JPS6387627A - 光デイスク基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、光で読みとる方式のディスク基板、特にデジ
タル・オーディオディスク、ビデオディスク、メモリー
ディスク等の光ディスク基板に関する。

（従来の技術） 光ディスクメモリー用のディスク基板の製造法としては
、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂をインジェクシ
ョン法で成型する方法、すなわち、片面にスタンパが設
置されている金型の中に重合度の低いプラスチックを高
温高圧で流し込んで成型する方法、又ガラス、アクリル
樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂等の平板上
に光硬化性の樹脂を流し込みその上から金属スタンパを
押しあて、基板側から放射線を照射して樹脂を硬化させ
、スタンパを剥離して光ディスク基板を製造する、所謂
２Ｐ法が知られている。

更に特開昭６０−１１２４０９号公報、特開昭６０−２
０２５５７号公報、特開昭６１−４４６８９号公報、特
開昭６１−９８７１０号公報、特開昭６１−１１５９１
３号公報、特開昭６１−１５９４１１号公報、特開昭６
１−１７６６１８号公報にアクリル系樹脂を光硬化させ
て光ディスク基板を製造する方法が提案されている。

（発明が解決しようとする問題点） 光ディスク基板をインジェクション法で成型する方法は
生産性に優れるが、異物が混入しやすく、Ｃ／Ｎが低い
ばかりでなく、ポリカーボネート樹脂については、成形
時の残留応力のため分子が配向して光学的歪（複屈折）
が大きくなり易く、また表面硬度が低いため製造工程時
に傷がつきやすい欠点を有しており、ポリメチルメタク
リレート樹脂については、吸湿性が大きいためディスク
が反りやすく、かつ、耐熱性が低いため記録膜をつけた
溝の熱安定性が低いという問題点がある。

又２Ｐ法による場合は、２段階で光ディスク基板を作成
するため作業上からも時間を要し、また基板と光硬化樹
脂との密着性の高信顧性も要求され、更に、透明な基板
の選定が重要であり、アクリル樹脂では低Ｔｇで吸湿性
による反りの問題、ポリカーボネート樹脂は大きい複屈
折、エポキシ樹脂は成型時の硬化時間が長い等の問題が
ある。

特開昭６０′−１１２４０９号公報、特開昭６０−２０
２５５７号公報、特開昭６１−４４６８９号公報、特開
昭６１−９８７１０号公報、特開昭６１−１１５９１３
号公報、特開昭６１−１５９４１１号公報、特開昭６１
−１７６６１８号公報で提案された方法は、反りの低減
、低吸水、低吸湿、耐熱性等を特徴とするとされている
がいずれもまだ実用化に至っていない。

本発明は、光学的歪（複屈折）、吸湿による反りが少な
く、表面硬度、耐熱性に優れ長期信頼性の高い光ディス
ク基板を提供するものである。

（問題点を解決するための手段） 本発明は、Ａニ一般式 （式中ＲはＨ，ＣＨ３を示し、ｎは１０〜３０）で示さ
れる重合性化合物と、 Ｂ：光重合可能なアクリレートモノマー、オリゴマー、
ビニル基含有モノマーとより成る樹脂組成物を光硬化さ
せて光ディスク基板とするものである。

光重合可能なアクリレートモノマー、オリゴマー、ビニ
ル基含有モノマーとしては、エポキシ（メタ）アクリレ
ート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（
メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート
、１．６ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ト
リメチロールプロパントリ　（メタ）アクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールへキサアクリレート、エトオキシトリメチロ
ールプロパントリ　（メタ）アクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ
）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレ
ート、スチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等が使用される
。オリゴマーの分子量は２００〜３００が好ましい。

Ａ、Ｂ成分は混合して用いるものであり、それらの混合
割合は、それぞれの種類及び使用量により異なるがＡ成
分が５０％（重量％以下同じ）を越えると、もろくなり
耐衝撃性が低下する傾向にあり、５％未満では吸湿性が
大きく、耐熱性、表面硬度が低下する傾向にあり好まし
くない。Ｂ成分の各々についても、それ自体の構造、官
能基数などにより異なるため一義的には決められないが
５０％以上使用することが好ましい。

上記樹脂組成物を重合しディスク基板を製造するには、
スペーサーで所定の間隔を保つガラス板と金属又はガラ
スのスタンパ−との間、又は２枚のガラス板の間に樹脂
組成物を注入し、片面又は全面から紫外線等を照射し光
硬化させる。後者の場合は、その後光硬化させた基板の
上にスタンパの溝を転写した樹脂層を形成する。

本発明の樹脂組成物には、一般に知られている光増感剤
、例えばジベンゾイル、ペンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエー
テル、ベンゾインイソブチルエーテル、２−ヒドロキシ
−２−ベンゾイルプロパン、アゾビスイソブチロニトリ
ル、ベンジル、チオキサントン、ジフェニルジスルフィ
ド、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキ
シ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−
２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、２．
２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒ
ドロキシシクロへキシルフェニルケトン等を使用するこ
とができる。これらの光増感剤は、樹脂組成物に対して
多くとも５％の量で用いられる。

本発明の樹脂組成物に、必要に応じて黄変防止剤、レベ
リング剤、紫外線吸収剤を重合硬化を防げない範囲で添
加することができる。

実施例１ ２枚の板ガラスとスペーサとからなるガラス鋳型を用意
し、この鋳型中にＡ成分として次の化学式（Ｉ） のポリブタジェンメタアクリレート（分子量２０００）
および２重部の１−　（４−イソプロピルフェニル）−
２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンを添加
、混合した第１表ＮＯＩ〜Ｎ０３の各種樹脂組成物を注
入し、８０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて周囲から紫外線
を照射した。３０秒間硬化した後、離型し、厚さ１．２
ｆｉ、直径３０ｃｍの均一な厚みの基板を得た。この基
板を用いて、以下（１１〜（４）の特性を測定したとこ
ろ第１表の結果を得た。

（１）吸水率：１００℃の水中に４時間放置し、ＪＩＳ
−に６９１１に準じて求めた。

（２）耐軌温度ｎ　ＤＭＡ法によりガラス転移温度を”
を 測定した。

（３）光学特性：厚さ１．２ｆｌの樹脂板に８３０ｎｍ
の光をあて、光透過率を分光光度計で求めた。

又８３０ｎｍの光をあてて複屈折率を求めて、リターデ
ーションも測定した。

（４）表面硬度：鉛筆硬度を求めた。

（以下余白） ヤ　Ｉ　ム ＩＢＸ：イソポニルメタアクリレト ＴＭＰＴＡ：　トリメチロールプロパントリアクリレー
トＢＡＥＭＡ：ビスフェノールＡエポキシメタアクリレ
ートＨＤＤＭＡ：ヘキサンジョオールジメタアクリレー
トＤＰＨＭＡニジペンタエリスリトールへキサメタアク
リレートＴＭＰ（ＰＯ）ＴＡ：　）リメチロールプロパ
ンプロピオオキシトリアクリレート１８９−１゜ 第１表かられかるように、本発明の基板はポリメチルメ
タアクリレートの基板に比較し、吸水率が小さく、耐熱
温度が高い。また、ポリカーボネートの基板との比較で
は、リクーデーションおよび表面硬度に優れている。

実施例２ 溝状パターン付Ｎｉ製スタンパに対して、離型剤を塗布
したガラス板を向かい合わせに配置し、両者の間に１．
２　ｍの空間を設けて樹脂注入型を形成した。

この型の中に、実施例１で示された第１表Ｎ。

１〜ＮＯ３の各樹脂を注入し、８０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯
を用いて、３０秒間ガラス板から紫外線を照射し、樹脂
を硬化させ、溝状パターン付基板を得た。

溝付の透明基板面にＴｅ系記録膜を約３０μｍ厚さに蒸
着した後、基板全体を１００°Ｃ１時間の雰囲気にさら
し、記録膜の結晶化を行なって、光ディスク記録媒体を
作成した。得られた光ディスク記録媒体は、情報出力時
の出力レベルは良好であり、かつ基板に反りが生じなか
った。

実施例３　　　　　゛ 離型剤を塗布した溝状パターン・付ガラス製スタンバに
対して離型剤を塗布したガラス板を用い、実施例２の要
領で樹脂注入型を用意した。さらに、この型の中に、実
施例１で示された第１表ＮＯ１〜Ｎ○３の各樹脂を注入
した。８０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、紫外線をガラ
ス板側から１５秒間照射し、次にスタンパ側から紫外線
を１５秒間照射して、樹脂を硬化せしめた。得られた溝
付パターン付基板に実施例２と同一処理を施し光ディス
ク記録媒体を作製した。

得られた光ディスク記録媒体に反りは見られず、又、情
報の書き込み、読み出しを円滑に行うことができた。

（発明の効果） 本発明の光ディスク基板は、光学的歪（複屈折）、吸湿
による反りが少なく、耐熱性、耐水性、耐薬品性、透明
性に優れると共に、光硬化により短時間で成形出来るの
でその製造の生産性が高められる。

さらに、スペーサーで所定の間隔を保つガラス板とスタ
ンパとの間に樹脂組成物を注入し紫外線等を照射し光硬
化させ光ディスク基板を製造し得るのでその製造の生産
性が著しく高められる。

・、′°す Δ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、Ａ：一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中ＲはＨ、ＣＨ＿３を示し、ｎは１０〜３０）で示
   される重合性化合物と、 Ｂ：光重合可能なアクリレートモノマー、オリゴマー、
   ビニル基含有モノマー、 とより成る樹脂組成物を所定の形状に光硬化させて成る
   光ディスク基板。 ２、樹脂組成物を、スペーサーで所定の間隔を保つガラ
   ス板とスタンパとの間に注入し紫外線を照射し光硬化さ
   せて成る特許請求の範囲第１項記載の光ディスク基板。