の酸
化を助長するといった問題が生じる。
化を助長するといった問題が生じる。
４）射出成形で製造する為、成形歪みが残シ易く複屈折
を生ずる記録密度の増大に伴ない光学的等方性の要求は
一段と厳しいものとなりつつある。
を生ずる記録密度の増大に伴ない光学的等方性の要求は
一段と厳しいものとなりつつある。
等である。
本願発明者らはかかる欠点を克服すべく、各種樹脂を用
いた基板について検討を行ない、エポキシ樹脂、有機多
塩基酸無水物、硬化促進剤、変色防止剤を生成としてな
るエポキシ樹脂組成物を注型硬化せしめて得られる基板
が光学記録媒体用基板として上記欠点をすべて解消出来
ることを見い出し先に出願した。その後もこの方法につ
き更に検討を加え改良を加えて来た。即ち以下の改良が
必要であることが判明した。即ち、 １）従来ｍ基板で設計されて来た光学設計仕様をそのま
ま踏襲しようとした場合可及的にｍ基板に近い屈折率の
基板が必要となる即ち低屈折率基板が要求される。また
レーザー書き込み時の反射損失を減少せしめるという点
からも低屈折率化は必要である。
いた基板について検討を行ない、エポキシ樹脂、有機多
塩基酸無水物、硬化促進剤、変色防止剤を生成としてな
るエポキシ樹脂組成物を注型硬化せしめて得られる基板
が光学記録媒体用基板として上記欠点をすべて解消出来
ることを見い出し先に出願した。その後もこの方法につ
き更に検討を加え改良を加えて来た。即ち以下の改良が
必要であることが判明した。即ち、 １）従来ｍ基板で設計されて来た光学設計仕様をそのま
ま踏襲しようとした場合可及的にｍ基板に近い屈折率の
基板が必要となる即ち低屈折率基板が要求される。また
レーザー書き込み時の反射損失を減少せしめるという点
からも低屈折率化は必要である。
２）耐熱性という観点からも更に一段のガラス転移点（
Ｔｇ）の向上が必要である。
Ｔｇ）の向上が必要である。
３）耐擦過傷性という観点から表面硬度の向上が必要で
ある。
ある。
本願発明者らはこれらの改良を達成すべく鋭意努力を重
ね本願発明に到達した。即ち脂環式エポキシ樹脂、芳香
環を分子構造中に含まない有機多塩基酸無水物、硬化促
進剤、変色防止剤、から成る特定されたエポキシ樹脂注
型硬化物が低屈折率化および高Ｔｇ化に大きく寄与する
こと、両面又は片面にハードコート層を設けることで上
記の改良が可能であることを見い出し本願発明に到達し
た烏のである。
ね本願発明に到達した。即ち脂環式エポキシ樹脂、芳香
環を分子構造中に含まない有機多塩基酸無水物、硬化促
進剤、変色防止剤、から成る特定されたエポキシ樹脂注
型硬化物が低屈折率化および高Ｔｇ化に大きく寄与する
こと、両面又は片面にハードコート層を設けることで上
記の改良が可能であることを見い出し本願発明に到達し
た烏のである。
以下に詳細につき述べる。
本発明に用いられるエポキシ樹脂は常温で液状であって
且つその分子構造骨格中にベンゼン環等の芳香環を含ま
ない脂環式樹脂であることが必須である。芳香環を含む
エポキシ樹脂の場合芳香環のπ電子に起因して高屈折率
の方向にシフトしてしまい高屈折率基板になりてしまう
。また脂環式エポキシ樹脂は一般にシクロヘキサン環に
［ｍエポキシ基があるため剛直な分子構造となるため、
好ましい高Ｔｇ硬化物が得られる。また耐候性に優れる
といった副次的効果も期待される。この様な樹脂として
はジシクロペンタジェンジオキサイド、ビニルシクロヘ
キセンジオキサイド、リモネンジオキサイド、３・４−
エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル−３・４−
エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレート
、ビス（３・４−エポキシ−６−メチルシクロへ午シル
メチル）アジペート、ビス（２・３−エポキシシクロペ
ンチル）エーテル、エチレングリコール−ビス（３・４
−エポキシへキサヒドロベンジルカーボネート）、ビス
（２・３−エポキシジシクロペンタジェニル）エーテル
、２・３−エポキシジシクロペンタジェニル−３・４−
エポキシシクロヘキシルエーテル）、等の脂環式エポキ
シ樹脂が単独または併用して用いられる。特に次式で示
される脂環式エポキシ樹脂は比較的低粘度であるため注
型作業性に優れ高Ｔｇ硬化物が得られるという％徴のた
め好んで用いられる。
且つその分子構造骨格中にベンゼン環等の芳香環を含ま
ない脂環式樹脂であることが必須である。芳香環を含む
エポキシ樹脂の場合芳香環のπ電子に起因して高屈折率
の方向にシフトしてしまい高屈折率基板になりてしまう
。また脂環式エポキシ樹脂は一般にシクロヘキサン環に
［ｍエポキシ基があるため剛直な分子構造となるため、
好ましい高Ｔｇ硬化物が得られる。また耐候性に優れる
といった副次的効果も期待される。この様な樹脂として
はジシクロペンタジェンジオキサイド、ビニルシクロヘ
キセンジオキサイド、リモネンジオキサイド、３・４−
エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル−３・４−
エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレート
、ビス（３・４−エポキシ−６−メチルシクロへ午シル
メチル）アジペート、ビス（２・３−エポキシシクロペ
ンチル）エーテル、エチレングリコール−ビス（３・４
−エポキシへキサヒドロベンジルカーボネート）、ビス
（２・３−エポキシジシクロペンタジェニル）エーテル
、２・３−エポキシジシクロペンタジェニル−３・４−
エポキシシクロヘキシルエーテル）、等の脂環式エポキ
シ樹脂が単独または併用して用いられる。特に次式で示
される脂環式エポキシ樹脂は比較的低粘度であるため注
型作業性に優れ高Ｔｇ硬化物が得られるという％徴のた
め好んで用いられる。
（Ｘは水素原子またはアルキル基を示す。）まな本発明
において硬化剤として用いられる有機多塩基酸無水物も
エポキシ樹脂の場合と同様の理由から芳香環を有せずエ
ポキシ樹脂との相溶性に優れた液状化合物に特定される
。これら硬化剤としてはへキサヒドロ無水フタル酸、テ
トラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタ
ール酸、工／ドメチレンテトラヒドロ無水フタール酸、
ポリアゼライン酸無水物等の脂肪族系又は脂環族系のも
の、が用いられ特にエポキシ樹脂との相溶性といった観
点からヘキサヒドロフタリックアンハイドライドおよび
またはメチルヘキサヒドロフタリックアンハイドライド
が好ましい。
において硬化剤として用いられる有機多塩基酸無水物も
エポキシ樹脂の場合と同様の理由から芳香環を有せずエ
ポキシ樹脂との相溶性に優れた液状化合物に特定される
。これら硬化剤としてはへキサヒドロ無水フタル酸、テ
トラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタ
ール酸、工／ドメチレンテトラヒドロ無水フタール酸、
ポリアゼライン酸無水物等の脂肪族系又は脂環族系のも
の、が用いられ特にエポキシ樹脂との相溶性といった観
点からヘキサヒドロフタリックアンハイドライドおよび
またはメチルヘキサヒドロフタリックアンハイドライド
が好ましい。
本発明に用いられる硬化促進剤としては２−エチル−４
−メチルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、１−
ベンジル−２−メチルイミダゾール等のイミダゾール類
、１．８−ジアザビシクロウンデカン等の３級アミン類
、および１，８−ジアザビシクロ（５，４，０−ウンデ
セン−７）２−エチルへキシルカルボン酸塩、等の塩類
等が望ましい。
−メチルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、１−
ベンジル−２−メチルイミダゾール等のイミダゾール類
、１．８−ジアザビシクロウンデカン等の３級アミン類
、および１，８−ジアザビシクロ（５，４，０−ウンデ
セン−７）２−エチルへキシルカルボン酸塩、等の塩類
等が望ましい。
また変色防止剤は本発明において重要であシ、光透過安
定性に寄与するものである。これら変色防止剤としては
２−６−ジターシャリ−ブチルフェノール等のヒンダー
ドフェノール類、有機スルフィド類、有機フォスファイ
ト類、高級脂肪酸塩等が単独もしくは組合せて使用され
る。特に高温下での変色安定性を確保するためこれらの
併用効果は著じるしい場合がある。
定性に寄与するものである。これら変色防止剤としては
２−６−ジターシャリ−ブチルフェノール等のヒンダー
ドフェノール類、有機スルフィド類、有機フォスファイ
ト類、高級脂肪酸塩等が単独もしくは組合せて使用され
る。特に高温下での変色安定性を確保するためこれらの
併用効果は著じるしい場合がある。
また本願発明において少くともエポキシ樹脂注型硬化基
板の少くとも片面に形成される被覆樹脂層は紫外線電子
線等の放射線の照射により硬化せしめた樹脂層または加
熱により硬化せしめられた能である。また塗膜形成法と
してはエポキシ樹力旨基板を得た後片面または両面にス
ピンナー法、ディップ法、ロールコータ−法等の一般的
手法で塗布した後乾燥硬化せしめるのが通常であるが、
予め２枚のガラス板の少くとも１枚の片面に樹脂硬化層
を形成しておき、該塗膜面を内側にしてキャビティを形
成し、エポキシ樹脂を該キャビティ内で加熱硬化せしめ
、脱型時に硬化塗膜をエポキシ樹脂基板面に転写せしめ
、転写樹脂層を有する基板も、被覆層が極めて平滑性に
富むという点で優れた基板となる。紫外線硬化樹脂とし
てはその硬化塗膜が鉛娠硬度で４Ｈ以上になるものであ
ればすべて使用可能であるがエポキシアクリレート、ウ
レタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリ
エーテルアクリレート等のオリゴマーを多官能アクリレ
ートモノマーに溶解せしめた紫外線硬化樹脂系が好んで
用いられる。
板の少くとも片面に形成される被覆樹脂層は紫外線電子
線等の放射線の照射により硬化せしめた樹脂層または加
熱により硬化せしめられた能である。また塗膜形成法と
してはエポキシ樹力旨基板を得た後片面または両面にス
ピンナー法、ディップ法、ロールコータ−法等の一般的
手法で塗布した後乾燥硬化せしめるのが通常であるが、
予め２枚のガラス板の少くとも１枚の片面に樹脂硬化層
を形成しておき、該塗膜面を内側にしてキャビティを形
成し、エポキシ樹脂を該キャビティ内で加熱硬化せしめ
、脱型時に硬化塗膜をエポキシ樹脂基板面に転写せしめ
、転写樹脂層を有する基板も、被覆層が極めて平滑性に
富むという点で優れた基板となる。紫外線硬化樹脂とし
てはその硬化塗膜が鉛娠硬度で４Ｈ以上になるものであ
ればすべて使用可能であるがエポキシアクリレート、ウ
レタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリ
エーテルアクリレート等のオリゴマーを多官能アクリレ
ートモノマーに溶解せしめた紫外線硬化樹脂系が好んで
用いられる。
また薄い硬化塗膜を形成する目的でこれら樹脂系を溶剤
に希釈して塗布硬化せしめる方法も適宜用いられる方法
である。
に希釈して塗布硬化せしめる方法も適宜用いられる方法
である。
９また光開始剤としては２，２−ジメトキシ−２−フェ
ニルアセトフェノン、ベンゾインイソブチルエーテル等
の比較的長波長領域での感度の良好な光開始剤またはそ
の組合せが好ましい。また、強じん性附与目的で、主成
分１００重量部にポリチオール化合物を２〜１０、好ま
しくは５重量部程度添加することが出来る。１０重量部
を越える量の添加は、耐熱性、硬度、ガラス転移点等に
おいて好ましい結果が得られない。さらに必要に応じ紫
外線硬化樹脂系に安定剤、変色防止剤、レベリング剤、
密着性改良剤等を添加しても良い。硬化層の厚みは５〜
１５μの膜厚が好ましく紫外線硬化樹脂の場合５μ以下
の厚みの場合酸素禁止効果により硬化不良になる危険性
があシ、これよシ１５μ以上の場合、光学的にレーザー
光の複屈折が懸念される。また該硬化層の屈折率は光学
的見地から可及的にエポキシ樹脂硬化物と近似している
ことが好ましい。
ニルアセトフェノン、ベンゾインイソブチルエーテル等
の比較的長波長領域での感度の良好な光開始剤またはそ
の組合せが好ましい。また、強じん性附与目的で、主成
分１００重量部にポリチオール化合物を２〜１０、好ま
しくは５重量部程度添加することが出来る。１０重量部
を越える量の添加は、耐熱性、硬度、ガラス転移点等に
おいて好ましい結果が得られない。さらに必要に応じ紫
外線硬化樹脂系に安定剤、変色防止剤、レベリング剤、
密着性改良剤等を添加しても良い。硬化層の厚みは５〜
１５μの膜厚が好ましく紫外線硬化樹脂の場合５μ以下
の厚みの場合酸素禁止効果により硬化不良になる危険性
があシ、これよシ１５μ以上の場合、光学的にレーザー
光の複屈折が懸念される。また該硬化層の屈折率は光学
的見地から可及的にエポキシ樹脂硬化物と近似している
ことが好ましい。
以下に実施例を示す。
実施例１
離型処理したガラス板２枚を用い３方をスペーサーでシ
ールしたキャビティに処方１のエポキシ濁脂を注入し、
１００℃、３時間硬化せしめ、エポキシ注型板を得た。
ールしたキャビティに処方１のエポキシ濁脂を注入し、
１００℃、３時間硬化せしめ、エポキシ注型板を得た。
処 方 １
脂環式エポキシ
（（３’、４’−エポキシシクロヘキシルメチル）−３
，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート
１００１．５プ
ロパンジオール ３メチルへキサヒド
ロフタル酸無水物 １２２安 定
剤 １゜１．８ジア
ザビシクロ（５，４，０−ウンデセン）−７−２エチル
へキシルカルボン酸塩６次に注型板の両面もしくは片面
に処方２の紫外線硬化樹脂をバーコーク−にて均一に塗
布し、７０℃、１０分乾燥後高圧水銀灯を用い該塗膜を
硬化せしめ、両面もしくは片面にハードコート層が形成
されたエポキシ板を得た。
，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート
１００１．５プ
ロパンジオール ３メチルへキサヒド
ロフタル酸無水物 １２２安 定
剤 １゜１．８ジア
ザビシクロ（５，４，０−ウンデセン）−７−２エチル
へキシルカルボン酸塩６次に注型板の両面もしくは片面
に処方２の紫外線硬化樹脂をバーコーク−にて均一に塗
布し、７０℃、１０分乾燥後高圧水銀灯を用い該塗膜を
硬化せしめ、両面もしくは片面にハードコート層が形成
されたエポキシ板を得た。
処 方 ２
ジペンタエリスリトールへキサアクリレート ９
０ジペンタエリスリトールペンタアクリレート
１０１−ヒドロキミ゛ヘキシルフェニルケトン
６イソプロビルアルコール ４００
トルエン １００ レベリング剤 ０．４さら
に該エポキシ板を加工処理し、表面層が鉛筆硬度で５Ｈ
以上、１００μスチールウールで１００回以上研磨して
もキズの認められない光学的記録媒体用基板が得られた
。
０ジペンタエリスリトールペンタアクリレート
１０１−ヒドロキミ゛ヘキシルフェニルケトン
６イソプロビルアルコール ４００
トルエン １００ レベリング剤 ０．４さら
に該エポキシ板を加工処理し、表面層が鉛筆硬度で５Ｈ
以上、１００μスチールウールで１００回以上研磨して
もキズの認められない光学的記録媒体用基板が得られた
。
実施例２
ガラス板上に処方２の樹脂を実施例１と同様に塗布硬化
せしめ、該塗膜を形成したガラス板を少なくとも１枚用
い、塗膜面を内側に向けた２枚のガラス板により形成さ
れたキャビティに処方１のエポキシ樹脂を注入、実施例
１と同様に硬化せしめ両面もしくは片面にハードコート
層が転写形成されたエポキシ注型板を得、加工処理し、
表面硬度の優れた光学的記録媒体用基板を得た。
せしめ、該塗膜を形成したガラス板を少なくとも１枚用
い、塗膜面を内側に向けた２枚のガラス板により形成さ
れたキャビティに処方１のエポキシ樹脂を注入、実施例
１と同様に硬化せしめ両面もしくは片面にハードコート
層が転写形成されたエポキシ注型板を得、加工処理し、
表面硬度の優れた光学的記録媒体用基板を得た。
実施例３
２枚のガラス板の夫々片面に、１５％のへキサメチロー
ルメラミンを主成分として含有する水溶液を、スピンナ
ーを用いて均一に塗布し９５℃の乾燥機で水を乾燥除去
し次いで１２０℃１時間、１５０℃１時間加熱硬化を行
ないガラス面上に夫々７＃Ｉの硬化塗膜を形成した。次
いで該ガラス板を塗膜面が対向するようにしてキャビテ
ィを形成し、処方１のエポキシ樹脂を注入し、１２０℃
２時間加熱硬化せしめ脱型を行った。
ルメラミンを主成分として含有する水溶液を、スピンナ
ーを用いて均一に塗布し９５℃の乾燥機で水を乾燥除去
し次いで１２０℃１時間、１５０℃１時間加熱硬化を行
ないガラス面上に夫々７＃Ｉの硬化塗膜を形成した。次
いで該ガラス板を塗膜面が対向するようにしてキャビテ
ィを形成し、処方１のエポキシ樹脂を注入し、１２０℃
２時間加熱硬化せしめ脱型を行った。
得られた、両表面にメラミン樹脂硬化層が転写された３
層構成のエポキシ注型板は表面硬度に優れた基板であり
光学的記録媒体用基板として使用可能なものであった。
層構成のエポキシ注型板は表面硬度に優れた基板であり
光学的記録媒体用基板として使用可能なものであった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）片面もしくは両面に同種または異種の硬化した樹脂
層が形成された脂環式エポキシ樹脂、芳香環を含まない
有機多塩基酸無水物、硬化促進剤から成るエポキシ樹脂
注型硬化物であることを特徴とする光学的記録媒体用基
板。 ２）基板表面に形成された硬化樹脂塗膜が型面から転写
された塗膜である特許請求の範囲第１項記載の光学的記
録媒体用基板。 ３）硬化樹脂層が紫外線または電子線の照射により硬化
せしめられた樹脂層である特許請求の範囲第１項または
第２項記載の光学的記録媒体用基板。 ４）硬化樹脂層が加熱硬化型樹脂であって加熱により硬
化せしめられた硬化樹脂層である特許請求の範囲第１項
または第２項記載の光学的記録媒体用基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59211493A JPS6192451A (ja) | 1984-10-11 | 1984-10-11 | 光学的記録媒体用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59211493A JPS6192451A (ja) | 1984-10-11 | 1984-10-11 | 光学的記録媒体用基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6192451A true JPS6192451A (ja) | 1986-05-10 |
Family
ID=16606860
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59211493A Pending JPS6192451A (ja) | 1984-10-11 | 1984-10-11 | 光学的記録媒体用基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6192451A (ja) |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS5922248A (ja) * | 1982-07-28 | 1984-02-04 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | プラスチツク製光デイスク |
| JPS59140099A (ja) * | 1983-02-01 | 1984-08-11 | Tdk Corp | 光記録媒体 |
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| JPS60197721A (ja) * | 1984-03-21 | 1985-10-07 | Hitachi Chem Co Ltd | エポキシ樹脂用硬化剤 |
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1984
- 1984-10-11 JP JP59211493A patent/JPS6192451A/ja active Pending
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