JPH1067970A - 光ディスク用接着剤及び光ディスク - Google Patents

光ディスク用接着剤及び光ディスク

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JPH1067970A
JPH1067970A JP8245602A JP24560296A JPH1067970A JP H1067970 A JPH1067970 A JP H1067970A JP 8245602 A JP8245602 A JP 8245602A JP 24560296 A JP24560296 A JP 24560296A JP H1067970 A JPH1067970 A JP H1067970A
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JP
Japan
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adhesive
optical disk
component
acrylate
polymerization initiator
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JP8245602A
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English (en)
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Toshihiro Yamamoto
敏浩 山本
Hironobu Kawasato
浩信 川里
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Nippon Steel Corp
Nippon Steel Chemical and Materials Co Ltd
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Nippon Steel Corp
Nippon Steel Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高屈折率、接着性、耐湿性及び低硬化収縮性
に優れた光ディスク用接着剤及びこれを使用して接着さ
れたディスクを提供する。 【解決手法】 下記の一般式(1)で示されるアクリレ
ート及び重合開始剤を必須成分とする光ディスク用接着
剤である。 【化1】 さらに、本発明は、このような光ディスク用接着剤を用
いて接着された光ディスクである。 【効果】 本発明の光ディスク用接着剤は、高屈折率、
接着性、耐湿性に優れる上、特に低硬化収縮特性に優れ
るため、光ディスクの貼り合わせ用接着剤として有用で
あり、また、本発明の光ディスクは、大容量の光信号を
高速・高密度に記録・再生することができ、耐環境試験
においても金属層に腐蝕が見られることがない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はアクリレートを含有
した光ディスク用接着剤及びこれを使用して接着された
光ディスクに関するものであり、本発明の接着剤により
得られる接着層は、高屈折率、接着性、耐湿性に優れる
上、特に低硬化収縮特性に優れるため、光信号を高速・
高密度に記録・再生する光ディスクの貼り合わせ用接着
剤として有用である。
【0002】
【従来の技術】コンパクトディスク、光磁気ディスク等
をはじめとする光ディスクはポリカーボネート等を基材
樹脂とする透明基板上に蒸着又はスパッタリングにより
形成された金属薄膜層を有する構造をもっている。この
金属薄膜層は大気中の酸素や水分の影響を受け、その特
性が劣化しやすいため、従来、熱可塑性樹脂やアクリル
酸エステルを主成分とする紫外線硬化型樹脂がオーバー
コート剤として使用されている。しかしながら、従来か
らのものは、接着性、耐湿性が不十分であり、耐環境試
験において金属薄膜層に腐食が見られていた。
【0003】一方、光ディスクの大容量化の要求によ
り、ディスクを接着層を介して貼り合わせることにより
目的を達する場合がある。この目的に使用される接着剤
は、上記オーバーコート剤に求められる接着性及び耐湿
性等に加えて、接着層を光が透過する場合には透明性等
の光学特性が要求され、また、ディスクの再生エラーを
防止する意味において低硬化収縮性が強く要求される
が、これらの特性を満足する接着剤は未だ得られていな
い。
【0004】例えば、特開昭61−123593号公
報、特開昭61−133067号公報、特開昭61−1
39961号公報、特開昭61−153844号公報、
特開平2−107630号公報、特開平2−13266
4号公報等にアクリレート系樹脂組成物又はエポキシ系
樹脂組成物の硬化物を保護膜層に用いたものが開示され
ている。また、フルオレン骨格を有するアクリレート化
合物は、例えば、特開平4−337307号公報、特開
平6−220131号公報等に光ディスクのオーバーコ
ート剤として開示されている。しかしながら、光ディス
ク用接着剤としての用途を示唆するものは、従来にはな
かった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は上記の
問題点を解決し、高屈折率、接着性、耐湿性及び低硬化
収縮性に優れた光ディスク用接着剤及びこれを使用して
接着された光ディスクを提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は下記
の一般式(1)で示されるアクリレート及び重合開始剤
を必須成分とする光ディスク用接着剤である。
【化2】
【0007】さらに、本発明は、このような光ディスク
用接着剤を用いて接着された光ディスクである。
【0008】本発明において、上記一般式(1)で示さ
れるアクリレートは、その中間体であるエポキシ成分
と、アクリル酸又はメタクリル酸との反応により得るこ
とができる。
【0009】中間体であるエポキシ成分は、一般のエポ
キシ樹脂の合成法と同様にして得ることができ、原料と
して用いられるジフェノール類を適当量のエピクロロヒ
ドリンと共に加熱溶融して得られるほか、エピクロロヒ
ドリンの代わりにエチレンオキサイドを用いて得ること
もできる。また、エポキシ生成反応の際の原料比率を変
えることで、一般式(1)中の繰り返し数nを変化させ
ることができ、これはGPC等により検出可能である。
【0010】一般式(1)におけるR3 中の平均の繰り
返し数mは、1〜5の範囲内であり、これは、上記エポ
キシ生成反応の際、末端に生成したエポキシ基に再度、
エピクロロヒドリンやエチレンオキサイドが反応した際
に生成するするものであるが、実質的にmが5を超える
ことはない。
【0011】一般式(1)において、平均の繰り返し数
nは、1〜21の範囲内であり、nが21を超えると樹
脂の溶融粘度及び溶液とした時の粘度が非常に高くなっ
て扱い難くなる。
【0012】原料ジフェノール類の具体例としては、例
えば、9, 9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオ
レン、9, 9−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)フルオレン、9, 9−ビス(3−エチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)フルオレン等が挙げられる。
【0013】本発明の接着剤は上記一般式(1)で示さ
れるアクリレートと重合開始剤とを必須成分とするが、
本発明ではこのアクリレートに加え、他のアクリレート
を混合して用いることもできる。
【0014】他のアクリレートとしては、具体的には、
メチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレー
ト、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,
3−プロピレンジオール(メタ)アクリレート、1, 4
−ブタンジオール(メタ)アクリレート、1, 5−ペン
タンジオールジ(メタ)アクリレート、1, 6−ヘキサ
ンジオールジ(メタ)アクリレート、N−ビニル−2−
ピロリドン、テトラヒドロフルフリール(メタ)アクリ
レート、N−ビニルカプロラクタム等が挙げられる。
【0015】また、一般式(1)で示されるアクリレー
ト(A成分)と他のアクリレート(B成分)との割合
は、A成分100重量部に対してB成分400重量部以
下であることが好ましく、400重量部を超えると、A
成分のアクリレートの本来の特性が低下し、結果として
低硬化収縮性、耐湿性を損なう原因となる。
【0016】本発明の接着剤の必須成分である重合開始
剤は、アクリロイル基の重合反応を開始し促進するもの
であれば特に制限されず、この重合反応は公知の方法に
より行うことができる。
【0017】紫外線を照射して本発明の接着剤を光硬化
(光重合)させる場合は、光重合開始剤を用いることが
できる。光重合開始剤としては、具体的には、2, 4,
6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキ
サイド、2, 2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェ
ノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、キサントン、
3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノ
ン、4, 4′−ジメトキシベンゾフェノン、N, N,
N′, N′−テトラメチル−4, 4′−ジアミノベンゾ
フェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンジルジメ
チルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2
−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒ
ドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オ
ン、その他チオキサントン系化合物等が例示され、これ
らの化合物の1種又は2種以上使用することができる。
【0018】また、加熱による硬化(重合)方法も用い
ることができる。この場合の熱重合開始剤としては次の
ようなものが挙げられる。すなわち、ケトンパーオキサ
イド、パーオキシケタノール、ハイドロパーオキサイ
ド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイ
ド、パーオキシジカーボネート又はパーオキシエステル
系化合物等が挙げられる。
【0019】また、重合開始剤(C成分)とアクリレー
ト全量(A+B成分)の割合は、光重合開始剤の場合、
A+B成分100重量部に対してC成分0.1〜30重
量部、好ましくは1〜20重量部であり、C成分が0.
1重量部未満であると、重合速度が遅くなって硬化不良
を起こし、30重量部を超えると、光が基板まで達し難
くなり、基板との密着性が低下する。熱重合開始剤の場
合は、A+B成分100重量部に対してC成分0.1〜
20重量部、好ましくは1〜10重量部であり、C成分
が0.1重量部未満であると、重合速度が遅くなって硬
化不良を起こし、20重量部を超えると、着色がひどく
商品価値を失う。
【0020】また、本発明の接着剤には粘度を適正にす
る目的で、非重合性希釈剤を添加することも可能であ
る。
【0021】このような希釈剤としては、例えば酢酸エ
チル、酢酸ブチル、メチルセルソルブ、エチルセルソル
ブ、メチルセルソルブアセテート、エチルセルソルブア
セテート、イソプロピルアルコール、トルエン、キシレ
ン等が挙げられる。接着剤の適正粘度は、塗布方法、塗
布機の種類、塗布スピード、膜厚によって大きく変化す
るので、希釈剤の使用量は任意の割合にすることができ
る。しかし、これらの非重合性希釈剤は、硬化せしめる
際には乾燥過程によって大部分が揮発しなければいけな
い。
【0022】以上の他に、本発明の目的を損なわない範
囲で、他の成分を加えることも可能である。
【0023】このような成分としては、着色、隠蔽効果
等を目的とする顔料、充填剤、界面活性剤、分散剤、可
塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等である。
【0024】本発明の光ディスクは例えば、図1に示す
ものである。すなわち、ポリカーボネート等を基材樹脂
に用いて形成された基板2上に金属を蒸着し、反射膜又
は半透反射膜層として形成された金属層3を有する光デ
ィスク1aの該金属層3を内側に対向させて、上記した
ような接着剤により形成された接着層4を介して接着し
たものである。
【0025】ここで、例えば、金属にアルミニウムを使
用した場合には、上記金属層3は反射膜層として形成さ
れ、金を使用した場合には、上記金属層3は光の約70
%が透過する半透反射膜層として形成できる。また、本
発明では接着されるディスクの一方が金属層3の形成さ
れていないディスクでもよい。
【0026】本発明の接着剤を用いて上記のようにディ
スク1aを接着させるにあたり、金属層3が反射膜層と
して形成されたディスクと、金属層3が半透反射膜層と
して形成されたディスク又は金属層3が形成されていな
いディスクとを接着する場合は、光重合開始剤を含有す
る接着剤が主に使用され、金属層3が反射膜層として形
成されたディスク同士を接着する場合は、熱重合開始剤
を含有する接着剤が主に用いられるが、本発明ではその
両方を併用しても構わない。
【0027】この時、接着剤のディスク1a上への塗布
法は、接着剤の平坦性を確保できる方法であればいずれ
でも構わないが、通常スピンコート法が多用される。
【0028】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。
【0029】実施例1 前記一般式(1)で示されるアクリレートとして9, 9
−ビス[4−(3−アクリロキシ−2−ヒドロキシプロ
ポキシ)フェニル]フルオレン50部、他のアクリレー
トとしてヒドロキシエチルメタクリレート50部、重合
開始剤として2, 4, 6−トリメチルベンゾイルジフェ
ニルフォスフィンオキサイド(BASFジャパン(株)
製)5部を混合、溶解し、本発明の接着剤を得た。
【0030】次に、ポリカーボネート基板にアルミニウ
ムを蒸着した光ディスク上に、上記で得られた接着剤を
スピンコーターを用いて40μmになるように塗布した
上に金属層が形成されていないポリカーボネート基板を
貼り合わせた後、ポリカーボネート基板を透して、高圧
水銀灯ランプにて紫外線を照射して接着剤を硬化させ
た。
【0031】得られた貼り合わせ光ディスクは、これを
70℃、50RH%の恒温恒湿槽中に96時間放置した
後も密着性低下に基づく接着層の剥離及びアルミニウム
の腐食は観察されなかった。さらに、放置前後で接着力
に変化はなかった。また、本接着剤の硬化収縮率は5.
7%であり、屈折率は、1.57であった。
【0032】実施例2 前記一般式(1)で示されるアクリレートとして9, 9
−ビス[4−(3−アクリロキシ−2−ヒドロキシプロ
ポキシ)フェニル]フルオレン75部、他のアクリレー
トとしてヒドロキシエチルメタクリレート25部を用い
た以外は実施例1と同様に貼り合わせ光ディスクを得
た。
【0033】得られた貼り合わせ光ディスクは、これを
70℃、50RH%の恒温恒湿槽中に96時間放置した
後も密着性低下に基づく接着層の剥離及びアルミニウム
の腐食は観察されなかった。さらに、放置前後で接着力
に変化はなかった。また、本接着剤の硬化収縮率は3.
8%であり、屈折率は、1.60であった。
【0034】実施例3 前記一般式(1)で示されるアクリレートとして9, 9
−ビス[4−(2−アクリロキシエトキシ)フェニル]
フルオレン50部、他のアクリレートとしてヒドロキシ
エチルメタクリレート50部を用いた以外は実施例1と
同様に貼り合わせ光ディスクを得た。
【0035】得られた貼り合わせ光ディスクは、これを
70℃、50RH%の恒温恒湿槽中に96時間放置した
後も密着性低下に基づく接着層の剥離及びアルミニウム
の腐食は観察されなかった。さらに、放置前後で接着力
に変化はなかった。また、本接着剤の硬化収縮率は5.
9%であり、屈折率は、1.57であった。
【0036】実施例4 前記一般式(1)で示されるアクリレートとして9, 9
−ビス[4−(2−アクリロキシエトキシ)フェニル]
フルオレン75部、他のアクリレートとしてヒドロキシ
エチルメタクリレート25部を用いた以外は実施例1と
同様に貼り合わせ光ディスクを得た。
【0037】得られた貼り合わせ光ディスクは、これを
70℃、50RH%の恒温恒湿槽中に96時間放置した
後も密着性低下に基づく接着層の剥離及びアルミニウム
の腐食は観察されなかった。さらに、放置前後で接着力
に変化はなかった。また、本接着剤の硬化収縮率は4.
2%であり、屈折率は、1.60であった。
【0038】比較例1 実施例1において、前記一般式(1)で示されるアクリ
レート(9, 9−ビス[4−(3−アクリロキシ−2−
ヒドロキシプロポキシ)フェニル]フルオレン)50部
に代えて、ビスフェノールAエポキシアクリレートを5
0部用いた以外は実施例1と同様にして貼り合わせ光デ
ィスクを得た。
【0039】得られた貼り合わせ光ディスクは、これを
70℃、50RH%の恒温恒湿槽中に96時間放置した
後、密着性低下に基づく接着層の剥離が一部に観察され
た。また、本接着剤の硬化収縮率は11.3%であり、
屈折率は、1.54であった。
【0040】
【発明の効果】本発明の光ディスク用接着剤は、高屈折
率、接着性、耐湿性に優れる上、特に低硬化収縮特性に
優れるため、光ディスクの貼り合わせ用接着剤として有
用であり、また、本発明の光ディスクは、大容量の光信
号を高速・高密度に記録・再生することができ、耐環境
試験においても金属層に腐蝕が見られることがない。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の光ディスクの一例を示す断面図であ
る。
【符号の説明】
1 光ディスク 4 接着層

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記の一般式(1)で示されるアクリレ
    ートと重合開始剤とを必須成分とする光ディスク用接着
    剤。 【化1】
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の光ディスク用接着剤に
    より接着された光ディスク。
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Cited By (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100552914B1 (ko) * 1998-07-10 2006-06-28 제일모직주식회사 칼러레지스트수지조성물
WO2008015852A1 (en) * 2006-08-04 2008-02-07 Hitachi Chemical Company, Ltd. Adhesive composition, and connection structure for circuit member
JP2010053185A (ja) * 2008-08-26 2010-03-11 Nitto Denko Corp アクリル系粘着剤組成物、アクリル系粘着剤層およびアクリル系粘着テープ又はシート
WO2011019067A1 (ja) 2009-08-13 2011-02-17 富士フイルム株式会社 ウェハレベルレンズ、ウェハレベルレンズの製造方法、及び撮像ユニット
EP2296018A1 (en) 2009-09-14 2011-03-16 Fujifilm Corporation Wafer-level lens array, method of manufacturing wafer-level lens array, lens module and imaging unit
EP2298544A2 (en) 2009-09-16 2011-03-23 FUJIFILM Corporation Wafer-level lens array, method of manufacturing wafer-level lens array, lens module and imaging unit
EP2298543A2 (en) 2009-09-17 2011-03-23 FUJIFILM Corporation Master model of lens array and method of manufacturing the same
WO2011040103A1 (ja) 2009-09-30 2011-04-07 富士フイルム株式会社 素子アレイ及び素子アレイ積層体
EP2319672A1 (en) 2009-11-05 2011-05-11 FUJIFILM Corporation Lens array press mold and lens array molded by the same
EP2353828A1 (en) 2010-02-08 2011-08-10 FUJIFILM Corporation Molding die for optical molding product, method of molding optical molding product and lens array
EP2361755A2 (en) 2010-02-26 2011-08-31 FUJIFILM Corporation Lens array
EP2361754A2 (en) 2010-02-26 2011-08-31 FUJIFILM Corporation Lens array
EP2366535A2 (en) 2010-03-19 2011-09-21 Fujifilm Corporation Lens and lens array and manufacturing method thereof
EP2366534A2 (en) 2010-03-19 2011-09-21 Fujifilm Corporation Die, molding method and lens array
EP2369391A1 (en) 2010-03-10 2011-09-28 Fujifilm Corporation Wafer lens unit and method for manufacturing the same
EP2372406A1 (en) 2010-03-19 2011-10-05 Fujifilm Corporation Lens array and lens array manufacturing method
EP2380721A1 (en) 2010-03-30 2011-10-26 Fujifilm Corporation Method for fabricating a master
US8216770B2 (en) 2006-10-16 2012-07-10 Cheil Industries Inc. Resin composition comprising cardo resin, method for forming pattern using the resin composition and color filter using pattern formed by the method
US8273270B2 (en) 2010-10-13 2012-09-25 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition and light blocking layer using the same
JP2012523485A (ja) * 2009-04-10 2012-10-04 ピクセルオプティクス, インコーポレイテッド 硬化可能な接着剤組成物
US8298454B2 (en) 2010-12-10 2012-10-30 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition and light blocking layer using the same
US8318053B2 (en) 2010-12-24 2012-11-27 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition and color filter using the same
US8525283B2 (en) 2010-03-10 2013-09-03 Fujifilm Corporation Wafer lens array and method for manufacturing the same
US8530537B2 (en) 2010-09-29 2013-09-10 Cheil Industries Inc. Black photosensitive resin composition and light blocking layer using the same
US20140166105A1 (en) * 2011-09-26 2014-06-19 Fujifilm Corporation Barrier laminate, gas barrier film, and device employing the same
US8822110B2 (en) 2011-12-02 2014-09-02 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition for color filter and color filter including the same
US9074040B2 (en) 2010-12-20 2015-07-07 Mitsui Chemicals, Inc. Curable adhesive compositions
US9334399B2 (en) 2012-12-12 2016-05-10 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition and black spacer using the same

Cited By (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100552914B1 (ko) * 1998-07-10 2006-06-28 제일모직주식회사 칼러레지스트수지조성물
EP2048209A4 (en) * 2006-08-04 2012-01-18 Hitachi Chemical Co Ltd ADHESIVE COMPOSITION AND CONNECTION STRUCTURE FOR CIRCUIT ELEMENT
WO2008015852A1 (en) * 2006-08-04 2008-02-07 Hitachi Chemical Company, Ltd. Adhesive composition, and connection structure for circuit member
EP2048209A1 (en) * 2006-08-04 2009-04-15 Hitachi Chemical Company, Ltd. Adhesive composition, and connection structure for circuit member
JPWO2008015852A1 (ja) * 2006-08-04 2009-12-17 日立化成工業株式会社 接着剤組成物及び回路部材の接続構造
JP4998468B2 (ja) * 2006-08-04 2012-08-15 日立化成工業株式会社 接着剤組成物及び回路部材の接続構造
US8216770B2 (en) 2006-10-16 2012-07-10 Cheil Industries Inc. Resin composition comprising cardo resin, method for forming pattern using the resin composition and color filter using pattern formed by the method
JP2010053185A (ja) * 2008-08-26 2010-03-11 Nitto Denko Corp アクリル系粘着剤組成物、アクリル系粘着剤層およびアクリル系粘着テープ又はシート
US8921445B2 (en) 2009-04-10 2014-12-30 Mitsui Chemicals, Inc. Curable adhesive compositions
JP2012523485A (ja) * 2009-04-10 2012-10-04 ピクセルオプティクス, インコーポレイテッド 硬化可能な接着剤組成物
WO2011019067A1 (ja) 2009-08-13 2011-02-17 富士フイルム株式会社 ウェハレベルレンズ、ウェハレベルレンズの製造方法、及び撮像ユニット
EP2296018A1 (en) 2009-09-14 2011-03-16 Fujifilm Corporation Wafer-level lens array, method of manufacturing wafer-level lens array, lens module and imaging unit
EP2298544A2 (en) 2009-09-16 2011-03-23 FUJIFILM Corporation Wafer-level lens array, method of manufacturing wafer-level lens array, lens module and imaging unit
EP2298543A2 (en) 2009-09-17 2011-03-23 FUJIFILM Corporation Master model of lens array and method of manufacturing the same
WO2011040103A1 (ja) 2009-09-30 2011-04-07 富士フイルム株式会社 素子アレイ及び素子アレイ積層体
EP2319672A1 (en) 2009-11-05 2011-05-11 FUJIFILM Corporation Lens array press mold and lens array molded by the same
EP2353828A1 (en) 2010-02-08 2011-08-10 FUJIFILM Corporation Molding die for optical molding product, method of molding optical molding product and lens array
EP2361754A2 (en) 2010-02-26 2011-08-31 FUJIFILM Corporation Lens array
EP2361755A2 (en) 2010-02-26 2011-08-31 FUJIFILM Corporation Lens array
EP2369391A1 (en) 2010-03-10 2011-09-28 Fujifilm Corporation Wafer lens unit and method for manufacturing the same
US8525283B2 (en) 2010-03-10 2013-09-03 Fujifilm Corporation Wafer lens array and method for manufacturing the same
EP2366534A2 (en) 2010-03-19 2011-09-21 Fujifilm Corporation Die, molding method and lens array
EP2372406A1 (en) 2010-03-19 2011-10-05 Fujifilm Corporation Lens array and lens array manufacturing method
EP2366535A2 (en) 2010-03-19 2011-09-21 Fujifilm Corporation Lens and lens array and manufacturing method thereof
EP2380721A1 (en) 2010-03-30 2011-10-26 Fujifilm Corporation Method for fabricating a master
US8530537B2 (en) 2010-09-29 2013-09-10 Cheil Industries Inc. Black photosensitive resin composition and light blocking layer using the same
US8273270B2 (en) 2010-10-13 2012-09-25 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition and light blocking layer using the same
US8298454B2 (en) 2010-12-10 2012-10-30 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition and light blocking layer using the same
US9074040B2 (en) 2010-12-20 2015-07-07 Mitsui Chemicals, Inc. Curable adhesive compositions
US8318053B2 (en) 2010-12-24 2012-11-27 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition and color filter using the same
US20140166105A1 (en) * 2011-09-26 2014-06-19 Fujifilm Corporation Barrier laminate, gas barrier film, and device employing the same
US8822110B2 (en) 2011-12-02 2014-09-02 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition for color filter and color filter including the same
US9334399B2 (en) 2012-12-12 2016-05-10 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition and black spacer using the same

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