JPH1067977A - 光ディスク用接着剤及び光ディスク - Google Patents
光ディスク用接着剤及び光ディスクInfo
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- JPH1067977A JPH1067977A JP8245603A JP24560396A JPH1067977A JP H1067977 A JPH1067977 A JP H1067977A JP 8245603 A JP8245603 A JP 8245603A JP 24560396 A JP24560396 A JP 24560396A JP H1067977 A JPH1067977 A JP H1067977A
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- Japan
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- adhesive
- optical disk
- acrylate
- optical
- optical disks
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高屈折率、接着性、耐湿性及び低硬化収縮性
に優れた光ディスク用接着剤及びこれを使用した接着さ
れたディスクを提供する。 【解決手法】 下記の一般式（１）で示されるアクリレ
ートにジイソシアネートを付加させて得られるアクリロ
イル基を含有する多官能ウレタンアクリレート及び重合
開始剤を必須成分とする光ディスク用接着剤である。 【化１】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は水素原子又は炭素数１〜５のア
ルキル基を示し、Ｒ3 は水素原子又はメチル基を示し、
ｎは１〜２１の数を示す） さらに、本発明は、このような光ディスク用接着剤を用
いて接着された光ディスクである。 【効果】 本発明の光ディスク用接着剤は、高屈折率、
接着性、耐湿性に優れる上、特に低硬化収縮特性に優れ
るため、光ディスクの貼り合わせ用接着剤として有用で
あり、また、本発明の光ディスクは、大容量の光信号を
高速・高密度に記録・再生することができ、耐環境試験
においても金属層に腐蝕が見られることがない。
に優れた光ディスク用接着剤及びこれを使用した接着さ
れたディスクを提供する。 【解決手法】 下記の一般式（１）で示されるアクリレ
ートにジイソシアネートを付加させて得られるアクリロ
イル基を含有する多官能ウレタンアクリレート及び重合
開始剤を必須成分とする光ディスク用接着剤である。 【化１】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は水素原子又は炭素数１〜５のア
ルキル基を示し、Ｒ3 は水素原子又はメチル基を示し、
ｎは１〜２１の数を示す） さらに、本発明は、このような光ディスク用接着剤を用
いて接着された光ディスクである。 【効果】 本発明の光ディスク用接着剤は、高屈折率、
接着性、耐湿性に優れる上、特に低硬化収縮特性に優れ
るため、光ディスクの貼り合わせ用接着剤として有用で
あり、また、本発明の光ディスクは、大容量の光信号を
高速・高密度に記録・再生することができ、耐環境試験
においても金属層に腐蝕が見られることがない。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は多官能アクリレート
を含有した光ディスク用接着剤及びこれを使用して接着
された光ディスクに関するものであり、本発明の接着剤
により得られる接着層は、高屈折率、接着性、耐湿性に
優れる上、特に低硬化収縮特性に優れるため、光信号を
高速・高密度に記録・再生する光ディスクの貼り合わせ
用接着剤として有用である。
を含有した光ディスク用接着剤及びこれを使用して接着
された光ディスクに関するものであり、本発明の接着剤
により得られる接着層は、高屈折率、接着性、耐湿性に
優れる上、特に低硬化収縮特性に優れるため、光信号を
高速・高密度に記録・再生する光ディスクの貼り合わせ
用接着剤として有用である。
【０００２】
【従来の技術】コンパクトディスク、光磁気ディスク等
をはじめとする光ディスクはポリカーボネート等を基材
樹脂とする透明基板上に蒸着又はスパッタリングにより
形成された金属薄膜層を有する構造をもっている。この
金属薄膜層は大気中の酸素や水分の影響を受け、その特
性が劣化しやすいため、従来、熱可塑性樹脂やアクリル
酸エステルを主成分とする紫外線硬化型樹脂がオーバー
コート剤として使用されている。しかしながら、従来か
らのものは、接着性、耐湿性が不十分であり、耐環境試
験において金属薄膜層に腐食が見られていた。
をはじめとする光ディスクはポリカーボネート等を基材
樹脂とする透明基板上に蒸着又はスパッタリングにより
形成された金属薄膜層を有する構造をもっている。この
金属薄膜層は大気中の酸素や水分の影響を受け、その特
性が劣化しやすいため、従来、熱可塑性樹脂やアクリル
酸エステルを主成分とする紫外線硬化型樹脂がオーバー
コート剤として使用されている。しかしながら、従来か
らのものは、接着性、耐湿性が不十分であり、耐環境試
験において金属薄膜層に腐食が見られていた。
【０００３】一方、光ディスクの大容量化の要求によ
り、ディスクを接着層を介して貼り合わせることにより
目的を達する場合がある。この目的に使用される接着剤
は、上記オーバーコート剤に求められる接着性及び耐湿
性等に加えて、接着層を光が透過する場合には透明性等
の光学特性が要求され、また、ディスクの再生エラーを
防止する意味において低硬化収縮性が強く要求される
が、これらの特性を満足する接着剤は未だ得られていな
い。
り、ディスクを接着層を介して貼り合わせることにより
目的を達する場合がある。この目的に使用される接着剤
は、上記オーバーコート剤に求められる接着性及び耐湿
性等に加えて、接着層を光が透過する場合には透明性等
の光学特性が要求され、また、ディスクの再生エラーを
防止する意味において低硬化収縮性が強く要求される
が、これらの特性を満足する接着剤は未だ得られていな
い。
【０００４】例えば、特開昭６１−１２３５９３号公
報、特開昭６１−１３３０６７号公報、特開昭６１−１
３９９６１号公報、特開昭６１−１５３８４４号公報、
特開平２−１０７６３０号公報、特開平２−１３２６６
４号公報等にアクリレート系樹脂組成物又はエポキシ系
樹脂組成物の硬化物を保護膜層に用いたものが開示され
ている。また、フルオレン骨格を有するアクリレート化
合物は、例えば、特開平４−３３７３０７号公報、特開
平６−２２０１３１号公報等に光ディスクのオーバーコ
ート剤として開示されている。しかしながら、光ディス
ク用接着剤としての用途を示唆するものは、従来にはな
かった。
報、特開昭６１−１３３０６７号公報、特開昭６１−１
３９９６１号公報、特開昭６１−１５３８４４号公報、
特開平２−１０７６３０号公報、特開平２−１３２６６
４号公報等にアクリレート系樹脂組成物又はエポキシ系
樹脂組成物の硬化物を保護膜層に用いたものが開示され
ている。また、フルオレン骨格を有するアクリレート化
合物は、例えば、特開平４−３３７３０７号公報、特開
平６−２２０１３１号公報等に光ディスクのオーバーコ
ート剤として開示されている。しかしながら、光ディス
ク用接着剤としての用途を示唆するものは、従来にはな
かった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は上記の
問題点を解決し、高屈折率、接着性、耐湿性及び低硬化
収縮性に優れた光ディスク用接着剤及びこれを使用して
接着された光ディスクを提供することにある。
問題点を解決し、高屈折率、接着性、耐湿性及び低硬化
収縮性に優れた光ディスク用接着剤及びこれを使用して
接着された光ディスクを提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は下記
の一般式（１）で示されるアクリレートにジイソシアネ
ートを付加させて得られるアクリロイル基を有する多官
能ウレタンアクリレート及び重合開始剤を必須成分とす
る光ディスク用接着剤である。
の一般式（１）で示されるアクリレートにジイソシアネ
ートを付加させて得られるアクリロイル基を有する多官
能ウレタンアクリレート及び重合開始剤を必須成分とす
る光ディスク用接着剤である。
【化２】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は水素原子又は炭素数１〜５のア
ルキル基を示し、Ｒ3 は水素原子又はメチル基を示し、
ｎは１〜２１の数を示す）
ルキル基を示し、Ｒ3 は水素原子又はメチル基を示し、
ｎは１〜２１の数を示す）
【０００７】さらに、本発明は、このような光ディスク
用接着剤を用いて接着された光ディスクである。
用接着剤を用いて接着された光ディスクである。
【０００８】本発明において、上記一般式（１）で示さ
れるアクリレートは、その中間体であるエポキシ成分
と、アクリル酸又はメタクリル酸との反応により得るこ
とができる。
れるアクリレートは、その中間体であるエポキシ成分
と、アクリル酸又はメタクリル酸との反応により得るこ
とができる。
【０００９】中間体であるエポキシ成分は、一般のエポ
キシ樹脂の合成法と同様にして得ることができ、原料と
して用いられるジフェノール類を適当量のエピクロロヒ
ドリンと共に加熱溶融して得ることができる。また、エ
ポキシ生成反応の際の原料比率を変えることで、一般式
（１）中の繰り返し数ｎを変化させることができ、これ
はＧＰＣ等により検出可能である。
キシ樹脂の合成法と同様にして得ることができ、原料と
して用いられるジフェノール類を適当量のエピクロロヒ
ドリンと共に加熱溶融して得ることができる。また、エ
ポキシ生成反応の際の原料比率を変えることで、一般式
（１）中の繰り返し数ｎを変化させることができ、これ
はＧＰＣ等により検出可能である。
【００１０】一般式（１）において、平均の繰り返し数
ｎは、１〜２１の範囲内であり、ｎが２１を超えると樹
脂の溶融粘度及び溶液とした時の粘度が非常に高くなっ
て扱い難くなる。
ｎは、１〜２１の範囲内であり、ｎが２１を超えると樹
脂の溶融粘度及び溶液とした時の粘度が非常に高くなっ
て扱い難くなる。
【００１１】原料ジフェノール類の具体例としては、例
えば、９, ９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオ
レン、９, ９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）フルオレン、９, ９−ビス（３−エチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）フルオレン等が挙げられる。
えば、９, ９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオ
レン、９, ９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）フルオレン、９, ９−ビス（３−エチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）フルオレン等が挙げられる。
【００１２】また、本発明で使用する一般式（１）のア
クリレートの具体例としては、例えば、Ｒ1 ＝Ｈ、Ｒ2
＝Ｈのカルドエポキシアクリレート（新日鐵化学（株）
製商品名：ＡＳＦ−４００）を挙げることができる。
クリレートの具体例としては、例えば、Ｒ1 ＝Ｈ、Ｒ2
＝Ｈのカルドエポキシアクリレート（新日鐵化学（株）
製商品名：ＡＳＦ−４００）を挙げることができる。
【００１３】本発明において、一般式（１）で示される
アクリレートにジイソシアネートを付加させる反応は通
常のウレタン反応より達成される。
アクリレートにジイソシアネートを付加させる反応は通
常のウレタン反応より達成される。
【００１４】この反応は窒素雰囲気下、５０〜１５０
℃、好ましくは、６０℃〜１００℃の温度範囲で行う。
５０℃より反応温度が低い場合にはイソシアネート反応
速度が小さく、１５０℃より高い場合にはイソシアネー
ト基同士が反応すると同時にアクリロイル基がラジカル
重合を起こす可能性があり、目的の生成物が得られない
ので好ましくない。
℃、好ましくは、６０℃〜１００℃の温度範囲で行う。
５０℃より反応温度が低い場合にはイソシアネート反応
速度が小さく、１５０℃より高い場合にはイソシアネー
ト基同士が反応すると同時にアクリロイル基がラジカル
重合を起こす可能性があり、目的の生成物が得られない
ので好ましくない。
【００１５】この反応は無触媒下でも反応は進行する
が、反応を促進させる目的で触媒を用いることもでき
る。
が、反応を促進させる目的で触媒を用いることもでき
る。
【００１６】触媒としてはテトラブチルチタネート、テ
トラプロピルチタネート、テトラエチルチタネート等の
チタン化合物、オクチル酸スズ、ジブチルスズオキシ
ド、ジブチルスズジラウレート等の有機スズ化合物を用
いることができる。このような触媒の使用量は全仕込み
量に対し０. ０１〜１０. ００ppm である。
トラプロピルチタネート、テトラエチルチタネート等の
チタン化合物、オクチル酸スズ、ジブチルスズオキシ
ド、ジブチルスズジラウレート等の有機スズ化合物を用
いることができる。このような触媒の使用量は全仕込み
量に対し０. ０１〜１０. ００ppm である。
【００１７】上記反応により得られる多官能ウレタンア
クリレートの分子量は、ＧＰＣ測定によるポリスチレン
換算の数平均分子量で１０００〜６０００が好ましく、
さらに好ましくは、３０００〜５０００である。分子量
が１０００より低い場合には、得られる接着剤の応力緩
和特性が低く密着性が得られず、６０００より高い場合
には、熱、光による硬化特性に劣る。
クリレートの分子量は、ＧＰＣ測定によるポリスチレン
換算の数平均分子量で１０００〜６０００が好ましく、
さらに好ましくは、３０００〜５０００である。分子量
が１０００より低い場合には、得られる接着剤の応力緩
和特性が低く密着性が得られず、６０００より高い場合
には、熱、光による硬化特性に劣る。
【００１８】多官能ウレタンアクリレートの合成におい
て、アクリレートとジイソシアネートとのモル比は、上
記の好ましい分子量範囲の多官能ウレタンアクリレート
が得られるものであればよい。
て、アクリレートとジイソシアネートとのモル比は、上
記の好ましい分子量範囲の多官能ウレタンアクリレート
が得られるものであればよい。
【００１９】本発明の接着剤は、上記のようにして得ら
れた多官能ウレタンアクリレートと重合開始剤とを必須
成分とするが、本発明ではこの多官能ウレタンアクリレ
ートに加え、他のアクリレートを混合して用いることも
できる。
れた多官能ウレタンアクリレートと重合開始剤とを必須
成分とするが、本発明ではこの多官能ウレタンアクリレ
ートに加え、他のアクリレートを混合して用いることも
できる。
【００２０】他のアクリレートとしては、具体的には、
メチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレー
ト、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１,
３−プロピレンジオール（メタ）アクリレート、１, ４
−ブタンジオール（メタ）アクリレート、１, ５−ペン
タンジオールジ（メタ）アクリレート、１, ６−ヘキサ
ンジオールジ（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニル−２−
ピロリドン、テトラヒドロフルフリール（メタ）アクリ
レート、Ｎ−ビニルカプロラクタム等が挙げられる。
メチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレー
ト、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１,
３−プロピレンジオール（メタ）アクリレート、１, ４
−ブタンジオール（メタ）アクリレート、１, ５−ペン
タンジオールジ（メタ）アクリレート、１, ６−ヘキサ
ンジオールジ（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニル−２−
ピロリドン、テトラヒドロフルフリール（メタ）アクリ
レート、Ｎ−ビニルカプロラクタム等が挙げられる。
【００２１】また、多官能ウレタンアクリレート（Ａ成
分）と他のアクリレート（Ｂ成分）の割合は、Ａ成分１
００重量部に対してＢ成分４００重量部以下であること
が好ましく、４００重量部を超えると、Ａ成分の多官能
ウレタンアクリレートの本来の特性が低下し、結果とし
て低硬化収縮性、耐湿性を損なう原因となる。
分）と他のアクリレート（Ｂ成分）の割合は、Ａ成分１
００重量部に対してＢ成分４００重量部以下であること
が好ましく、４００重量部を超えると、Ａ成分の多官能
ウレタンアクリレートの本来の特性が低下し、結果とし
て低硬化収縮性、耐湿性を損なう原因となる。
【００２２】本発明の接着剤の必須成分である重合開始
剤は、アクリロイル基の重合反応を開始し促進するもの
であれば特に制限されず、この重合反応は公知の方法に
より行うことができる。
剤は、アクリロイル基の重合反応を開始し促進するもの
であれば特に制限されず、この重合反応は公知の方法に
より行うことができる。
【００２３】紫外線を照射して本発明の接着剤を光硬化
（光重合）させる場合は、光重合開始剤を用いることが
できる。光重合開始剤としては、具体的には、２, ４,
６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキ
サイド、２, ２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェ
ノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、キサントン、
３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノ
ン、４, ４′−ジメトキシベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ，
Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノベンゾ
フェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンジルジメ
チルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２
−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒ
ドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オ
ン、その他チオキサントン系化合物等が例示され、これ
らの化合物の１種又は２種以上使用することができる。
（光重合）させる場合は、光重合開始剤を用いることが
できる。光重合開始剤としては、具体的には、２, ４,
６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキ
サイド、２, ２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェ
ノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、キサントン、
３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノ
ン、４, ４′−ジメトキシベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ，
Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノベンゾ
フェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンジルジメ
チルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２
−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒ
ドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オ
ン、その他チオキサントン系化合物等が例示され、これ
らの化合物の１種又は２種以上使用することができる。
【００２４】また、加熱による硬化（重合）方法も用い
ることができる。この場合の熱重合開始剤としては次の
ようなものが挙げられる。すなわち、ケトンパーオキサ
イド、パーオキシケタノール、ハイドロパーオキサイ
ド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイ
ド、パーオキシジカーボネート又はパーオキシエステル
系化合物等が挙げられる。
ることができる。この場合の熱重合開始剤としては次の
ようなものが挙げられる。すなわち、ケトンパーオキサ
イド、パーオキシケタノール、ハイドロパーオキサイ
ド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイ
ド、パーオキシジカーボネート又はパーオキシエステル
系化合物等が挙げられる。
【００２５】また、重合開始剤（Ｃ成分）とアクリレー
ト全量（Ａ＋Ｂ成分）の割合は、光重合開始剤の場合、
Ａ＋Ｂ成分１００重量部に対してＣ成分０．１〜３０重
量部、好ましくは１〜２０重量部であり、Ｃ成分が０．
１重量部未満であると、重合速度が遅くなって硬化不良
を起こし、３０重量部を超えると、光が基板まで達し難
くなり、基板との密着性が低下する。熱重合開始剤の場
合は、Ａ＋Ｂ成分１００重量部に対してＣ成分０．１〜
２０重量部、好ましくは１〜１０重量部であり、Ｃ成分
が０．１重量部未満であると、重合速度が遅くなって硬
化不良を起こし、２０重量部を超えると、着色がひどく
商品価値を失う。
ト全量（Ａ＋Ｂ成分）の割合は、光重合開始剤の場合、
Ａ＋Ｂ成分１００重量部に対してＣ成分０．１〜３０重
量部、好ましくは１〜２０重量部であり、Ｃ成分が０．
１重量部未満であると、重合速度が遅くなって硬化不良
を起こし、３０重量部を超えると、光が基板まで達し難
くなり、基板との密着性が低下する。熱重合開始剤の場
合は、Ａ＋Ｂ成分１００重量部に対してＣ成分０．１〜
２０重量部、好ましくは１〜１０重量部であり、Ｃ成分
が０．１重量部未満であると、重合速度が遅くなって硬
化不良を起こし、２０重量部を超えると、着色がひどく
商品価値を失う。
【００２６】また、本発明の接着剤には粘度を適正にす
る目的で、非重合性希釈剤を添加することも可能であ
る。
る目的で、非重合性希釈剤を添加することも可能であ
る。
【００２７】このような希釈剤としては、例えば酢酸エ
チル、酢酸ブチル、メチルセルソルブ、エチルセルソル
ブ、メチルセルソルブアセテート、エチルセルソルブア
セテート、イソプロピルアルコール、トルエン、キシレ
ン等が挙げられる。接着剤の適正粘度は、塗布方法、塗
布機の種類、塗布スピード、膜厚によって大きく変化す
るので、希釈剤の使用量は任意の割合にすることができ
る。しかし、これらの非重合性希釈剤は、硬化せしめる
際には乾燥過程によって大部分が揮発しなければいけな
い。
チル、酢酸ブチル、メチルセルソルブ、エチルセルソル
ブ、メチルセルソルブアセテート、エチルセルソルブア
セテート、イソプロピルアルコール、トルエン、キシレ
ン等が挙げられる。接着剤の適正粘度は、塗布方法、塗
布機の種類、塗布スピード、膜厚によって大きく変化す
るので、希釈剤の使用量は任意の割合にすることができ
る。しかし、これらの非重合性希釈剤は、硬化せしめる
際には乾燥過程によって大部分が揮発しなければいけな
い。
【００２８】以上の他に、本発明の目的を損なわない範
囲で、他の成分を加えることも可能である。
囲で、他の成分を加えることも可能である。
【００２９】このような成分としては、着色、隠蔽効果
等を目的とする顔料、充填剤、界面活性剤、分散剤、可
塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等である。
等を目的とする顔料、充填剤、界面活性剤、分散剤、可
塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等である。
【００３０】本発明の光ディスクは例えば、図１に示す
ものである。すなわち、ポリカーボネート等を基材樹脂
に用いて形成された基板２上に金属を蒸着し、反射膜又
は半透反射膜層として形成された金属層３を有する光デ
ィスク１ａの該金属層３を内側に対向させて、上記した
ような接着剤により形成された接着層４を介して接着し
たものである。
ものである。すなわち、ポリカーボネート等を基材樹脂
に用いて形成された基板２上に金属を蒸着し、反射膜又
は半透反射膜層として形成された金属層３を有する光デ
ィスク１ａの該金属層３を内側に対向させて、上記した
ような接着剤により形成された接着層４を介して接着し
たものである。
【００３１】ここで、例えば、金属にアルミニウムを使
用した場合には、上記金属層３は反射膜層として形成さ
れ、金を使用した場合には、上記金属層３は光の約７０
％が透過する半透反射膜層として形成できる。また、本
発明では接着されるディスクの一方が金属層３の形成さ
れていないディスクでもよい。
用した場合には、上記金属層３は反射膜層として形成さ
れ、金を使用した場合には、上記金属層３は光の約７０
％が透過する半透反射膜層として形成できる。また、本
発明では接着されるディスクの一方が金属層３の形成さ
れていないディスクでもよい。
【００３２】本発明の接着剤を用いて上記のようにディ
スク１ａを接着させるにあたり、金属層３が反射膜層と
して形成されたディスクと、金属層３が半透反射膜層と
して形成されたディスク又は金属層３が形成されていな
いディスクとを接着する場合は、光重合開始剤を含有す
る接着剤が主に使用され、金属層３が反射膜層として形
成されたディスク同士を接着する場合は、熱重合開始剤
を含有する接着剤が主に用いられるが、本発明ではその
両方を併用しても構わない。
スク１ａを接着させるにあたり、金属層３が反射膜層と
して形成されたディスクと、金属層３が半透反射膜層と
して形成されたディスク又は金属層３が形成されていな
いディスクとを接着する場合は、光重合開始剤を含有す
る接着剤が主に使用され、金属層３が反射膜層として形
成されたディスク同士を接着する場合は、熱重合開始剤
を含有する接着剤が主に用いられるが、本発明ではその
両方を併用しても構わない。
【００３３】この時、接着剤のディスク１ａ上への塗布
法は、接着剤の平坦性を確保できる方法であればいずれ
でも構わないが、通常スピンコート法が多用される。
法は、接着剤の平坦性を確保できる方法であればいずれ
でも構わないが、通常スピンコート法が多用される。
【００３４】
【実施例】以下、実施例より本発明をさらに説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。
が、本発明はこれに限定されるものではない。
【００３５】合成例１ 窒素導入管、温度計、冷却管、撹拌装置を備えた４つ口
フラスコに、前記一般式（１）で示されるアクリレート
として９, ９−ビス［４−（３−アクリロキシ２−ヒド
ロキシプロポキシ）フェニル］フルオレン１２４. ５
ｇ、溶剤として２−エトキシエチルアセテート（以下Ｅ
ＣＡと略す。）を１０４ｇ加え、溶解させた後、ヘキサ
メチレンジイソシアネート１２. ６ｇを、窒素雰囲気下
反応温度５０℃に保ちながら滴下ロートより約３０分で
滴下し滴下終了後５０℃で反応を続け、ＩＲ分析により
反応生成物中にイソシアネート基が存在しないことを確
認して反応を終了した。反応生成物として多官能ウレタ
ンアクリレート／ＥＣＡ溶液を２４１ｇ得た。溶液より
単離した多官能ウレタンアクリレートの硬化物の屈折率
は、１．６２であった。
フラスコに、前記一般式（１）で示されるアクリレート
として９, ９−ビス［４−（３−アクリロキシ２−ヒド
ロキシプロポキシ）フェニル］フルオレン１２４. ５
ｇ、溶剤として２−エトキシエチルアセテート（以下Ｅ
ＣＡと略す。）を１０４ｇ加え、溶解させた後、ヘキサ
メチレンジイソシアネート１２. ６ｇを、窒素雰囲気下
反応温度５０℃に保ちながら滴下ロートより約３０分で
滴下し滴下終了後５０℃で反応を続け、ＩＲ分析により
反応生成物中にイソシアネート基が存在しないことを確
認して反応を終了した。反応生成物として多官能ウレタ
ンアクリレート／ＥＣＡ溶液を２４１ｇ得た。溶液より
単離した多官能ウレタンアクリレートの硬化物の屈折率
は、１．６２であった。
【００３６】実施例１ 合成例１にて得られた多官能ウレタンアクリレート５０
部、他のアクリレートとしてヒドロキシエチルメタクリ
レート５０部、重合開始剤として２、４、６-トリメチ
ルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド（ＢＡ
ＳＦジャパン（株）製）５部を混合、溶解し、本発明の
接着剤を得た。
部、他のアクリレートとしてヒドロキシエチルメタクリ
レート５０部、重合開始剤として２、４、６-トリメチ
ルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド（ＢＡ
ＳＦジャパン（株）製）５部を混合、溶解し、本発明の
接着剤を得た。
【００３７】次に、ポリカーボネート基板にアルミニウ
ムを蒸着した光ディスク上に、上記で得られた接着剤を
スピンコーターを用いて４０μｍになるように塗布した
上に金属層が形成されていないポリカーボネート基板を
貼り合わせた後、ポリカーボネート基板を透して、高圧
水銀灯ランプにて紫外線を照射して接着剤を硬化させ
た。
ムを蒸着した光ディスク上に、上記で得られた接着剤を
スピンコーターを用いて４０μｍになるように塗布した
上に金属層が形成されていないポリカーボネート基板を
貼り合わせた後、ポリカーボネート基板を透して、高圧
水銀灯ランプにて紫外線を照射して接着剤を硬化させ
た。
【００３８】得られた貼り合わせ光ディスクは、これを
７０℃、５０ＲＨ％の恒温恒湿槽中に９６時間放置した
後も密着性低下に基づく接着層の剥離及びアルミニウム
の腐食は観察されなかった。さらに、放置前後で接着力
に変化はなかった。また、本接着剤の硬化収縮率は４．
７％であり、屈折率は、１．５７であった。
７０℃、５０ＲＨ％の恒温恒湿槽中に９６時間放置した
後も密着性低下に基づく接着層の剥離及びアルミニウム
の腐食は観察されなかった。さらに、放置前後で接着力
に変化はなかった。また、本接着剤の硬化収縮率は４．
７％であり、屈折率は、１．５７であった。
【００３９】実施例２ 合成例１にて得られた多官能ウレタンアクリレート７５
部、他のアクリレートとしてヒドロキシエチルメタクリ
レート２５部を用いた以外は実施例１と同様に貼り合わ
せ光ディスクを得た。
部、他のアクリレートとしてヒドロキシエチルメタクリ
レート２５部を用いた以外は実施例１と同様に貼り合わ
せ光ディスクを得た。
【００４０】得られた貼り合わせ光ディスクは、これを
７０℃、５０ＲＨ％の恒温恒湿槽中に９６時間放置した
後も密着性低下に基づく接着層の剥離及びアルミニウム
の腐食は観察されなかった。さらに、放置前後で接着力
に変化はなかった。また、本接着剤の硬化収縮率は２．
８％であり、屈折率は、１．６０であった。
７０℃、５０ＲＨ％の恒温恒湿槽中に９６時間放置した
後も密着性低下に基づく接着層の剥離及びアルミニウム
の腐食は観察されなかった。さらに、放置前後で接着力
に変化はなかった。また、本接着剤の硬化収縮率は２．
８％であり、屈折率は、１．６０であった。
【００４１】比較例１ 実施例１において、合成例１で得た多官能ウレタンアク
リレート５０部に代えて、ビスフェノールＡエポキシア
クリレートを５０部用いた以外は実施例１と同様にして
貼り合わせ光ディスクを得た。
リレート５０部に代えて、ビスフェノールＡエポキシア
クリレートを５０部用いた以外は実施例１と同様にして
貼り合わせ光ディスクを得た。
【００４２】得られた貼り合わせ光ディスクは、これを
７０℃、５０ＲＨ％の恒温恒湿槽中に９６時間放置した
後、密着性低下に基づく接着層の剥離が一部に観察され
た。また、本接着剤の硬化収縮率は１１．３％であり、
屈折率は、１．５４であった。
７０℃、５０ＲＨ％の恒温恒湿槽中に９６時間放置した
後、密着性低下に基づく接着層の剥離が一部に観察され
た。また、本接着剤の硬化収縮率は１１．３％であり、
屈折率は、１．５４であった。
【００４３】
【発明の効果】本発明の光ディスク用接着剤は、高屈折
率、接着性、耐湿性に優れる上、特に低硬化収縮特性に
優れるため、光ディスクの貼り合わせ用接着剤として有
用であり、また、本発明の光ディスクは、大容量の光信
号を高速・高密度に記録・再生することができ、耐環境
試験においても金属層に腐蝕が見られることがない。
率、接着性、耐湿性に優れる上、特に低硬化収縮特性に
優れるため、光ディスクの貼り合わせ用接着剤として有
用であり、また、本発明の光ディスクは、大容量の光信
号を高速・高密度に記録・再生することができ、耐環境
試験においても金属層に腐蝕が見られることがない。
【図１】 本発明の光ディスクの一例を示す断面図であ
る。
る。
１ 光ディスク ４ 接着層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 湯浅 正敏 神奈川県川崎市中原区井田1618番地 新日 本製鐵株式会社技術開発本部内
Claims (2)
- 【請求項１】 下記の一般式（１）で示されるアクリレ
ートにジイソシアネートを付加させて得られるアクリロ
イル基を有する多官能ウレタンアクリレートと、重合開
始剤とを必須成分とする光ディスク用接着剤。 【化１】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は水素原子又は炭素数１〜５のア
ルキル基を示し、Ｒ3 は水素原子又はメチル基を示し、
ｎは１〜２１の数を示す） - 【請求項２】 請求項１に記載の光ディスク用接着剤に
より接着された光ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8245603A JPH1067977A (ja) | 1996-08-28 | 1996-08-28 | 光ディスク用接着剤及び光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8245603A JPH1067977A (ja) | 1996-08-28 | 1996-08-28 | 光ディスク用接着剤及び光ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1067977A true JPH1067977A (ja) | 1998-03-10 |
Family
ID=17136182
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8245603A Withdrawn JPH1067977A (ja) | 1996-08-28 | 1996-08-28 | 光ディスク用接着剤及び光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1067977A (ja) |
Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000020478A1 (en) * | 1998-10-05 | 2000-04-13 | Dsm N.V. | Liquid curable resin composition |
| JP2009001766A (ja) * | 2007-05-24 | 2009-01-08 | Hitachi Chem Co Ltd | 接着剤組成物 |
| EP2048209A1 (en) * | 2006-08-04 | 2009-04-15 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Adhesive composition, and connection structure for circuit member |
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| EP2296018A1 (en) | 2009-09-14 | 2011-03-16 | Fujifilm Corporation | Wafer-level lens array, method of manufacturing wafer-level lens array, lens module and imaging unit |
| EP2298544A2 (en) | 2009-09-16 | 2011-03-23 | FUJIFILM Corporation | Wafer-level lens array, method of manufacturing wafer-level lens array, lens module and imaging unit |
| EP2298543A2 (en) | 2009-09-17 | 2011-03-23 | FUJIFILM Corporation | Master model of lens array and method of manufacturing the same |
| WO2011040103A1 (ja) | 2009-09-30 | 2011-04-07 | 富士フイルム株式会社 | 素子アレイ及び素子アレイ積層体 |
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| EP2353828A1 (en) | 2010-02-08 | 2011-08-10 | FUJIFILM Corporation | Molding die for optical molding product, method of molding optical molding product and lens array |
| EP2361755A2 (en) | 2010-02-26 | 2011-08-31 | FUJIFILM Corporation | Lens array |
| EP2361754A2 (en) | 2010-02-26 | 2011-08-31 | FUJIFILM Corporation | Lens array |
| EP2366534A2 (en) | 2010-03-19 | 2011-09-21 | Fujifilm Corporation | Die, molding method and lens array |
| EP2366535A2 (en) | 2010-03-19 | 2011-09-21 | Fujifilm Corporation | Lens and lens array and manufacturing method thereof |
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| US11518916B2 (en) | 2017-12-26 | 2022-12-06 | Fujifilm Corporation | Lens adhesive, cemented lens, and imaging module |
-
1996
- 1996-08-28 JP JP8245603A patent/JPH1067977A/ja not_active Withdrawn
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