JPS6213307A - プラスチック情報記録媒体 - Google Patents
プラスチック情報記録媒体Info
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- JPS6213307A JPS6213307A JP60152521A JP15252185A JPS6213307A JP S6213307 A JPS6213307 A JP S6213307A JP 60152521 A JP60152521 A JP 60152521A JP 15252185 A JP15252185 A JP 15252185A JP S6213307 A JPS6213307 A JP S6213307A
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- JP
- Japan
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- compound
- tables
- formulas
- chemical formulas
- mathematical formulas
- Prior art date
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- Granted
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/17—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C45/26—Moulds
- B29C45/263—Moulds with mould wall parts provided with fine grooves or impressions, e.g. for record discs
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明はプラスチック情報記録媒体の製造方法、この製
造方法で製作したプラスチック情報記録媒体およびグラ
スチック情報記録媒体ｔ−製作するのに用いる樹脂組成
物に関する。
造方法で製作したプラスチック情報記録媒体およびグラ
スチック情報記録媒体ｔ−製作するのに用いる樹脂組成
物に関する。
デジタルオーディオディスク、ビデオディスク、光ディ
スク情報記録媒体、光殊気ディスク等に用いるプラスチ
ック情報記録媒体は、透明プラスチック板表面に溝やビ
ット等で情報パターンを設けたものである。
スク情報記録媒体、光殊気ディスク等に用いるプラスチ
ック情報記録媒体は、透明プラスチック板表面に溝やビ
ット等で情報パターンを設けたものである。
このようなプラスチック情報記録媒体は、情報パターン
を有するスタンパの情報パターン形成面と透明プラスチ
ック板とを一定間隔に対向させて出来た空間に、１分子
当シ１〜４個のアクリレート基又はメタクリレート基を
有するアクリレート又はアクリレートオリゴマーと、０
．１〜０．５重量係の光重合開始剤とを含み、粘度が１
０００〜１５０００ｃｐである放射線硬化性樹脂組成物
、具体的にはアルキレン−ビス（フェノキシアルキルア
クリレート）に属する（１）式の化合物又はアルキレン
−ビス（フェノキシアルキルメタクリレート）に属する
（２）式の化合物を主成分とし、これらに光重合開始剤
を加えた放射線硬化性樹脂組成物を注入し、透明プラス
チック板側よシ放射線を照射し上記放射線硬化性樹脂組
成物を硬化させ、上記スタンパと透明プラスチック板を
取り除いて得ている。
を有するスタンパの情報パターン形成面と透明プラスチ
ック板とを一定間隔に対向させて出来た空間に、１分子
当シ１〜４個のアクリレート基又はメタクリレート基を
有するアクリレート又はアクリレートオリゴマーと、０
．１〜０．５重量係の光重合開始剤とを含み、粘度が１
０００〜１５０００ｃｐである放射線硬化性樹脂組成物
、具体的にはアルキレン−ビス（フェノキシアルキルア
クリレート）に属する（１）式の化合物又はアルキレン
−ビス（フェノキシアルキルメタクリレート）に属する
（２）式の化合物を主成分とし、これらに光重合開始剤
を加えた放射線硬化性樹脂組成物を注入し、透明プラス
チック板側よシ放射線を照射し上記放射線硬化性樹脂組
成物を硬化させ、上記スタンパと透明プラスチック板を
取り除いて得ている。
しかし、上記放射層硬化性Ｗ脂組成物は、成溢条件を厳
密に選定する必要がアシ、かつこの組成物では硬化物の
機械強度、耐熱性、耐湿性および光学的異方性の小さい
プラスチック情報記録媒体が得られなかった（特開昭５
５−１６０３３８）。
密に選定する必要がアシ、かつこの組成物では硬化物の
機械強度、耐熱性、耐湿性および光学的異方性の小さい
プラスチック情報記録媒体が得られなかった（特開昭５
５−１６０３３８）。
本発明の目的は、成呈条件の選定が厳密でなくてよく、
かつ硬化物の機械強度、耐熱性、耐湿性良く、光学的異
方性の小さいプラスチック情報記録媒体を製造する方法
、およびこの製造方法で製作したプラスチック情報記録
媒体と、上記の様にすぐれた特注を有するプラスチック
情報記録媒体を製造するのに用いる放射線硬化樹脂組成
物を提供するにある。
かつ硬化物の機械強度、耐熱性、耐湿性良く、光学的異
方性の小さいプラスチック情報記録媒体を製造する方法
、およびこの製造方法で製作したプラスチック情報記録
媒体と、上記の様にすぐれた特注を有するプラスチック
情報記録媒体を製造するのに用いる放射線硬化樹脂組成
物を提供するにある。
上記目的は、情報パターンを有するスタンパ、平滑面を
有する板の少なくとも一方に透明な材質からなるものを
用い、このスタンパの情報パターン形成面と、この離型
性板の平滑面とを一定間隔（例えば０．８〜１．２ ｗ
ｍ ）に対向させて、上記スタンパと上記板との間を樹
脂性入部以外をシールして生じた空間に、下記化合物（
Ｉ）〜（■）からなる放射線硬化樹脂組成−＊’を注入
し、上記スタンパと上記離型性板の少なくとも一方から
放射線を照射して放射線硬化樹脂組成物を硬化させ、上
記スタンパを取り除いてプラスチック情報記録媒体を製
造し、プラスチック情報記録媒体を得ること、オヨび放
射線硬化樹脂組成物を下記化合物（Ｉ）〜（■）よりな
るものとすることで達成される・化合物（Ｉ） １分子中に４個以上、好ましくは４〜８個、更に好まし
くは５〜６個のアクリル基またはメタクリル基を有し、
２５Ｃにおける粘度が３０００ｃｐ以下、好ましくは３
０００〜１００ｐ、更に好ましくは３０００〜１００ｅ
ｐの化合物（Ｉ）。
有する板の少なくとも一方に透明な材質からなるものを
用い、このスタンパの情報パターン形成面と、この離型
性板の平滑面とを一定間隔（例えば０．８〜１．２ ｗ
ｍ ）に対向させて、上記スタンパと上記板との間を樹
脂性入部以外をシールして生じた空間に、下記化合物（
Ｉ）〜（■）からなる放射線硬化樹脂組成−＊’を注入
し、上記スタンパと上記離型性板の少なくとも一方から
放射線を照射して放射線硬化樹脂組成物を硬化させ、上
記スタンパを取り除いてプラスチック情報記録媒体を製
造し、プラスチック情報記録媒体を得ること、オヨび放
射線硬化樹脂組成物を下記化合物（Ｉ）〜（■）よりな
るものとすることで達成される・化合物（Ｉ） １分子中に４個以上、好ましくは４〜８個、更に好まし
くは５〜６個のアクリル基またはメタクリル基を有し、
２５Ｃにおける粘度が３０００ｃｐ以下、好ましくは３
０００〜１００ｐ、更に好ましくは３０００〜１００ｅ
ｐの化合物（Ｉ）。
化合物（ＩＩ）
一般式（３）で示される化合物（ＩＩ）。
Ｎ−Ｃ−０−ＣＨ−ＣＨ２−０−Ｃ−Ｃ＝ＣＨ２Ｒ５・
・・・・・・・・・・・・・・（３）（但し一般式（３
）中、Ｒ１は−Ｈまたは−ＣＨ，、Ｒ２は化合物（［［
） 一般式（４）で示される化合物（［）。
・・・・・・・・・・・・・・（３）（但し一般式（３
）中、Ｒ１は−Ｈまたは−ＣＨ，、Ｒ２は化合物（［［
） 一般式（４）で示される化合物（［）。
１Ｏ
（但し一般式（４）中Ｒ４は炭素数６〜１６の炭化水累
基である。） 化合物（■） 光重合開始剤 なお、上記化合物（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の配合割合は、第
１図に示す三角図のＡ、Ｂ、Ｃ，Ｄ、Ｅで囲まれた範囲
であシ、上記化合物（ＩＶ）の配合割合は、上記化合物
（Ｉ）〜（ｍ）が上記の三角図のように配合されたもの
１００重量部に対して０．５〜１０重量部で１）シ、好
ましくは０．５〜５重量部、更に好ましくは０．７〜３
重量部である。
基である。） 化合物（■） 光重合開始剤 なお、上記化合物（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の配合割合は、第
１図に示す三角図のＡ、Ｂ、Ｃ，Ｄ、Ｅで囲まれた範囲
であシ、上記化合物（ＩＶ）の配合割合は、上記化合物
（Ｉ）〜（ｍ）が上記の三角図のように配合されたもの
１００重量部に対して０．５〜１０重量部で１）シ、好
ましくは０．５〜５重量部、更に好ましくは０．７〜３
重量部である。
但し、第１図の三角図中の点Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄ。
Ｅは、以下の組成を表わす。
化合物（Ｉ） 化合物（ＩＩ） 化合物（ＩＩ
Ｉ）（重量係） （重量％） （重量％
）Ａ ５０ ４５
５Ｂ ５ ９０
５ｃ５ ４５ ５０Ｄ
３０ ２０ ５０Ｅ
５０ ２０ ３０な
お、上記化合物（Ｉ）の配合割合が５重量係より少ない
と粘度が高くなって注入作業が困難となシ、硬化物であ
るプラスチック情報記録媒体を高温（例えば７０℃）で
使用するとそシが起こシ、弾性率が実用的でなく、表面
硬化も悪くなり、５０重量％よシ多いと硬化物の機械強
度（引張強度、弾性率）が悪く、光学的歪が大きくなり
、共に使用できない。
Ｉ）（重量係） （重量％） （重量％
）Ａ ５０ ４５
５Ｂ ５ ９０
５ｃ５ ４５ ５０Ｄ
３０ ２０ ５０Ｅ
５０ ２０ ３０な
お、上記化合物（Ｉ）の配合割合が５重量係より少ない
と粘度が高くなって注入作業が困難となシ、硬化物であ
るプラスチック情報記録媒体を高温（例えば７０℃）で
使用するとそシが起こシ、弾性率が実用的でなく、表面
硬化も悪くなり、５０重量％よシ多いと硬化物の機械強
度（引張強度、弾性率）が悪く、光学的歪が大きくなり
、共に使用できない。
上記化合物（［）の配合割合が加重量％より少ないと硬
化物の機械強度（引張強度、弾性率）が悪くなシ、９０
重Ｊｌ暢よシ多くなると硬化物であるプラスチック・清
報記録媒体を高温（例えば７０℃）で使用するとそシが
起こ夛、共に実用できない。
化物の機械強度（引張強度、弾性率）が悪くなシ、９０
重Ｊｌ暢よシ多くなると硬化物であるプラスチック・清
報記録媒体を高温（例えば７０℃）で使用するとそシが
起こ夛、共に実用できない。
上記化合物（Ｉ［）の配合割合が５重量％よシ少ないと
光学的歪が悪くなると共に吸湿性が大きくなるためグラ
スチック情報記録媒体のそシが大きくなシ、９重ｆ％よ
り多いと硬化物の機械強度（引張強度、弾性率）が悪く
なυ、共に実用できない。
光学的歪が悪くなると共に吸湿性が大きくなるためグラ
スチック情報記録媒体のそシが大きくなシ、９重ｆ％よ
り多いと硬化物の機械強度（引張強度、弾性率）が悪く
なυ、共に実用できない。
上記化合物（ＩＶ）の配合割合が０．５重量％ｘＭ少な
くなると放射線硬化が不十分となシ、５重量％よシ多く
なると硬化物の機械強度が低下し、共に実用できない。
くなると放射線硬化が不十分となシ、５重量％よシ多く
なると硬化物の機械強度が低下し、共に実用できない。
次に、上記化合物（Ｉ）〜（ｔＶ）の具体例を示す。
上記化合物（Ｉ）は、ペンタエリスリトールテトラアク
リレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート
、ジペンタエリスリトールへキサアクリレート、ジペン
タエリスリトールへキサメタクリレート、ジペンタエリ
スリトール誘導体のへキサアクリレートまたはへキサメ
タクリレートなどである。これらは単独または二種類以
上混合して用いる。
リレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート
、ジペンタエリスリトールへキサアクリレート、ジペン
タエリスリトールへキサメタクリレート、ジペンタエリ
スリトール誘導体のへキサアクリレートまたはへキサメ
タクリレートなどである。これらは単独または二種類以
上混合して用いる。
１．１′−メチレンビス（４−インシアナトベンゼン）
１モルと２−ヒドロキシエチルアクリレート２モルとの
反応生成物、 １．１′−メチレンビス（４−イソシアナトベンゼン）
１モルと２−ヒドロキシエチルメタクリレート２モルと
の反応生成物、 １．１’−メチレンビス（４−イソシアナトシクロヘキ
サン）１モルと２−ヒドロキシエチルアクリレート２モ
ルとの反応生成物、 １．１′−メチレンビス（４−インシアナトシクロヘキ
サン）１モルと２−ヒドロキシエチルメタクイソホロン
ジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシエチルアクリ
レート２モルとの反応生成物、イソホロンジインシアネ
ート１モルと２−ヒドロキシエチルメタクリレート２モ
ルとの反応生成物、 インホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシプ
ロビルアクリレート２モルとの反応生成物、 インホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシプ
ロビルメタクリレート２モルとの反応生成物、 イソホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシブ
チルアクリレート２モルとの反応生成物、インホロンジ
インシアネート１モルと２−ヒドロキシブチルメタクリ
レート２モルとの反応生成物、 インホロンジインシアネート１モルと２−ヒドロキシ−
３−フェノキシプロビルアクリレート２モルとの反応生
成物、 イソホロンジイソシアネート１モルと２−ヒトαキシ−
３−フェノキシプロピルメタクリレート２モルとり反応
生成物などでちる。これらは単独シクロへキシルアクリ
レート、クロロへキシルメタクリレート、 ツボニルメタクリレート、 ジシクロペンテニルメタクリレート、 ト、 トリシクロテカニルメタクリレートが好ましい。
１モルと２−ヒドロキシエチルアクリレート２モルとの
反応生成物、 １．１′−メチレンビス（４−イソシアナトベンゼン）
１モルと２−ヒドロキシエチルメタクリレート２モルと
の反応生成物、 １．１’−メチレンビス（４−イソシアナトシクロヘキ
サン）１モルと２−ヒドロキシエチルアクリレート２モ
ルとの反応生成物、 １．１′−メチレンビス（４−インシアナトシクロヘキ
サン）１モルと２−ヒドロキシエチルメタクイソホロン
ジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシエチルアクリ
レート２モルとの反応生成物、イソホロンジインシアネ
ート１モルと２−ヒドロキシエチルメタクリレート２モ
ルとの反応生成物、 インホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシプ
ロビルアクリレート２モルとの反応生成物、 インホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシプ
ロビルメタクリレート２モルとの反応生成物、 イソホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシブ
チルアクリレート２モルとの反応生成物、インホロンジ
インシアネート１モルと２−ヒドロキシブチルメタクリ
レート２モルとの反応生成物、 インホロンジインシアネート１モルと２−ヒドロキシ−
３−フェノキシプロビルアクリレート２モルとの反応生
成物、 イソホロンジイソシアネート１モルと２−ヒトαキシ−
３−フェノキシプロピルメタクリレート２モルとり反応
生成物などでちる。これらは単独シクロへキシルアクリ
レート、クロロへキシルメタクリレート、 ツボニルメタクリレート、 ジシクロペンテニルメタクリレート、 ト、 トリシクロテカニルメタクリレートが好ましい。
１、：２ Ｍ５
−の２−エチルへキシルアクリレート、２−エチルへキ
シルメタクリレート、 Ｒ１１がｎ ＣＨ５（ＣＨ２）ｇ−のｎ−デシルアクリ
レート、ｎ−デシルメタクリレート、 電がＣＨ５（ＣＨ２） １１−のラウリルアクリレート
、ラウリルメタクリレート、 Ｒ略がＣＨ３°（ＣＨ２）１２−のトリデシルアクリレ
ート、トリデシルメタクリレートなども用いることがで
きる。これらは単独もしくは二種類以上混合して用いる
。
シルメタクリレート、 Ｒ１１がｎ ＣＨ５（ＣＨ２）ｇ−のｎ−デシルアクリ
レート、ｎ−デシルメタクリレート、 電がＣＨ５（ＣＨ２） １１−のラウリルアクリレート
、ラウリルメタクリレート、 Ｒ略がＣＨ３°（ＣＨ２）１２−のトリデシルアクリレ
ート、トリデシルメタクリレートなども用いることがで
きる。これらは単独もしくは二種類以上混合して用いる
。
上記化合物（■）の光重合開始剤は、ベンジル類、ベン
ゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ペンゾインイソグ
ロビルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルナトの
ベンゾイン類、ベンゾフェノン、４−メトキシベンゾフ
ェノンなどのベンゾフェノン類、アセトフェノン、２，
２−ジェトキシアセトフェノンなどのアセトフェノン類
、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサント
ンなどのチオキサントン類、２−エチルアントラキノン
、２−メチルアントラキノンなどのアントラキノン類、
ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロへキ
シルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１
−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピ
ルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−
１−オンなどであυ、好ましくはペンゾインイソグロビ
ルエーテル、ベンゾインインブチルエーテル、１−ヒド
ロキシシクロへキシルフェニルケトン、１−（４−イソ
プロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロ
パン−１−オンである。これらは単独もしくは二種類以
上混合して用いる。
ゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ペンゾインイソグ
ロビルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルナトの
ベンゾイン類、ベンゾフェノン、４−メトキシベンゾフ
ェノンなどのベンゾフェノン類、アセトフェノン、２，
２−ジェトキシアセトフェノンなどのアセトフェノン類
、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサント
ンなどのチオキサントン類、２−エチルアントラキノン
、２−メチルアントラキノンなどのアントラキノン類、
ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロへキ
シルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１
−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピ
ルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−
１−オンなどであυ、好ましくはペンゾインイソグロビ
ルエーテル、ベンゾインインブチルエーテル、１−ヒド
ロキシシクロへキシルフェニルケトン、１−（４−イソ
プロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロ
パン−１−オンである。これらは単独もしくは二種類以
上混合して用いる。
次に、プラスチック情報記録媒体の製造方法について述
べる。
べる。
スタンバと離型性板との間に生じさせる空間は、０．８
〜２．０謔が望ましい。空間が０．８瓢よシ薄いと、放
射線硬化性樹脂組成物の硬化物から成る情報パターン付
プラスチック情報記録媒体の厚さが薄くなり、板の模械
的強さが低下したシ、情報パターン付プラスチック情報
記録媒体の情報の無い面に付着し九異物がや１報読取時
にノイズとなる傾向が増大し、また、空間が２．０■よ
り大きくなると、得られる情報パターン付プラスチック
情報記録媒体が厚くなシ、鉄板の中に未硬化成分が有っ
たシ、必要以上に重量増加を来たし、共に好ましくない
。
〜２．０謔が望ましい。空間が０．８瓢よシ薄いと、放
射線硬化性樹脂組成物の硬化物から成る情報パターン付
プラスチック情報記録媒体の厚さが薄くなり、板の模械
的強さが低下したシ、情報パターン付プラスチック情報
記録媒体の情報の無い面に付着し九異物がや１報読取時
にノイズとなる傾向が増大し、また、空間が２．０■よ
り大きくなると、得られる情報パターン付プラスチック
情報記録媒体が厚くなシ、鉄板の中に未硬化成分が有っ
たシ、必要以上に重量増加を来たし、共に好ましくない
。
情報パターン付スタンパには、（ａ）放射線を透過せず
かつ離型性の要いＮｆ 、 Ｃｒ 、 Ｐｄ などの
金属、色）放射線を透過せずかつ離型性の良いポリプロ
ピレン、ポリフッ化エチレン、ポリフッ化エチレンプロ
ピレン、（Ｃ）放射線を透過しかつ離型性の悪いガラス
あるいはポリカーボネイト、ポリメチルメタクリレート
などの板表面に放射線硬化樹脂で情報パターンを形成し
たもの、（ｄ）放射線を透過しかつ離型性の良いポリベ
ンテンなどが用いられる。
かつ離型性の要いＮｆ 、 Ｃｒ 、 Ｐｄ などの
金属、色）放射線を透過せずかつ離型性の良いポリプロ
ピレン、ポリフッ化エチレン、ポリフッ化エチレンプロ
ピレン、（Ｃ）放射線を透過しかつ離型性の悪いガラス
あるいはポリカーボネイト、ポリメチルメタクリレート
などの板表面に放射線硬化樹脂で情報パターンを形成し
たもの、（ｄ）放射線を透過しかつ離型性の良いポリベ
ンテンなどが用いられる。
そして、上記（１ｍ） ＃ （ｂ）に属するスタンバは
情報パターン面をジメチルシリコーンなどの離型剤を離
型処理したものを用いる。なかでも上記（Ｃ）が好まし
い。
情報パターン面をジメチルシリコーンなどの離型剤を離
型処理したものを用いる。なかでも上記（Ｃ）が好まし
い。
平滑面を有する離型性板には、（・）上記（ａ）と同一
材質のもの、（ｆ）上記（ｂ）と同一材質のもの、葎）
ガラス板、（ｈ）上記（ｄ）と同一材質のものを用いる
。なかでも（＠）が好ましい。
材質のもの、（ｆ）上記（ｂ）と同一材質のもの、葎）
ガラス板、（ｈ）上記（ｄ）と同一材質のものを用いる
。なかでも（＠）が好ましい。
また、情報パターン付スタンパに上記（ｇ） 、 （ｈ
）のガラス板またはポリベンテンを用い、離型性板側か
ら放射線を照射する。
）のガラス板またはポリベンテンを用い、離型性板側か
ら放射線を照射する。
さらに、情報パターン付スタンパに上記（ｅ） 、 （
ｄ）を用い、平滑面を有する離型性板に上記ω） 、
（ｂ）を用いた時は、少なくとも一方の側から放射線を
照射する。
ｄ）を用い、平滑面を有する離型性板に上記ω） 、
（ｂ）を用いた時は、少なくとも一方の側から放射線を
照射する。
以上のようにして製作したプラスチック情報記録媒体は
、光学的歪が小さく、透明性を有し、耐湿性が良好なの
で吸湿によってそらないし、耐熱性が良好なので７０℃
で使用してもそらない。機械強度が良好なので衝撃によ
って破損しないと言うすぐれた特性を有している。
、光学的歪が小さく、透明性を有し、耐湿性が良好なの
で吸湿によってそらないし、耐熱性が良好なので７０℃
で使用してもそらない。機械強度が良好なので衝撃によ
って破損しないと言うすぐれた特性を有している。
なお、プラスチック情報記録媒体を製造する際の放射線
硬化性樹脂組成物の硬化性は、硬化状態の外観を観察し
て判定した。硬化後の樹脂のレタデーション、耐熱性、
引張シ強さは、以下のようにして測定して判定した。
硬化性樹脂組成物の硬化性は、硬化状態の外観を観察し
て判定した。硬化後の樹脂のレタデーション、耐熱性、
引張シ強さは、以下のようにして測定して判定した。
レタデーション：
ａ ＋ ８３０ ｎｍにおけるシングルパスのレタデー
ションを測定した。
ションを測定した。
耐熱性：
長さ４５＋ｗ＋、幅５■の放射線硬化樹脂の長手方向の
一端を固定し、他端に１ｏｆの荷重をかけたまま、１０
℃／３０ｍ１ｎの速度で昇温し、変形を開始する温度を
測定する。
一端を固定し、他端に１ｏｆの荷重をかけたまま、１０
℃／３０ｍ１ｎの速度で昇温し、変形を開始する温度を
測定する。
引張υ強さ：
ＪＩＳＫ６７４５に定められたダンベルを作成し、これ
を引張り試験機により破断させた時の引張強さを求めた
。
を引張り試験機により破断させた時の引張強さを求めた
。
以下、本発明を実施例により詳述する。
実施例１
ジペンタエリスリトール誘導体のへキサアクリレート（
日本化薬社製商品名ＤＰＣＡ３０ ） ４０重量％。
日本化薬社製商品名ＤＰＣＡ３０ ） ４０重量％。
インホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシエ
チルメタクリレート２モルとの反応生成物３０Ｉｉ量％
、インボルニルメタクリレート２８電量％。
チルメタクリレート２モルとの反応生成物３０Ｉｉ量％
、インボルニルメタクリレート２８電量％。
光重合開始剤ペンゾインイソグロピルエーテル２重量優
から成る第１表Ｎ０１１の光硬化性樹脂組成物を準備し
た。
から成る第１表Ｎ０１１の光硬化性樹脂組成物を準備し
た。
また、第２図（龜）〜第２図（ｅ）に示すように、溝（
深さ： ０．０９μｍ、巾： ０．４０μｍ）およびビ
ット（栗さ＝０．１６μｍ、巾： ０．６０μｍ）を有
する外径３００ ｍのニッケル製情報パターン付スタン
パ１を用意した・ジメチルシリコーン離型剤を焼付けた
外径３００簡のガラス円板（厚さ：ｌＯ■）よりなる平
滑面を有する離型性板２の平滑面を上記スタンバの情報
パターン形成面と向い合わせ、１．３層の空間３−１を
形成し、この中へ、真空下で注入口４より前述の光硬化
性樹脂組成物３−２ｆ、注入した。平滑面を有する離型
性板２の側より、波長領域３２０〜４００を硬化させた
。次いで、光硬化樹脂を情報パターン付スメンバ１と平
滑面を有する離型性板２からとシ出し、プラスチック情
報記録媒体３−３を得た。
深さ： ０．０９μｍ、巾： ０．４０μｍ）およびビ
ット（栗さ＝０．１６μｍ、巾： ０．６０μｍ）を有
する外径３００ ｍのニッケル製情報パターン付スタン
パ１を用意した・ジメチルシリコーン離型剤を焼付けた
外径３００簡のガラス円板（厚さ：ｌＯ■）よりなる平
滑面を有する離型性板２の平滑面を上記スタンバの情報
パターン形成面と向い合わせ、１．３層の空間３−１を
形成し、この中へ、真空下で注入口４より前述の光硬化
性樹脂組成物３−２ｆ、注入した。平滑面を有する離型
性板２の側より、波長領域３２０〜４００を硬化させた
。次いで、光硬化樹脂を情報パターン付スメンバ１と平
滑面を有する離型性板２からとシ出し、プラスチック情
報記録媒体３−３を得た。
この清報記録媒体は、１．２■の厚さを有し、スタンバ
の溝とビットの転写像を正確に保有し、かつ第１表Ｎ０
．１に示すように波長８３０ ｎｍにおける光学的リタ
ーデーションが０．５ ｎｍ 、熱変形温度が１１０℃
、引張シ強さが５５０Ｋｆ／１１１２、波長８３０ ｎ
ｍにおける光透過率が９９優、板の反シが０．１■／３
００■φ以下であ夛、光デイスク用基板として優れた特
性を有していた。
の溝とビットの転写像を正確に保有し、かつ第１表Ｎ０
．１に示すように波長８３０ ｎｍにおける光学的リタ
ーデーションが０．５ ｎｍ 、熱変形温度が１１０℃
、引張シ強さが５５０Ｋｆ／１１１２、波長８３０ ｎ
ｍにおける光透過率が９９優、板の反シが０．１■／３
００■φ以下であ夛、光デイスク用基板として優れた特
性を有していた。
以下余白
実施例２
ジペンタエリスリトール誘導体のへキサアクリレート（
日本化薬社裂商品名ＤＰＣＡ ６０ ） ４０重量％、
１．３ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン１モ
ルと２−ヒドロキシエチルメタクリレート２モルとの反
応生成物３０重量係、シクロへキシルメタクリレート２
８重量係、光重合開始剤ベンゾインイソブチルエーテル
２重量％から成る第１表Ｎ０゜２の光硬化性樹脂組成物
を準備し九〇 また、第２図（ａ）〜第２図（Ｃ）に示すように、溝（
深さ： ０．０９ μｍ 、巾： ０−４０ ｆｉｍ
）およびビット（１ｇｃさ： ０−１６ Ａｍ ＃巾：
０．６０μｍ）を有する外径３０（）＋ｓ＋の透明樹
脂製情報パターン付スタンパ１を用意した。上記透明樹
脂製スタンパは、厚さ１０■のポリメチルメメクリレー
ト板上に、厚さ約（資）μｍの溝およびビット付光硬化
性樹脂（ポリプロピレングリコールジメタクリレート５
０重量％とネオペンチルグリコールジメタクリレート４
８重量％と光重合開始剤ベンゾインイソプロピルエーテ
ル２重量％から成る硬化物）を付着せしめたものである
。
日本化薬社裂商品名ＤＰＣＡ ６０ ） ４０重量％、
１．３ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン１モ
ルと２−ヒドロキシエチルメタクリレート２モルとの反
応生成物３０重量係、シクロへキシルメタクリレート２
８重量係、光重合開始剤ベンゾインイソブチルエーテル
２重量％から成る第１表Ｎ０゜２の光硬化性樹脂組成物
を準備し九〇 また、第２図（ａ）〜第２図（Ｃ）に示すように、溝（
深さ： ０．０９ μｍ 、巾： ０−４０ ｆｉｍ
）およびビット（１ｇｃさ： ０−１６ Ａｍ ＃巾：
０．６０μｍ）を有する外径３０（）＋ｓ＋の透明樹
脂製情報パターン付スタンパ１を用意した。上記透明樹
脂製スタンパは、厚さ１０■のポリメチルメメクリレー
ト板上に、厚さ約（資）μｍの溝およびビット付光硬化
性樹脂（ポリプロピレングリコールジメタクリレート５
０重量％とネオペンチルグリコールジメタクリレート４
８重量％と光重合開始剤ベンゾインイソプロピルエーテ
ル２重量％から成る硬化物）を付着せしめたものである
。
ジメチルシリコーン離型剤を焼付けた外径３００−のニ
ッケル製円板（厚さ５■）よりなる平滑面を有する離型
性板の平滑面を上記透明樹脂製スタンパの情報パターン
面と向い合わせ、１−３ ｍの空間３−１を形成し、こ
の中へ、真空下で注入口４よりあらかじめ準備した前述
の光硬化性樹脂組成物３−２を注入した。
ッケル製円板（厚さ５■）よりなる平滑面を有する離型
性板の平滑面を上記透明樹脂製スタンパの情報パターン
面と向い合わせ、１−３ ｍの空間３−１を形成し、こ
の中へ、真空下で注入口４よりあらかじめ準備した前述
の光硬化性樹脂組成物３−２を注入した。
平滑面を有する離型性板２の側よシ、波長３２０〜４０
０ ｎｍにおける先強度が４００ ｍＷ／ｃｒａ２の紫
外線を高圧水銀灯を用いて４０秒間照射し、光硬化性樹
脂組成物を硬化させた。
０ ｎｍにおける先強度が４００ ｍＷ／ｃｒａ２の紫
外線を高圧水銀灯を用いて４０秒間照射し、光硬化性樹
脂組成物を硬化させた。
次いで、光硬化樹脂を情報パターン付スタンパ１と平滑
面を有する離型性板２からとシ出し、プラスチック情報
記録媒体３−３を得た。
面を有する離型性板２からとシ出し、プラスチック情報
記録媒体３−３を得た。
この情報記録媒体は、１．２ＩｌｌＩの厚さを有し、ス
タンパの溝とビットの転写像を正確に有し、かつ第１表
Ｎ０９２ に示すように波長８３０ ｎｍにおける光
学的リターデーションが０．４ｎｍ熱変形温度が１００
℃、引張シ強さが５００ Ｋ４／ｃｄ、波長８３０ ｎ
ｍにおける光透過率が９５チ、板の反応が０．ｉ ＷＩ
ｖ／３００■φ以下であシ、光デイスク用基板として優
れた特性を有していた。
タンパの溝とビットの転写像を正確に有し、かつ第１表
Ｎ０９２ に示すように波長８３０ ｎｍにおける光
学的リターデーションが０．４ｎｍ熱変形温度が１００
℃、引張シ強さが５００ Ｋ４／ｃｄ、波長８３０ ｎ
ｍにおける光透過率が９５チ、板の反応が０．ｉ ＷＩ
ｖ／３００■φ以下であシ、光デイスク用基板として優
れた特性を有していた。
実施例３
前記化合物ＣＩ） 〜（ＩＶ）を第２表ＯＮｏ、３〜Ｎ
０．１２のように配合し、実施例１と同月にしてプラス
チック情報記録媒体を表作した。その結果第２表勇。
０．１２のように配合し、実施例１と同月にしてプラス
チック情報記録媒体を表作した。その結果第２表勇。
３〜Ｎ０．１２は硬化性、レタデークヨン、耐熱性、引
張り強さいずれも目標値以上で実用に供することができ
た。それに反し、第２表のＮｏ、１３〜Ｎ０．２４はこ
れらの特注を満足せず実用に供することができなかった
。
張り強さいずれも目標値以上で実用に供することができ
た。それに反し、第２表のＮｏ、１３〜Ｎ０．２４はこ
れらの特注を満足せず実用に供することができなかった
。
以下余白
実施例４
前記化合物（Ｉ）〜（ＩＶ）を第３表のＮＯ，２５〜３
０のように配合すると共に、従来品のＮＯ，３１、ＮＯ
。
０のように配合すると共に、従来品のＮＯ，３１、ＮＯ
。
３２を用いて実施例と同様にしてプラスチック情報媒体
を製作した。その結果第３表のＮＯ，２５〜３０は、硬
化性、レタデーション、耐熱性、引張シ強さいずれも目
標値以上で実用に供することができた。
を製作した。その結果第３表のＮＯ，２５〜３０は、硬
化性、レタデーション、耐熱性、引張シ強さいずれも目
標値以上で実用に供することができた。
それに反し、第３表のＮＯ，３１、ＮＯ，３２はレター
デーション、耐熱性、引張シ強さが目標値に到達せず実
用に供することができなかった。
デーション、耐熱性、引張シ強さが目標値に到達せず実
用に供することができなかった。
以下余白
実施例５
実施例１〜３で製造した光デイスク用基板の情報パター
ン側へＴｏ −Ｓｎ系相転移型記録膜を３０ ｎｍの厚
さに真空蒸着した後、５ｉｏ２膜’ｔｌｏｎｍの厚さに
真空蒸着し、保護コートした。さらに、この上へ厚さ１
■のポリメチルメタクリレート板又はポリカーボネイト
板をエポキシ樹脂によシ貼シ合わせ、光デイスク記録媒
体を形成した。本発明に係る透明板の側よシ、８３０ｎ
ｍの半導体レーザ光を用いて書込みおよび読取り特性を
評価し、正常動作することを確認した。
ン側へＴｏ −Ｓｎ系相転移型記録膜を３０ ｎｍの厚
さに真空蒸着した後、５ｉｏ２膜’ｔｌｏｎｍの厚さに
真空蒸着し、保護コートした。さらに、この上へ厚さ１
■のポリメチルメタクリレート板又はポリカーボネイト
板をエポキシ樹脂によシ貼シ合わせ、光デイスク記録媒
体を形成した。本発明に係る透明板の側よシ、８３０ｎ
ｍの半導体レーザ光を用いて書込みおよび読取り特性を
評価し、正常動作することを確認した。
実施例６
ジペンタエリスリトール誘導体のへキサアクリレート（
日本化薬社製商品名ＤＰＣＡ６０）、３０重量部、イン
ホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシエチル
アクリレート２モルとの反応生成物印重量部、インボル
ニルメタクリレート１０重量部、光重合開始剤１−ヒド
ロキシシクロへキシルフェニルケトン１重量部から成る
光硬化性樹脂を準備した。
日本化薬社製商品名ＤＰＣＡ６０）、３０重量部、イン
ホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシエチル
アクリレート２モルとの反応生成物印重量部、インボル
ニルメタクリレート１０重量部、光重合開始剤１−ヒド
ロキシシクロへキシルフェニルケトン１重量部から成る
光硬化性樹脂を準備した。
また、第２図（＆）〜第２図（０）に示すように、溝（
深さ： ０−０９ μｍ 、巾： ０．４０ Ａｍ）お
よびビット（深さ＝０．１６μｍ、巾： ０．６０μｒ
ｎ） ｔ−有する外径１３０簡の透明樹脂製スタンバ１
を用意した。上記透明樹脂製スタンバは厚さ１０■のポ
リメチルメタクリレート板上に厚さ約関μｍの溝および
ビット付光硬化性樹脂（ポリエチレングリコールジメタ
クリレート５０重量％トヘキサンジオールジメタクリレ
ート４８重量％と光重合開始剤々ンダインイングロピル
エーテル２重量係から成るものの硬化物を付着せしめた
ものである。
深さ： ０−０９ μｍ 、巾： ０．４０ Ａｍ）お
よびビット（深さ＝０．１６μｍ、巾： ０．６０μｒ
ｎ） ｔ−有する外径１３０簡の透明樹脂製スタンバ１
を用意した。上記透明樹脂製スタンバは厚さ１０■のポ
リメチルメタクリレート板上に厚さ約関μｍの溝および
ビット付光硬化性樹脂（ポリエチレングリコールジメタ
クリレート５０重量％トヘキサンジオールジメタクリレ
ート４８重量％と光重合開始剤々ンダインイングロピル
エーテル２重量係から成るものの硬化物を付着せしめた
ものである。
ジメチルシリコーン系離型剤を焼付けた外径１３０＋ｗ
のガラス円板（厚さ：１０ｍ）２’に上記透明樹脂製ス
タンバ１と向い合わせ、１．３閣の空間３−１を形成し
、この中へ、真空下で注入口４よ＃）あらかじめ準備し
た前述の光硬化性ｍ脂３−２を注入した。
のガラス円板（厚さ：１０ｍ）２’に上記透明樹脂製ス
タンバ１と向い合わせ、１．３閣の空間３−１を形成し
、この中へ、真空下で注入口４よ＃）あらかじめ準備し
た前述の光硬化性ｍ脂３−２を注入した。
透明樹脂製スタンバ１とガラス円板２の１１１１１ Ｖ
Ｃ波長３６５ｎにおける紫外線強度が１００ ｍＷ／（
ｙ２となるように高圧水銀灯を配置した。（ａ）透明樹
脂製スタンバｌの０１１１より光照射する、（ｂ）ガラ
ス円板２の側より光照射する、（Ｃ）透明樹脂製スタン
バｌとガラス円板２の側より同時に光照射する３つの異
なった照射方法により前記光硬化性樹脂を硬化させた。
Ｃ波長３６５ｎにおける紫外線強度が１００ ｍＷ／（
ｙ２となるように高圧水銀灯を配置した。（ａ）透明樹
脂製スタンバｌの０１１１より光照射する、（ｂ）ガラ
ス円板２の側より光照射する、（Ｃ）透明樹脂製スタン
バｌとガラス円板２の側より同時に光照射する３つの異
なった照射方法により前記光硬化性樹脂を硬化させた。
次いで、光硬化性樹脂硬化物を透明樹脂製スタンバ１と
ガラス円板２からとり出し、溝およびピット付透明板を
得た。
ガラス円板２からとり出し、溝およびピット付透明板を
得た。
溝およびビット付透明板３−３は、１．２ｍの厚さを有
し、スタンバの溝とビットの転写像を正確に有していた
。
し、スタンバの溝とビットの転写像を正確に有していた
。
上記溝およびピット付透明板にＴｅ系などの穴あけ型記
録膜を付着させて光デイスク記録媒体を形成する場合、
該透明板は、記録膜蒸着後の結晶化処理、エア・サンド
インチ構造のディスク組立時などに１００℃１時間程度
の高温雰囲気にさらされるＯ そこで、光照射条件（ａ、ｂ、ｃ）と光照射時間を変え
て作成した溝およびピット付透明板について加熱処理（
１００℃／ｈ）前後のそりを測定したところ、第４表の
結果を得た。
録膜を付着させて光デイスク記録媒体を形成する場合、
該透明板は、記録膜蒸着後の結晶化処理、エア・サンド
インチ構造のディスク組立時などに１００℃１時間程度
の高温雰囲気にさらされるＯ そこで、光照射条件（ａ、ｂ、ｃ）と光照射時間を変え
て作成した溝およびピット付透明板について加熱処理（
１００℃／ｈ）前後のそりを測定したところ、第４表の
結果を得た。
片側から光照射したもの（ａｍｂ）は、加熱処理により
そシがやや生じるのに反し、両側から同時に照射したも
の（ｃ）は、加熱処理によってもそシが認められない。
そシがやや生じるのに反し、両側から同時に照射したも
の（ｃ）は、加熱処理によってもそシが認められない。
また、両側から同時に照射したものは、照射時間の短縮
もはかれる傾向がある。
もはかれる傾向がある。
第 ４ 表
実施例７
実施例６でスタンパとガラス円板の両側から同時に光照
射（ｃ）シて製造した光デイスク用基板の情報パターン
側へＴｅ−８ｅ系の穴あけ型記録膜を３０ｍの厚さに真
空蒸着した。
射（ｃ）シて製造した光デイスク用基板の情報パターン
側へＴｅ−８ｅ系の穴あけ型記録膜を３０ｍの厚さに真
空蒸着した。
記録膜付基板を２枚用意し、記録、ａａ＋を向い合わせ
に配置した。基板の内外局部に厚さ２ｖｍのエポキシ樹
脂Ｍｆｌｌ状ギャップを用い、記録膜付基板とエポキシ
樹脂Ｈ環状ギャップとをエポキシ樹脂接着剤で貼シ合わ
せ、該接着剤を１００℃／ｈかけて硬化せしめ、エア・
サンドインチ構造の光デイスク記録媒体を形成した。こ
の光デイスク記録媒体は、８３０ｎｍの半導体レーザ光
を用いて書込みおよび読取りが可能であ夛、正常に動作
することを確認した。
に配置した。基板の内外局部に厚さ２ｖｍのエポキシ樹
脂Ｍｆｌｌ状ギャップを用い、記録膜付基板とエポキシ
樹脂Ｈ環状ギャップとをエポキシ樹脂接着剤で貼シ合わ
せ、該接着剤を１００℃／ｈかけて硬化せしめ、エア・
サンドインチ構造の光デイスク記録媒体を形成した。こ
の光デイスク記録媒体は、８３０ｎｍの半導体レーザ光
を用いて書込みおよび読取りが可能であ夛、正常に動作
することを確認した。
以上述べたように本発明によれば成型条件の選定を厳密
に行わなくてもプラスチック情報記録媒体が製造でき、
かつ硬化物の機械強度、耐熱性、゛耐湿性が良好であり
、光学的異方性の小さいプラスチック情報記録媒体が得
られる。
に行わなくてもプラスチック情報記録媒体が製造でき、
かつ硬化物の機械強度、耐熱性、゛耐湿性が良好であり
、光学的異方性の小さいプラスチック情報記録媒体が得
られる。
第１図はプラスチック情報記録媒体を製造するのに有用
な本発明に係る放射線硬化性樹脂組成物の組成範囲を示
す三角図、第２図は本発明のプラスチック情報記録媒体
の製造プロセスを示す図である。 １・・・情報パターン付スタンバ、２・・・離型性板、
３−１・・・空間、３−２・・・光硬化性樹脂組成物、
３−３・・・プラスチック情報記録体、４・・・注入口
、５・・・高圧水銀灯。 代理人 弁桿士 秋 本 正 実 第 １ 図 Ａヒ冶萄勿（１） イヒＡ）ゝ桟ワ（１）
イし合吋支〆’Ｚ
）（ｂ） （Ｃ）
な本発明に係る放射線硬化性樹脂組成物の組成範囲を示
す三角図、第２図は本発明のプラスチック情報記録媒体
の製造プロセスを示す図である。 １・・・情報パターン付スタンバ、２・・・離型性板、
３−１・・・空間、３−２・・・光硬化性樹脂組成物、
３−３・・・プラスチック情報記録体、４・・・注入口
、５・・・高圧水銀灯。 代理人 弁桿士 秋 本 正 実 第 １ 図 Ａヒ冶萄勿（１） イヒＡ）ゝ桟ワ（１）
イし合吋支〆’Ｚ
）（ｂ） （Ｃ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、放射線を透過する材質からなるスタンパの情報パタ
ーン形成面と、平板とを一定間隔で対向させて樹脂注入
部を封止して保持し、前記樹脂注入部から封止により生
じた空間に放射線硬化性樹脂組成物を注入し、上記スタ
ンパと上記平板の少なくとも一方から放射線を照射して
上記放射線硬化性樹脂組成物を硬化し、上記スタンパ、
上記平板および上記封止部を取り除くことからなるプラ
スチック情報記録媒体の製造方法。 ２、特許請求の範囲第１項において、平板が放射線を透
過する材質よりなるプラスチック情報記録媒体の製造方
法。 ３、特許請求の範囲第１項において、スタンパが離型剤
をつけたガラス、ポリカーボネイトまたはポリメチルメ
タクリレートよりなり、平板が離型剤をつけたガラス、
またはポリペンテンよりなるプラスチック情報記録媒体
の製造方法。 ４、特許請求の範囲第１項において、放射線が紫外線で
あるプラスチック情報記録媒体の製造方法。 ５、特許請求の範囲の第１項において、放射線硬化性樹
脂組成物が下記化合物（ I ）〜下記化合物（IV）より
なるプラスチック情報記録媒体の製造方法。 化合物（ I ） １分子中に４個以上のアクリル基またはメタクリル基を
有し、かつ２５℃における粘度が３０００ｃｐ以下の化
合物。 化合物（II） 一般式（３）で示される化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼……………（３） （但し一般式（３）中、Ｒ＿１は−Ｈまたは−ＣＨ＿３
、Ｒ＿２は−Ｈ、炭素数１〜５のアルキル基または−Ｃ
Ｈ＿２−Ｏ−▲数式、化学式、表等があります▼Ｒ＿３
は▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式
、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ である。） 化合物（III） 一般式（４）で示される化合物（III）。 ▲数式、化学式、表等があります▼……………（４） （但し一般式（４）中Ｒ＿４は炭素数１〜１６の炭化水
素基である。） 化合物（IV） 光重合開始剤 よりなり）かつ上記（ I ）〜（III）の化合物の配合割
合は三角図のＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅで囲まれた範囲にあり
、上記化合物（IV）の配合割合は、上記化合物（ I ）
〜（III）が上記三角図で示されるように配合されたも
の１００重量部に対して０．５〜１０重量部である。 但し三角図の中の点Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅは以下の組成を
表わす。 化合物（ I ） 化合物（II） 化合物（III）（重量％
） （重量％） （重量％） Ａ ５０ ４５ ５ Ｂ ５ ９０ ５ Ｃ ５ ４５ ５０ Ｄ ３０ ２０ ５０ Ｅ ５０ ２０ ３０ ６、下記化合物（ I ）〜下記化合物（IV）よりなる放
射線硬化性樹脂組成物を放射線で硬化させて得たプラス
チック情報記録媒体。 化合物（ I ） １分子中に４個以上のアクリル基またはメタクリル基を
有し、かつ２５℃における粘度が３０００ｃｐ以下の化
合物。 化合物（II） 一般式（３）で示される化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼……………（３） （但し一般式（３）中、Ｒ＿１は−Ｈまたは−ＣＨ＿３
、Ｒ＿２は−Ｈ、炭素数１〜５のアルキル基または▲数
式、化学式、表等があります▼、Ｒ＿３は▲数式、化学
式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等がありま
す▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ である。） 化合物（III） 一般式（４）で示される化合物（III） ▲数式、化学式、表等があります▼……………（４） （但し一般式（４）中Ｒ＿４は炭素数１〜１６の炭化水
素基である） 化合物（IV） 光重合開始剤 よりなり、かつ上記（ I ）〜（III）の化合物の配合割
合は三角図のＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅで囲まれた範囲にあり
、上記化合物（IV）の配合割合は、上記化合物（ I ）
〜（III）が上記三角図で示されるように配合されたも
の１００重量部に対して０．５〜１０重量部である。 但し三角図中の点Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅは以下の組成を表
わす。 化合物（ I ） 化合物（II） 化合物（III）（重量％
） （重量％） （重量％） Ａ ５０ ４５ ５ Ｂ ５ ９０ ５ Ｃ ５ ４５ ５０ Ｄ ３０ ２０ ５０ Ｅ ５０ ２０ ３０ ７、下記化合物（ I ）〜下記化合物（IV）よりなる樹
脂組成物。 化合物（ I ） １分子中に４個以上のアクリル基またはメタクリル基を
有し、かつ２５℃における粘度が３０００ｃｐ以下の化
合物。 化合物（II） 一般式（３）で示される化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼……………（３） （但し一般式（３）中、Ｒ＿１は−Ｈまたは−ＣＨ＿３
、Ｒ＿２は−Ｈ、炭素数１〜５のアルキル基または▲数
式、化学式、表等があります▼、Ｒ＿３は▲数式、化学
式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等がありま
す▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ である。） 化合物（III） 一般式（４）で示される化合物（III）。 ▲数式、化学式、表等があります▼……………（４） （但し一般式（４）中Ｒ＿４は炭素数１〜１６の炭化水
素基である。） 化合物（IV） 重合開始剤 よりなり、かつ上記（ I ）〜（III）の化合物の配合割
合は三角図のＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅで囲まれた範囲にあり
、上記化合物（IV）の配合割合は、上記化合物（ I ）
〜（III）が上記三角図で示されるように配合されたも
の１００重量部に対して０．５〜１０重量部である。 但し三角図中の点Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅは以下の組成を表
わす。 化合物（ I ） 化合物（II） 化合物（III）（重量％
） （重量％） （重量％） Ａ ５０ ４５ ５ Ｂ ５ ９０ ５ Ｃ ５ ４５ ５０ Ｄ ３０ ２０ ５０ Ｅ ５０ ２０ ３０
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60152521A JPH0644354B2 (ja) | 1985-07-12 | 1985-07-12 | プラスチック情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60152521A JPH0644354B2 (ja) | 1985-07-12 | 1985-07-12 | プラスチック情報記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6213307A true JPS6213307A (ja) | 1987-01-22 |
| JPH0644354B2 JPH0644354B2 (ja) | 1994-06-08 |
Family
ID=15542254
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60152521A Expired - Lifetime JPH0644354B2 (ja) | 1985-07-12 | 1985-07-12 | プラスチック情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0644354B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012157566A1 (ja) * | 2011-05-16 | 2012-11-22 | 三井化学株式会社 | 歯科材料、歯科材料組成物、歯科修復材料および硬化物 |
| WO2012157568A1 (ja) * | 2011-05-16 | 2012-11-22 | 三井化学株式会社 | 新規な化合物、該化合物を含む組成物および硬化物 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58173624A (ja) * | 1982-04-07 | 1983-10-12 | Toshiba Corp | 情報デイスクの複製製造方法 |
| JPS58173623A (ja) * | 1982-04-07 | 1983-10-12 | Toshiba Corp | 情報デイスクの複製製造方法 |
-
1985
- 1985-07-12 JP JP60152521A patent/JPH0644354B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0644354B2 (ja) | 1994-06-08 |
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