JPS59140099A - 光記録媒体 - Google Patents

光記録媒体

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JPS59140099A
JPS59140099A JP58015229A JP1522983A JPS59140099A JP S59140099 A JPS59140099 A JP S59140099A JP 58015229 A JP58015229 A JP 58015229A JP 1522983 A JP1522983 A JP 1522983A JP S59140099 A JPS59140099 A JP S59140099A
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JP
Japan
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optical recording
recording medium
dye
recording layer
group
Prior art date
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Pending
Application number
JP58015229A
Other languages
English (en)
Inventor
Noriyoshi Nanba
憲良 南波
Shigeru Asami
浅見 茂
Akihiko Kuroiwa
黒岩 顕彦
Shiro Nakagawa
士郎 中川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP58015229A priority Critical patent/JPS59140099A/ja
Publication of JPS59140099A publication Critical patent/JPS59140099A/ja
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  • Organic Chemistry (AREA)
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
■ 発明の背景 技術分野 本発明は、光記録媒体、待にヒートモードの光記録媒体
に関する。 先行技術 光記録媒体は、媒体と書き込みないしdcみ出しへ・ラ
ドが非接触であるので、記録媒体が摩耗劣化しないとい
う特徴をもち、このため、神々の光記録媒体の開発研究
が行わ、hている。 このような光記録杯体のうち、暗箪による画像処理か不
要である等の点で、ヒートモード光記録媒体の開発が活
発になっている。 このヒートセードの光記録媒体は、記録光を〃(とじて
利用する光記録媒体であり、その1例として、レーリー
等1の記録光で媒体の一部を融m、除去等して、ビット
と称される小穴を形成して書き込みを行い、このピット
により情報を記録し、このピットを読み出し光で検出し
てI(j(、み出しを行うものかある。 そして、このよ5なピット形成型の媒体の1例として、
基体上に、光吸収色素からなる記録層を設層して、色素
を’A!It llf してピットを形成するものや、
ニトロセルIJ−ス等の自己酸化性化合物と光吸収色素
とを含む配録層を設層し、ニトロセルロース寺を分解さ
せてビットを形成するものや、熱−oJ塑性樹脂と光吸
収色素とからなる記録層を塗設し、樹脂および色素を融
解してビットを形成するものなどが知られている。 しかし、このような記録層を、アク1jル樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂等の通常の成型基体上に塗布設層しよう
とすると、用いる有俵溶剤により基体がおかされ、記録
j−の反射率が低下して、読み出しのS/N比が低下す
るという不都合かある、 そして、このような現象は、
透明な基体の裏面1則から基体をとおして書き込みおよ
び読み出しを行うようなとき顕在下する。 このような場合、基体衣■に、予め、有(歳チタイ、−
ト化合物の加水分解物等の下地層を形成しておけば、こ
のような不都合が解消するが、製造工程数がふえ、コス
ト=となる。 また、−F記のような通常の樹脂基体では、表面性、熱
伝導度、記録層塗膜との親和性等の神々の点からであろ
うと推察されるが、十分高い書き込み感度が得られない
。 さらに、機械的強度や、長期的な寸法安定性についても
満足できない。 加えて、記録層からは、酸素や水蒸気を遮断して、酸素
、水蒸気等による層中の色素の酸化劣化を防止すること
が好ましいが、アクリル樹脂や、ポリカーボネートは、
酸素や水蒸気の透過量が大きく、色素の酸化劣化を生じ
る。 また、これらは紫外線吸収剤を基体樹脂中に練りこむ等
の必要がある。 ■ 発明の目的 本発明は、このような実状に逓みなされたものであって
、その主たる1」的は、記録ノーを塗設する際の溶媒に
対する耐(Iがだかく、読み出しの87+q比の低下が
なく、別途下地ノーを形成−する必要かなく、1−かも
、十分商い書き込み感度かえられ、さらに十分な機械的
強度と寸法安定性をもち、酸素や水蒸気や、紫外線に対
するa断能が大きい、新規は基体を提供することにある
1゜ このよ)な目的は、下記の本発明によって達成される。 すなわち、本発明は1色素または色素組成物からなる記
録層を、エホキシ佃廁からなる基体上に設層してなるこ
とを特徴とする光6己録媒体である。 ■ フロす」の具体的4み欣 以下1本56明の具体的結成について、1+細に「況り
」する。 本元明の丸ML録媒体の記録層中には1色系か金山され
る。 用いる色糸には、1ケに促J lneはなく、〃ルボシ
アニ/糸、ノ〃ロシ゛rニン系、犬/タロシTニノ糸、
コリン7fいしコロール糸、アントラキノン系、アゾ示
、トリフェニルメタン系、ビリリウムないしチアピリリ
ウム塩禾等の色素はいずれも丈用ciJ能である。 ただ、このよう7f甲で、本元明による効果か大きいの
は、カルホシノニ7色系である。 〃ルボシーfニア色糸の中では下記式Ll〕で2トされ
るもσ)か幻ましいっ 式[,1) Φ−1.=(M    (x−)nl −ヒmj式しIJにおいで、V侘よびll)は、芳1”
t’ 族jX 、 iyl L ハヘン1!ン↓〜!、
t7ルン廃。 フェナントレン塚等が4f18してもよい1ンドール堤
、ナアソー)L/J米、オ;セリンール塚、セレナゾー
ル環、イミタゾール塚、ビ11ジン繰等をあられす。 これらΦおよびVは、同一でも九ILっていてもよいが
、通常は同一σ量ものであり、これらの塚には、値々の
直換基がRj合していてもよい。 なお、Φは、環中の
家系原子か十屯向をもち、Vは、環中の51系原子が中
11のものである。 これらψおよびVの肯楯堤としては、下Ml−”の式〔
ΦI〕〜〔ψX■〕で示されるものであることか好まし
い。 なお、下記においては、構造はψのルで示される。 (R,l)。 (ll4)q ぎ lt1 〔Φ■〕 R工 〔Φ■〕 (it、、)q 〔ΦX〕 〔ψX〕 1 〔ΦX1ll ) l′ti このような谷抽塚において、環中の窒糸原子(イミター
ゾール城では2個の簀累原子)に結合する基れ□(R工
、itI’)は、直換または非置換のアルキル基または
ア、リール基である。 このような環中の窒素原子に結合する基jL1. R1
’の炭系原子数には特に1限は1.Cい。 また、この基がさらに置換基を有するものである場合、
置換基としては、スルホ/酸基、アルキルカルボニルオ
キシ基、アルキルアミド基、アルキルスルjに/アミド
基、アルコキシ−4キシ基、アルキ−ルアミノ基、アル
キルカルバモイル基、アルキルスルファモイル基、水耐
丞、ハロゲン原子等いずれであってもよ℃・。 なお、恢述のmか()である場合、Φ中の窒素原子に結
きする基1t□は、置換アルキルまたはア11−ル基で
あり、かつ−K(Iffをもつ。 さらに、ΦおよびVの城が結合ないし非縮合の・インド
ール環(式〔Φ■〕〜〔ΦIVY)である場合、その3
位には、2つの置換基1t、 、 It。 が結合することが好ましい。 この場合、3位に結合す
る2つの[倶基1(、、It、としてはアルキル基また
はアリール基であることが好ましい。 そして、これら
のうちでは、炭素原子数Jまたは2、特に1の非直1央
γルキル基であることが好ましい。 一方、Φおよびダで衣わさjしる増巾のPhi冗の位置
には、さらには他の置換基1t4が結合していてもよい
。 このような置#基トしては、゛rルキル基、了り−
ル基、 rltJll残基、〕□ロゲン原子、アルコキ
シ基、アルキルチオ基。 アルキルオキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキ
シ基、カルホン戯蕪等檎々の置換基であってよい。 そ
して、これらの置換基の叔(p、 q、 r%s、t)
は1通常、0または1〜4程度とされる・。 なお、p
、q、r、S。 tが2以上であるとき、複数の1(4は互いに異なるも
のであってよい。 なお、これらのうちでは式〔ΦI〕〜〔ψ■」の場合な
いし非縮合のイノトール環をセするものが好ましい。 
これらは、塗腺性薇足性にすぐれ、きわめて高い反射率
を示し、己み出しのC7N比かきわめて尚くなるからで
ある。 他方、Lは、モノ、ジ、トリまたは子トラカルボシー7
”二ノ色素を形成するための連g6基?表わすか、特に
式[LI ]〜(L Vll 」のいずれかであること
が好ましい。 式〔L1〕 (:H:= C7(−CH= CH−C= CH−CH
= CH−CH式(L n )  CH=CH−cH=
c−CH=CH−cH式〔L■) CH=CH−C=C
+1−CI式(Lv+n)C1ム−C=l−CH ここに、Yは、水素原子または1 fllbの基を表わ
す。 この場合、11曲の柄としては、メチル基等の低
級アルキル基、メトキシ基寺の低級アルコキシ基、ジメ
チルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフ上ニルア
ミツノ嚢。 モルホリッツ画、イミダゾリ7ノ基、エトキシ力ルポニ
ルビベラジン丞などの/+u、 侠’rミノ基、アセト
キ7基等のアルキル刀ルポニルAキシ基、メチルチオ基
等のrルキル千オ基。 シアノ基、ニトロ基、Br%C6寺のハロゲン原子など
であることが好ましい。 なお、これら式(Ll)〜[Li〕の中では。 トリカルボシーrニン運楯示、特に式(Lll)、(1
,m)が好ましい。 さらに、X−は陰イオンであり、その好ましい例として
は、■−1Br−1CL(J、  、 Bl゛’、−1
孕げろことができる。 なお、mはOまたは1であるが、mがOであるとぎには
、通常、ΦのR□が一亀荷をもち1分子内地となる。 次に、本発明の光吸収色=<<の具体例を挙げるが、本
発明はこれらのみに限定さnるものではない。 巴ヵ、/紬  Φ、Q’      I(、It’  
   )L、 、It。 IJI      C9)IJ          C
)嶋          cn。 1)2〔ψI )        0H3CH31)3
     [:ψI)       c、)45ci+
I75    〔ψl J         CH(、
’flD8     [0m)          c
、■、lC1s 、。 D 9     L ψIll J      (CH
,、) 、ocucH,、l、。 1)10     (ψIll J         
CM           elll)If    (
0m )        C)4.、        
CH,。 it、     L         Y      
    X−[Lll        11     
     1−       (Ll)       
    HCtO−[:LII]        iI
         −−〔1,i)        H
CtO−[L n )        H− (−一) −[Ll)        11          
 BF−(i、u)        11      
    CL(J−(LM)        ムム  
        11月2      〔ψl)   
     Cエ、)i、、             
     ell 、IJI3    [ψI :] 
    C,)1.、           CH13
14[:ψI)     C8H□6UCOC11,(
、’ll。 C15〔ψI )    (?7H,,CH301(C
I、。 IJI6    CΦi)     C8H,7CH。 1)38    cψIll :]         
         <:n3D19     〔ψ爪)
      c、Hl、cooc、s+、      
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    c 5tt □、             
     C11L)21     [ψ1113  
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H,、CI−飯〜    (Lll)        
 11          1=     [Ln) 
       Il          CtO−(L
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      C/JJ−(Ll)         k
4          −一一一一ノ −[:Ll)            量4     
           BF−(LJI)      
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U、H,51J27    [ΦII)     c、
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2(JU(JCj−1,、CH,。 D29   〔ψn)     cmt’:+a   
       C111)30    [Φn ]  
   C、u、 、C5JtJCH,C,H。 1)3]    [ΦIll ]     ]C,l−
1.、C11,(Jll       CH,。 D32   1J+nl)     e、、H,4eH
,0eUC2jl、    cH1D33   [ψI
ll ]     C+ t’−’u4αt+、、u、
     cFt31)34       [ψJlt
J        C,、,11,、、CH31)35
     [Φll[J      Cジi、5C,H
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    l−(t、n)         Hi −・    (Lll)         HC1U−
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   1(L n )         H1 〔LIv〕■ (L l 、I        H1 D48    〔ΦMJ        CH−1)4
9    CΦ■)       CH−IJ50  
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    CzU−[Ll〕CHI −[LV、]     H1 −[:LV]     H1 −(Li)     −1 −[Lm:]    N(C,11,)、      
 C60−[LII)     1−I       
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CHQoll      −D61   〔Φλ+(:
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   cψλn J    (ell、、)、、0CO
Ctl、   −1)63        CΦB) 
           C,Hl、         
     −D64   〔Φ油3    CH,C1
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     −1)fif)     [Φ呪、]   
   C)1        −1J67    [Φ
XVJ     −C,H5−1)68    [0M
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71    [ΦVl ]      C,,H,,5
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       皇4             l−[
1,ffl 〕N(U、、H6) 、      C6
U。 −(:l、u+ J    N(C,、H,、)、  
     1−       (Ln)       
 )1         k21リ−(t、n)   
     HC1(J−[Ln]        H1 −[Ln]        Li         C
m−[LII、:l        HCt(J4− 
      (L H)        H′C1C)
41)72   C’l”dJ    C,1IIH3
75”1)74   〔Φvl J    U、、H□
    5QC)iIJ75〔ψ%j )    U8
t11..5−CtlJ76   CΦW)    C
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    e−t、7    −1J’78    ((
iJM、)     e計(,7−1J79   [ψ
l    C□、[1,7B −CLD80   (ψ
Mal    C1,、l−1,、ワ   5−ctD
ot    (ψM’J     e、t−t、、、−
D82   〔0M )     C,、l−1,?−
D83   〔Φ■〕C8)ム□7    −−   
 (Lnl     H1 [Lll)     l(’ (LIV、)     −’ −(Ls++3   −N(C,115J、     
cto。 −(Lnt〕−N(C,倉4.)、    CL(JA
−(L n ]  −1’C)−C(幻C,H,1−[
Ln]     H1 −[LIl]     )i       CAJ。 −[L n )   HCt+SU。 −(Lv)     H1 −(L ■1]     H1 [1,■〕−1 1、)84    (ψ1it J     C8Bよ
、−一1)s5   CΦvit )     c 1
8it、lヮ    −D86   〔ψ””    
 C13”+17−1J87    [:ψVILE、
    C13)1,7−1)sa    (ΦVII
J     (、’、IIよ、     −1189C
ψVlll)  、    C,、Hよ、     −
D90   〔Φ” 」C] 、、”R7−1)91 
   [:ΦVll :]     C,,H,,−1
)92    (ψv+、J    Cよ、H,、−1
)93    cψXIJ     C,、H□ヮ  
   −114    CΦMl      C111
,ワ      −D95    〔ΦxaJ    
  C8H17−[Lm]   N(C6町)2CAJ
。 〔し1:l     HC1O。 (Lm)     H(:tU。 (LI[)     HI CLI   ucH,l        J[L H:
]     l(I (Ln+)    N(C,■7、)、       
 etO。 (t、B      t−t          C:
tU〔tB     n          iD96
   〔ψ刈〕Cia”’p、y     5  CI
D97   〔Φ>u)     C8H□、    
   −1)98    [Φに’J 3     C
r sHa 7     −1)gg    [Φ児]
C8H□7     −JJloo   [ΦXVI 
    C8H,?−IJIOI   CΦ■」C8H
エワ      −1)102   [Φ■]    
 C,、Hよ、      −111(J3   [Φ
罵〕C3J(□7・     −1)104     
[ψM)          C星13       
    −−     [LIJ        H1
−(L m :)    N(CIIHl、)2Ctv
。 −〔LIIl〕N(CLlH5)、■ −,−[L n ]       HCtu4−   
  [L II :j        HCzU−(L
n、:l        HC:t(J。 −[LII)        HCtu−(:LI[)
       HC6u。 −[LVI〕       HC6(Jこのような色素
は、公知の方法に準じて容易に合成することができる。 すなわち、まずA1応するメーe1i、、(Φ′はMO
記Φに対応する榎ン表わす。)ン過剰の1t□I (i
i工はアルギル基またはアリール基)とともに加熱して
、R□をΦ′中の室:A原子に尋人してψ−CI−j、
 I−を得る。 次いで、これを不fa aジアルデヒ
ドとアルカリ触媒を用いて脱水棉合すればよい。 このような色素は、単独で記録層を形成することもでき
る。 あるいは樹脂とともに記録層を形成する。 用いる樹脂としては、自己飯化性のもの。 あるいは熱可塑性樹脂が好適である。 記録J―に含有される自己葭化性の樹脂は、昇温したと
き、酸化的な分解を生じるものであるが、これらのうち
、特にニトロヒルロースが好適である。 また、熱可塑性樹脂は、記録光を吸収した色素の昇tm
 vcより、軟化するものであり、熱可塑性樹脂として
は、公知の障々のものを用いることができる。 これらのうち、特に好適に用いることができる熱可塑性
樹脂には、以下のようなものがある。 i)ボリオレフイ/ ポリエチレン、ポリプロピVノ、ポリ4−メチルペンテ
/−1など。 ii)ポリ号レフイン共重合体 飼犬ば、エチレン−r1+4はビニル共M、 合体。 玉子しンー7クリレート共組合体、工千しンーアクリル
緻共重合棒、」、ナレンー7′ロピレン共重合体、エチ
レン−ブテン−1共点合体、エチレン−無水・マレイン
敵共爪合本、コニナレン70ビレ/多°−;1ζリマー
(EP 1’ )など。 この場合、コモノマーの止合比は仕、様のものとするこ
とができる。 ii)塩化ビニル共重合体 例えば、酢臥ビール−鳴化゛ビニル共班合体、塩化ビニ
ル−1富化ビニリチン集血合体、IA 化ヒ= /L、
 −無水マレイン酸共M 合体、 7クリル師エステル
ないしメタアク11ル酸エステルと塩化ビニルとの共重
合体、−rり1ノルニトリル−地化ビニル共本合体、堪
化ビニルエーテル共亘合体、エチレンナL・シフロピレ
ンーー化ビニル共重合体、xチv;y−酢ぽビニル共重
合体圧塩化ビニルをグラフト車台したものなど。 この場合、共肛合比は任意のものとすることができる。 iv)塩化と二〇デン共重合体 塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、電化ビニリゾ/
−塩化ピニルーアクリルニトリル共正合体、塩化ビニリ
チン−ブタジェン−ハロゲン化ビニル共重合体など。 この48、共皿合比は、任意のものとすることができる
。 ■)ポリスチレン vi)ス千し/共重合体 飼犬ば、ス千しンーアクリルニトリル共i合体(A S
 +11(Jハ1)、スチレン−アク11ルニトリルー
ブタジエ/共重合体(A 13 S <Q、411M 
)、スチレン−無水マレイン醒共嵐合体(S IVI 
A 4a4tJ>t >、スチI、)7一アクllルエ
ステルーアクリルアミド共車台体、ス→−レンーブタジ
エン共11合体(S U +t )、ヌ、−1し/−塩
化ビニリデン共重合体、スリーレンーメチルメタ゛rク
リレート共重合体など。 この場合、共直合比ば):l: 祢のもσ)と1−るこ
とができる。 vi)スチレン型ム合体 例エバ、α−メチルスチレン、p−メチルスチレ/、2
+5−ジクロルスチレ/、(χ、β−ビニルナフタレン
、α−ビニルピリジン、ア七ナフチ/、ビニルアノトラ
セ/など、あるいはこれらの共重合体、例えば、α−メ
チルスチレンとメタクリル酸エステルとの共重合体。 vm)クマロンーイ/デ/41Llhhクマロンーイン
デ/−スチレンの単独またけ共重合体。 ix)テルペy I<IIJIL+ないしピコライト例
えは、α−ピネンかも得られるリモネ/の重合体である
テルペン位(脂やβ−ピネンから1時られるlニコライ
ト。 x)  °fクリル41!伺J?! ’4+に上記式で示される原子団をさむものか好才しい
。 式 %式% 上記式において、1(、oは、水素原子またはアル痺ル
基を表わし、1t2oは、置換または非置換のアルキル
基を衣わす。 この場合、上記式において、11□。は
、水素原子またけ炭素原子数1〜4の低級アルキル基、
符に水素原子またはメチル基であることが好ましい。 
 また、則。は、1は(興、非lk俣いずれのアルキル
基でt、つてもよいが、−アルキル基の炭素県子峡は1
〜4であることが好ましく、またIt2.、が置侠フル
キル基であるときには、fルAル示を置侠する置換基は
、水i&清、ハロケ/旅子またはアミノ基(特にジアル
キルアミノ基)であることが好ましい。 このような上記式でボされる原子団は、他のくりかえし
坤子団とともに、共重合体を形成して各柚アクリル1′
:Tlll1−1を構成してもよいが1通常は、上記式
で示される原子団の1柚または2種以上をくりかえし単
位とする単独重合体または共崖合捧を形成してアクリル
ニトリルを栖成すイへことになる。 xi)ポリアクリルニトリル xi)7り11ルニトリル共、j4C金庫例えば、アク
リルニトリル−σP師ビニル共ffi合体、アクリルニ
トリル−塩化ビニル共重合体、アクI+ルニトリルース
チレ/共重合体、−fりIJルニトリルー堪化ビニリデ
ン共亜合棒、アクリルニトリルーヒニルヒリジン共亘合
体、アクリルニトリル−メタクリル醒メチル共止合体、
アクリルエトリル−ブタジェノ共狙合体、アクリルニト
リル−アクリル酸ブチル共本合体など。 こノ場合、共重合比は任意のものとスルことができる。 xii)タイアセトンアクリルアミドポリマーアクリル
ニトリルにアセトンを作用させたダイy′セトンアクリ
ルアミドボリマー。 iリボリ酢酸ビニル xv)酢酸ビニル共重合体 例工ば、アクリル故ニスデル、ビニルエーテル、エチレ
ン、塩化ビニル等との共重合体など。 共重合比は任意のものであっ
【よい。 ml)ポリビニルエーテル 例工ば、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルメチル
エーテル、ポリビニルメチルエーテルなど。 yyii)ポリアミド この場合、ポリ゛rミドとしては、ナイロン6、ナイロ
ン66、ナイロ:/ 610、ナイロン6]2.す’f
ロン9、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン13等
のJ+h常のホモナイロンの他、ナイロン6/66/6
10、ナイロ/6/66/12、夛イロン1.i / 
66 / I ]等の共嵐合捧や、場合によっては変性
ナイロンであってもよい。 yii)ポリエステル f4J エバ、シュウ散、コハク岐、マレイ/酸、rジ
ビン鈑、セバスーrン賊等の」Jη肪族二塩基f★、あ
るいはインノータル叡、テレフタル酸などの芳香族二塙
基酸などの′:4棟二塩基酸と、エチレングリコール、
テトラメチレングリコール、ヘキナメチレングリコール
等のグリコール類との細合物や、共縮合物が好適である
。 そして、これらのうちではS特に脂肪族二塩基叡゛
とグリコール91との補合wJや、グリコールん【とJ
Jげ助力矢二塩基r;ばとの共紛合″物は、片圧好適で
ある、さらに、例えば無水フタル酸とグリセリンとの鰯
合物であるグリプタル佃ノjhを脂肪酸、天然樹脂等で
ニスデル化友往した変性グリフタル1酊脂寺も好適FC
使用されろ。 xix)ポ17ビニルアセクール糸樹脂ボリヒニルアル
コールを、アセタール化してahられるホ1tビニルホ
ルマール、ポリビニルア七タール糸側ハηはいずれも好
適に1史用される。 この場合、ポリビニルノ′セタール糸伺胎のアセタール
化度は任意いものとすることかでとる。 XX)ボリウレタ/伺脂 ウレタン結合をもつ熱可塑性ポリウレタン1的脂 特に、クリコール類と、ジインシ゛rネート類との組合
によって得られるボ11ウレタ7 便Hft 、 就中
アルキレ/グリコールとアルキレ/ジイソシーfネート
との亀16合によって得られるボリウレタ/1珂J(1
1か好適である。 xxi)ポリエーテル スチレン示ルマリ7 開jlij%塚状アセクールの開
環京合物、ポリ」−チレンオキサイドおよびグリコール
、ボリフーロビレンオキサイドおよびグ11コール、グ
ロビレンオキサイドーエチレンオギ・v゛イド共重合体
、ポリフェニレン万キー1r イ’p” ’1.f ト
うxxii)セルロース綿尋体 有41kmエステル、エーテルないしこれらの混合体。 勅)ポリカーボネート 例えば、ポリジオキシジノエニルメタンカーボネート、
ポリジオキシジフェニルグロバンカーボネート等の各様
ポリカーボネート。 xxiv)アイAノマー メククリル酸、アクリル改等のNa、Li。 Zn 、  Mf塩など。 メxy)  ケ ト ン1−カ目 ’dlJ エに!−、シクロヘキサノンやアセトフェノ
ン等の環状ケトンとホルムアルデヒドとのれろ金物。 xxvi )上記i)〜V)の2純以上のブレンド体、
またはその他の熱rJJm性側IJMとのブレンド体。 なお、自己酸化性または熱可塑性の佃月りの分子数等は
柚々のものであってよい。 このような自己庫化性化合物または熱用塑注綱脂と、前
記の色素とは1通′g、徂i比で1対0.1〜300の
広範な量比にて設置5φされる。 このような記録ノーには、クエンチャ・−か8治される
ことが好ましい。 クエンチャ−としては、億々のものを用いることができ
るが、特に1色素が励起して一重項酸素が生じたとき、
−、iL項酸素から電子移動ないしエネルギー移動をう
けて励起状態とノ、【す、自ら基底状態にもどるととも
に、−東慣酸系を三重項状態に変換する一重項醸素りエ
ンチート一でル)ることか灯まし℃・。 −i項散素りユ、/チーへ・−としても、4虫々のもの
を用いることができるか、7時(、It)生男化が滅1
少すること、そして色素との川石性カー良好であること
などから、九1移勺七編キレート化合物であることが好
まし℃・つ この場合、中心金属としては、Ni 、 
Co、 Cu、〜Inch’好ましく、q!fに、下m
lの化f′aか好適で4へる。 1)アセチルア七トナートキレート糸 Qx  N1(11)アセナルアセトナートQ2  C
u(IIJアセ5− /l、アセト1−1−Q3  M
n(Ill)アセチル−/−にI・・−トQ4  Co
(It)アセ千ル了セトづ一一ト2)ビスジチオ−α−
ジケト/糸 ここに、14Lll−R”’は、阪41.さな(・し非
置換のアルキルToまたはアリール模゛を表わし、N4
は211111のプ警移金^原子を表わす。 この場合、Mは一’dL曲なもち、4欽’T 7七ニウ
ムイA/−幹と堪を)14成してもよ(・。 Q5 へ1(1)ジチオベンジル Qi5  N1(It)ジチAビアセチル9 N” (e 、tt 、) 。 3)  ヒスソエニールジテオール糸 ここに、l伸および1(l(itは、メチル基などのア
ルキル基、ある℃・はCtなどσ)710ゲン原子等を
表わし、Mは1〜i青の2勧の選) 移金属1京子を表
わす。 さらにaおよびbは、それぞれ、Oまたは4以
下の皓Mである。 また、上Me構造のMは一屯何ヶもって、アニオンと塩
を形成してもよく、さらにはMの上下には、さらに他の
配位子か軸合していてもよい。 このようなものとしては、−T−を己σ)もσ)カー市
販されている。 QIOPA−10(11(商品名 三井東圧ファイン体
式会社装) Qll  PA−10+12(凹土) Q12  )’A−10(13(同上)w13  PA
−1005(同よ) (,114PA−1006(IljJ上)QlsCO−
ビス(ベンゼン−1,2−ジチオール)テトラ ブチル
 rンモニウム塩 Q]6Co−ビス(0−キシレン−4,5−ジチオール
)テトラ(1−ブチル)アン・1;ニウム塩Q17Ni
−ビス(べ/セン−1、2−7チオール)テトラ ブチ
ル −γ/アンモニウ ム塩8Ni−ビス((」−キシレ/−4+5−ジチオー
ル)テトラ ブチル アンモニウム地 Q19Ni−ビス(5−クロロベ/ゼy−1+2−シナ
オール)テトラ ブチル アンモニウム塩Q2(l  
Ni−ビス(3,4,5,6−チトラメチルベ/センー
1,2ジチオール)テトラ ブチル アンモニウム塩 Q21  Ni−ビス(3,4,5,6−テトラクロロ
ペンセン−1,2ジチオール)テトラ ブチル アンモ
ニウム塩 4)ジチオカルバミノ酸キレート糸 ここに H+71および1(+81はアルキルわす。 
また、■は2 fibの遷移金J@原子を表わす。 Q22  Ni−ビス(ジンチル ジナオノj)レノく
ミ/ハ)〔アンチゲ/ N13e(住友1ヒ字仕製)5
)ビスフェニル−f−ン1ール糸 Q23  [Ni−ビス(オ久1ルフコニニル)サルフ
ァイド6ここに、Mは21曲のJ鉦移址り偽原子な共わ
す。 マタ、旧ま−を仇イ句をモチ、7 : J− 7
と塩な形成して(・でもよく、ペンセン坪&ま゛直侠基
を南していてもよ(・。 Q24  Ni−ビス(−f−AIJ7二z−ル)子ト
ラフ”f−tレアノモニウム堪 7)ナリテル゛ノルテヒドオキシム本 ここに 1(+91および14tllは、アルキル基を
衣わし,Mは21111Iの庵移金租原子を次わす。 Q2 5  Ni(II) 0−( 1〜−イソ70ビ
ルホルムイミドイル)フェノール Q26  Ni(田)O−(N−ドデシルホルムイミド
イル)フI−ノール Q2 7  Co(II) 0−(’,.N−ドデシル
ホルムイミドイル)フェノール Q28  Cu(11)0−(Nドデシルホルムイミド
イル)ノ「−ノール Q2 9  Ni(n) 2 、 2′−(:工ーlー
レ/ビスにトリロメ→す)シン)〕−ジフェノール Q3o  Co(11)2+2’ −Cエチレンビスに
トリロメ十〇シン)〕−ジフェノール Q31  Ni(1) 2 、 2’ −C 1.8−
ナフ”ノ゛レンピスにトリロメナ11ジ/)〕−ジフェ
ノール Q32  Ni(11)−C N−フェニル、トルム・
1ミドイル」フェノール Q3 3  Co(l[) − [ N−7.Lニルポ
ルムイミドイル〕フェノール Q3 4  Cu(If) − [ N − 7 x 
= ル;4、ルムイハトイル」フェノール Q35  Ni(11)サリチルアル〜1にドフ」−二
ルヒドラゾ/ Q36  Ni(It)すuナルフルーz″ヒ)’vー
*シム8)チオビスソエルートキレート糸 R11+1      It’■ ことに、+V4上前、1ピと同じであり、1着υおよび
5tG1は、アルキル丞を衣わす。  またMは−+i
、 1++□fをもち、アニ;イ/と鳩を形成しでいて
もよい。 、  Q37  N1(If)n−ブチルアミノ〔2,
2′−チオビスC4−tcrt−オクチ2し)−フェノ
v−ト)(Cyasorb−UV−1084(アメリカ
/ シっ・ナミド Co、、Ltd、))(QA38 
 Go(II)n−ブチルアミノ[2t 2 ’  −
yオヒス(4−tert −,4°クチル)−フーLル
−ト〕 Q39  N1(1) −2+ 2 ’ −チオヒス(
4−tert、 −オクチル)−フェルレート 9)亜ホス71;ン酸キレート禾 ここK、1νlはnil記と同じであり、II4および
1t041は、゛rルキル基、水酸基専の置換基を枳わ
す。 40 この他、他のクエン千)・−としては、下d己のような
ものがある。 1())ベンゾエート糸 Q51  既存化学*買3−3(140[チヌビ7−1
2Ll(テバカイギー社装)〕 11)ヒンタ′−ドアミ/系 Q52  既存化学物’X 5 3732 [SA1〜
(JL、 1.S −770(三共姓某社辰]」 このようなり工/チャーは、公知の方法に従い合成され
る。 そして、クエ/ナヤーは、IIIJ記色系1七ルあたり
、−収に0.05〜12モル、倚にりl〜1.2モル程
度含有される。 本9らり」によれは、クエンチャ−ざ
M 、ltを、Jn↓常のシカ合より少1.【くするこ
とかできる。 このような記録層を設層するには、−ii*に常法に従
い一役すればよく、その厚さは、−報に、0.03〜2
μ慣栂度とされる。  あるいは、色糸とりJンチャー
のみで記録層を形成するときには、蒸ン渭、スパッタリ
ング券によってもよい。 なお、このようなt[;録増には、この他、池のポリマ
ーないしオリゴマー、各稙可塑剤、界面活性剤、帝′w
L防止剤、紫外線吸収ハリ、b」視光吸収剤、滑ハ1j
、難燃剤、安定剤、分紋剤等が含有されていてもよい、 なお、道布に用いる温媒としては、例えばメチルエチル
ケト/、メチルインブチルフート/、シクロヘキV)7
等のケトン系、σ[酸ブチル、昨ms−チル、カルピト
ールアセテートブチルカルピトールアセテ・−ト等のエ
ステル糸、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のL
−チル系、ないしトルエン、キシレン等)芳香族系、7
クロロエタン寺のハロクン化アルキル系などを用いれば
よい。 このような記録層を設層、好ましくは一役する基体はエ
ポキシ樹+1=で友)る。 エポキシ樹脂としては、棟々のものが使用可能であるが
、主剤は、ビスンエ/−ルAとエピクロルヒドリンの縮
合物、通常、分子量350〜数万程度のものであること
が好ましい。 このとき、強度や寸法安定性等が向上す
る。 また、硬化剤としては、′γアミノであってもよいが、
特に、書き込み元および仇み出し光に対する透明性や、
硬化時の歪による光学的な均一性や、経時的な着色が少
ないこと等の点で、酸無水物であることが好ましい。 この場合、酸無水物としては、メチルテトラヒドロ無水
フタル酸、無水メチルナジック酸、メテルヘキザヒドロ
無水゛7タル敵、へ4サヒドロ無水フタル酸、ドテセニ
ルサクシニツク酸無水9勿、ポリーrゼライックポリア
/ハイドライド、無水クロレンデック酸、無水フタル酸
、無水トリメリット酸、無水ピロメリットB、ベンツ゛
フェノノテトラカルボン酸無水物、エチI//クリコー
ルビストリメリゾ−1・、IVI Ci’ C等が好適
である。 なお、主剤と硬化剤との量比は、主剤のエボキン基数と
酸無水物基数がほぼ等しくなるヨウニ、9,9〜1.0
程此とし、促進剤としてイミタゾール、ベンンルジメナ
ルアミン、トリスジメナルアミノフェノール、シアサビ
シクロlクンデセン等を加え、これを注型して、基体が
形成される。 なお、エポキシ樹脂の酸素透過率(35℃)は3〜7 
X ] 0−13g’ ”cm/ctll ” SeC
’cmHf程度、水蒸気透過率(30℃)は1〜5XI
O”f・、/crl * sec @ (71+Hr程
度とされる。 さらに、80 (’)nmおよび350nmにおける透
過率はそれぞれ、90〜92%および30〜40%程度
とされる。 このような基体は、通常、1.0〜1.5閣程度の厚さ
とされ、通常、ディスク状とされる。 なお、基体中には5通常は必賛ないが、開用の態様に応
じ、紫外森吸収削や染料を含有させてもよい。 なお、基体は、通常、トラツギ/り用の溝を有する。 
また、必要に応じ、下地層−1P蓄熱層などを■するも
のであってもよい。 また、記録層上には、必要に応じ、裏面として機能する
反射層や、各a最上)ti保浅層、・・・・−フミラー
増などを設けることもできる。 本発明の媒体は、このような基体の一面上に上記の記録
層を有するものであってもよく、その両面に記録層を有
するものであってもよい。 また、基体の一面上に記録
(−を堕設したものを2つ用い、それらを記録j−か向
かいあうようにして、所定の1iJJ隙をもって対間さ
せ、それを密閉したりして、ホコリやキスかつかないよ
うにすることもできる。 さらに、智閉した間隙内を不活性カスで置換したり、記
@層上に被覆体を苦着したりして、酸素や水蒸気な退所
することもできる。 ■ 発明の具体的作用 本発明の媒体は、走行ないし回転下において、記録光を
パルス状に照射する。 こσ)とき、記録層中の色素の
発熱により、「J己酸化注の樹脂が分牌するか、あるい
は熱iJ!!ll!性樹脂や、色素樹脂解し、ピットが
形成される。 この場合、書き込みは基体裏面側から行5ことが好まし
い。。 この場合、特に、トリないしテトラカルホシアニ7色素
を用いるとぎには、750、’780゜830 !1r
nの波長の記録牛導体し−ツー、タイオードなどを用い
たとき、きわめて良好な書き込みを行うことができる。 このように形成されたヒントは、やはり媒体の走行ない
し回転下、上記の波長の玩み出し光の反射光ないし透過
光、特に反則光を検出することにより読み出される。 
この場合、読み出し光は、やはり基体畏1IIJIII
IIから照射して、その反射光を検知するよへにするこ
とが好ましい。 なお、記録層に熱ijJ塑性樹脂を用いるときには、一
旦記録層に形成したビットを光ないし熱で消去し、書書
き込みな行うこと本できる。 また、記録ないし読み出し光としては、He−Neレー
ザー等を用いることもできる。 ■ 発明の具体的効果 本発明によれば、記@層の頭布用温媒によるエポキシ樹
脂製基体の劣化がきわめて小さいので、記録層の反射率
の低下か少なく、餅み出しのS/N比が格段と向上する
。 また保存による反射率の経時劣化もない。 このため、基体に、耐溶剤性の下地ノーを形成する必要
がない。 また、他の樹脂基体を剛いるときと比較し2て、書き込
み感度が向上する。これは、おそらく表面性、熱伝得性
、塗膜との親和性等によるもσ)であると考えr〕れる
。 さらに、十分な機械的強度と、寸法安定性を示す。 加えて、酸素遮断能、水蒸気遮断能が筒くまた、紫外緋
小透過性も良好であるので、色素の劣化か少な(、保存
による感IWやS/N比05劣化か小さい。 このため
、フェノチャー量を少/【<できるという利点がある。 本発明者らは、本発明の効果を確認するため種々実験を
行った。 以下にその1例を示す。 実施例 上記色素)16 D 2.1−)10と、下記表1に示
されるajB¥i (IQと、クエンチャ−(Qとを用
い、表1に示される量比にて、所定の溶媒中に溶解し、
直径15mの基板上に、0.07μmの厚さに頭布設層
して、各種光記録部分をイ↓Iた。 この場合、表1において NCは、窒累含址11.5〜
12.2%、JIS K67 (+ 3にもとづく粘f
i2 (1’のニトロセルロースである。 また、C1は、クマ口/−インデン樹脂(日鉄化学社製
V−120数半均分子量730)、NYは、5,6−ナ
イロ/(数平均分子量3万)、PSは、ボ11スチレン
(数平均分子量3万)をそれぞれ表わす。 さらに、用いたクエンナヤーは、上記にて例示したもの
の魔で示される。 この場合、基体のエポキシ樹脂(エポキシ1)は、エピ
クロルヒドリンとビスフェノールAの縮合2量体を主剤
とし、これに重量比で0.5のへ・■サヒドロ無水フタ
ル酸を硬化剤として、また重量比で0.01のイミタ゛
ゾールを促進剤として用い、注型したものであって、下
記の物性をもつ。 また、エポキシ2は、上記縮合体と、硬化剤メチルテト
ラヒドロ無水フタル酸とを】:06重量比で混合し、さ
らに0.01(重量比)σ)イミタゾールを促進剤とし
て用い、注型したものである。 また、比較用基体のPiν1A4Aは平均重合度150
0の下記物性をもつポリメチルメタクリレ−1・注型品
である。 そして、表1には、I(、/ l)と、Q/l)のM電
比とか併記される。 このようにして得た光記録部分を用い、その一対を連結
部材を用い、各記録層が向かいあうようにして対向させ
て一体化し、堕隙乞アルゴン置換して、サンプルI61
〜8を得た。 このよ2うにして作成した昏417プルにつき、これを
180Qrpmで回転させながら、基体裏面側からAt
uaAs −GaAs半導体レーザし記録元(H30n
m )を1μ倶φに集光しく集光部出力] QmW )
 、パルス巾を変更して書き込みを行い、C/N比=4
0dBが得られるパルス巾から書き込み感f (5ec
) ’を測定した。 次いで、パルス巾IQQnsec、所定周波数で、パル
ス列状に照射して、占き込みを行った。 この後、3 mWの半導体レーザー(s3onm)読み
出し光を、1μsec巾、3Ki(zのパルスとして基
体裏面側から照射して、ディスク表面におけるビーク−
ビーク間の当初のC7N比を測定した。 次いで、書き込み後の媒体に、赤外線ランプを24時間
照射し、照射後、さらに、上記読み出し光を5分間照射
して、C/N比を測定した。 これらの結果を表1′に
示す。 表Jに示される結果から、+:発明の効果があきらかで
ある。。 実:検測2゜ 実験例1のす/プル1166・−8を用い、実験例1と
同様に書き込みを行ったのち、赤外巌ヒーターを用い、
媒体を150℃、15秒間加熱して消去を行ったところ
、各媒体とも、くりかえし複数回の消去、再書き込みが
良好にできることが確認された。 出願人 東京嵐気化学工染株式会社 代理人 弁理士  石 井 陽 − −三「続ネ市」−EJ、−(自発) 昭和58年 6月2デμ 特許庁長官   若 杉 和 夫 殿 ■、!に件の表示 昭和58年特許願第 15229号 2、発明の名称 光記録媒体 3、補正をする者 事件との関係        特許出願人任  所  
  東京都中央区日本橋−丁目13番1号名  称  
 (306)  ティーディーケイ株式会社代表者  
大 歳  寛 4、代理人  〒171 住  所    東京都豊島区西池袋五丁目17番11
号矢部ビル1階 電話 988−16806 抽11の
内容 明細、Iシの′I3、発明の詳細な説明、1の根1の1
己載を、ド記のとおり補正する。 ■)第3gページ第7行に、rNi、Co、Cu。 Mnj とあるを、fNi、Co、Cu、Mn。 Pd、Ptj と補正する。 J″l) アセチルアセトナートキレート系QINi(
II)アセチルアセトナートQ2 Cu(11)アセチ
ルアセトナートQ3  Mn(m)アセチルアセトナー
トQ4  Co(II)アセチルアセトナート2) ヒ
スジチオ−α−ジケトン系 ここに、R(tl R(4)は、置換ないし非置換のア
ルキル基またはアリール基を表わし、Mは、Ni 、C
o、Cu、Pd、PL等ノ遷移金属原子を表わす。 この場合、Mは一電荷をもち、4級アンモニウムイオン
等のカチオンと塩を形成してもよい。 Q5Ni(II)ジチオベンジル Q6Ni(II)ジチオビアセチル N”(C4H9)4 3) ヒスフェニルジチオール系 (5)     (6) ここに、RおよびRは、メチル基 などのアルキル基、あるいはC,Qなどのハロゲン原子
等を表わし、Mは、Ni、Co。 Cu 、Pd 、Pt等の遷移金属原子を表わす。 さ
らに、aおよびbは、それぞれ、0または4以下の整数
である。 また、上記構造のMは一電荷をもって、カチオンと塩を
形成してもよく、さらにはMのF下には、さらに他の配
位子が結合していてもよい。 このようなものとしては、下記のものがある。 QIOPA−1001(商品名 三井東圧フ ァ  r
 ノ 本末 式 会 杓 製 )Qll、  FA−1
002C回−l:Ni−ビス(トルエンジチオール)テ
トラ(t −ブチル)アンモニウム〕 Q12  PA−too3(回 」−)Q13  FA
−1005(同 上 Ni−ビス(ジクロロベンゼン)
テトラ(t− ブチル)アンモニウム〕 Q14  PA−1006C同 上 Ni−ヒス(I・
リクロロベンセンジチオール)テトラ(し−、ブチル)
アンモニウム〕Q15  Co−ビス(ベンゼン−1,
2−ジチオール)テトラブチルアンモニウム Q16  Co−ビス(0−キシレン−4,5−ジチオ
ール)テトラ(L−ブチル) アンモニウム Q]7Ni−ヒス(ベンゼン−1,2−ジチオール)テ
トラブチルアンモニウム Q18Ni−ビス(0−キシL/7−4.5−ジチオー
ル)テトラブチルアンモニ ウム Q19  Ni−ビス(5−クロロベンセン−1,2−
ジチオール)テトラブチルア ンモニウム Q2ONi−ビス(3,4,5,6−テトラメチルベン
ゼン−1,2ジチオー ル)テトラブチルアンモニウム Q21  Ni−ビス(3,4,5,6−テトラクロロ
ベンゼン−1,2ジチオー ル)テトラブチルアンモニウム 4) ジチオカルバミン酸キレート系 ここに、R(7)およびR(8)はアルキル基を表わす
。 また、MはNi、Co、Cu。 Pd、Pt等の遷移金属原子を表わす。 Q22Ni−ビス(ジブチル ジチオカルバ・ミン酸)
〔アンチゲン NBC(住人化学社製)〕 5) ヒスフェニルチオール系 Q23  Ni−ビス(オクチルフェニル)サルファイ
ド 6) チオカテコールキレート系 ここに、Mは、Ni、Go、Cu、Pd。 Pt等の遷移金属原子を表わす。 また、Mは一電荷を
もち、カチオンと塩を形成していてもよく、ベンゼン環
は置換基を有していてもよい。 Q24Ni−ビス(チオカテコール)テトラブチルアン
モニウム塩 7) サリチルアルデヒドオキシム系 (9)     (10) ここに、RおよびRは、アルキル 基を表わし、Mは、  Ni、Go、Cu。 Pd 、Pt等の遷移金属原子を表わす。 Q25  Ni  (II)o −(N−イソプロピル
ホルムイミドイル)フェノール Q26  Ni  (II)o −(N−ドデシルホル
ムイミドイル)フェノール Q27  ’Co (II)o −(N−ドデシルホル
ムイミドイル)フェノール Q28  Cu (II)o −(N−ドデシルホルム
イミドイル)フェノール Q29  Ni  (II) 2 、2 ′−(エチレ
ンビスにトリロメチリジン)〕−ジフェ ノ  − ル Q30  Co (II)2.2′−(エチレンビスに
トリロメチリジン)〕 −ジフェ ノール Q31   Ni  (II)  2.2  ′ −(
1,8=ナフチレンヒスにトリロメチリジ ン)〕−ジフェノール Q32  Ni  (II)−(N−フェニルホルムイ
ミドイル)フェノール Q33  Co (II)−(N−フェニルホルムイミ
ドイル)フェノール Q34  Cu (II)−(N−7,:JL、ホ/l
/ 1゜イミドイル)フェノール Q35  N1(II)サリチルアルデヒドフェニルヒ
ドラゾン Q36  N1(II)サリチルアルデヒドオキ・ンム 8) チオビスフェルレートキレート系R(ll)R(
12) (11) ここに、Mは前記と同じであり、Rお (12) よびRは、アルキル基を表わす。 またMは一電荷をも
ち、カチオンと塩とを形成していてもよい。 ’Q37  N1(II)n−ブチルアミノ〔2゜2′
−チオビス(4−tart−オクチル〕−フェル−ト)
  (Cyasorb  −UV−1084(アメリカ
ン シア ナ  ミ  ド    Co、、Ltd、)   )Q
38  Co(II)n−ブチルアミノ 〔2゜2′−
チオヒス(4−tert−オクチル)−フェルレート〕 Q39  N1(II)−2,2′−チオビス(4−t
erj−オクチル)−フェルレート9)   dljホ
スホン酸キレート系ここに、Mは前記と同じであり、R
(13)お(14) よひRは、アルキル基、水酸基等の置換ノ1(を表わす
。 この他、他のクエンチャ−としては、下記のようなもの
がある。 10)  ベンゾエート系 Q41  既存化学物質3−3040 (チヌビン−1
20(チバガイギー社製)〕 11)   ヒンダードアミン系 Q42  既存化学物質5−37:32 (5ANOL
LS−770(三共製薬社製)〕」

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 色素または色素組成物からなる記録層を、エポキ
    シ樹脂からなる基体上に設層してなることを特徴とする
    光記録媒体。 2、、!、ホ*シ樹脂の主剤が、ビスフェノールAとエ
    ピクロルヒドリンの組合物である特許請求の範囲第1項
    に記載の光記録媒体。 3、 エポキシ樹脂の硬化剤か、酸無水物である特許請
    求の範囲第1項または第2項に記載の光記録媒体。 4、記録層を塗設してなる特許請求の範囲第1項ないし
    第3項のいずれかに記載の光記録媒体。 5、 色素または色素組成物中に含まれる色素がカルボ
    シアニン色素である特許請求の範囲第1項ないし第4項
    のいずれかに記載の光記録媒体。 6、記録層が色素組成物からなり、色素組成物が、色素
    と自己酸化性または熱用塑性の佃脂とを含む特許請求の
    範囲第1項ないし第5項のいずれかに記載の光記録媒体
    。 7、 記録層が色素組成祷からなり、色素組成物が、色
    素とクエン千A・−とを営む特許請求の範囲第1虫ない
    し@!、6坦のいずれかに記載の光記録媒体。 8、 クエンチャ−が−重項敵素りエ°/チャーである
    特許請求の範囲第1項ないし第7項のいずれかに記載の
    光記録媒体。 9、−重項酸素り、1〜ノチヤーがλ4移破属キレート
    化合物である特許請求の範囲第8唄に記載の光記録媒体
    。 10、基体裏面側から書き込みおよび読み出しを行う特
    許請求の範囲第1項ないし第9項のいずれかに記載の光
    記録媒体。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6192451A (ja) * 1984-10-11 1986-05-10 Sumitomo Bakelite Co Ltd 光学的記録媒体用基板
JPS6257139A (ja) * 1985-09-05 1987-03-12 Asahi Chem Ind Co Ltd 新規な光デイスク
JPH0640161A (ja) * 1992-01-22 1994-02-15 Nippon Columbia Co Ltd 光記録媒体

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JPS6257139A (ja) * 1985-09-05 1987-03-12 Asahi Chem Ind Co Ltd 新規な光デイスク
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